【技术实现步骤摘要】
一种对乙酰氧基苯乙烯的合成方法
本专利技术涉及一种对乙酰氧基苯乙烯的合成方法，具体涉及一种制备248nm光刻胶单体的对乙酰氧基苯乙烯的新制备方法。
技术介绍
光刻胶，又称光致抗蚀剂，指通过紫外光、电子束、粒子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀薄膜材料。光刻胶是微电子制造中完成光刻工艺的关键性材料，它决定着微电子技术的发展水平。1984年IBM发现使用光致酸发生剂，能使聚合物链憎水性保护基脱落，并且分解，使其溶于碱水中，大大提高了光效率并且能获得线宽更小的光刻胶，即为深紫外光刻胶。248nm光刻胶属于深紫外光刻胶，它的基本结构单元为对羟基苯乙烯。结构如式所示：目前对羟基苯乙烯的合成路线主要由两种，宋国强报道了一种由对羟基苯甲醛为起始原料合成对羟基苯乙烯的方法，原料简单易得，反应步骤较短但是三废严重。Sovish报道了一种对宋国强路线改进方法，对羟基苯甲醛在有机碱吡啶和少量苯胺的存在下，与丙二酸反应得到对羟基肉桂酸，以甲醇和水重结晶，产品收率41%。在约225°C下，使对羟基...
【技术保护点】
1.一种对乙酰氧基苯乙烯的合成方法，其特征在于以对乙酰氧基苯乙醇为原料，加入溶剂中，以固体酸作为催化剂，在阻聚剂存在下经一锅煮法制得对乙酰基苯乙烯，其反应式如下：/n
【技术特征摘要】
1.一种对乙酰氧基苯乙烯的合成方法，其特征在于以对乙酰氧基苯乙醇为原料，加入溶剂中，以固体酸作为催化剂，在阻聚剂存在下经一锅煮法制得对乙酰基苯乙烯，其反应式如下：
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2.根据权利要求1所述的一种对乙酰氧基苯乙烯的合成方法，其特征在于固体酸为Hβ、H-ZSM-5、Y沸石、H3PW12O40、Nafion-H、MCM-41、Al-MCM-41、酸性氧化铝或蒙脱土，优选为Hβ分子筛。
3.根据权利要求1所述的一种对乙酰氧基苯乙烯的合成方法，其特征在于阻聚剂为对叔丁基邻苯二酚，阻聚剂的质量为对乙酰氧基苯乙醇质量的0.5-1.5%，优选为1%。
4.根据权利要求1所述的一种对乙酰氧基苯...
【专利技术属性】
技术研发人员：蒋绍亮，范跃镔，韩亮，张蓉娟，
申请(专利权)人：浙江工业大学，
类型：发明
国别省市：浙江;33
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