纳米掩膜材料去除生产线及其生产工艺制造技术

技术编号:23966600 阅读:40 留言:0更新日期:2020-04-29 06:11
本发明专利技术涉及特殊材料去除技术领域,公开了一种纳米掩膜材料去除生产线及其生产工艺,其生产工艺包括以下步骤:将操作平台浸入水槽的水中;控制进料运输机构将导电结构板运输到操作平台上,导电结构板包括从内到外依次层叠设置的基板、导电膜及纳米掩膜材料;在操作平台开设多个通孔,控制真空吸附装置抽取多个通孔内的气体,以将导电结构板吸附固定在操作平台上;控制传送位移组件驱动擦除工具在导电结构板外表面进行擦拭操作,以去除纳米掩膜材料。本发明专利技术能够连续式、规模化地去除纳米掩膜材料,能够提高去除纳米掩膜材料的高效性,能够在去除纳米掩膜材料的过程中避免导电结构板外表面受到损伤。

Nanomask material removal line and its production process

【技术实现步骤摘要】
纳米掩膜材料去除生产线及其生产工艺
本专利技术涉及特殊材料去除
,特别是涉及一种纳米掩膜材料去除生产线及其生产工艺。
技术介绍
近年来,采用纳米掩膜材料来制备光电纳米结构材料被广泛关注和应用,在高校科研领域、透明导电膜、太阳能电池、传感器、表面增强拉曼、触控显示、汽车透明加热、智能变色窗户等诸多领域均具有极大的潜在应用前景,总市场市值将达到1000亿美金以上,那么意味着该技术后续有存在被规模化应用的前景。导电结构板包括从内到外依次层叠设置的基板、导电膜及纳米掩膜材料,纳米掩膜材料由沉积在导电膜外表面的多个纳/微米球构成。这种技术是通过去除导电结构板外表面的纳米掩膜材料,来得到绒面导电结构板。例如,核心专利技术专利(CN201110141276.8)实现了大面积利用聚苯乙烯微球、二氧化硅微球来制备透明导电膜的纳米掩膜材料,通过超声去除沉积在透明导电膜表面的纳/微米球,得到太阳能电池专用绒面导电玻璃。基于专利技术(CN201110141276.8)已经可覆盖86寸及其以下所有尺寸产品对应的规模化生产,但是缺乏对该技术中用到的纳米掩膜材料进行去除的规模化生产线,导致产品的规模化生产受到很大影响。上述提到的超声去除技术比较适合于小面积、上面覆膜比较薄的导电结构板,对于大面积或上面覆膜比较厚的导电结构板,局限性较大,且会震动破坏其膜层结构。而技术专利(CN206689077U)公开的纳米掩膜材料擦拭装置及其自动擦拭系统,可以替代超声去除设备来实现对纳米掩膜材料的自动去除,可以适用于面积较大、覆膜较厚的导电结构板,也不会破坏导电结构板的膜层结构,且相对于人工擦拭技术,效率较高,防刮效果较好;但是,无法实现纳米掩膜材料去除的连续式、规模化生产,无法匹配专利技术(CN201110141276.8)中对应的要求,例如,无法实现对导电结构板的自动进料及送料;例如,在去除纳米掩膜材料的过程中,无法实现对产品的自动固定与释放;等等。由于导电结构板外表面是较为脆弱的第一导电膜和纳米掩膜材料,如何在提高去除纳米掩膜材料的高效性的同时,能够在去除纳米掩膜材料的过程中避免导电结构板外表面受到损伤,是目前纳米掩膜材料去除工艺的重要问题和解决趋势。
技术实现思路
本专利技术的目的是克服现有技术中的不足之处,提供一种连续式和规模化生产的纳米掩膜材料去除生产线及其生产工艺,能够提高去除纳米掩膜材料的高效性,同时能够在去除纳米掩膜材料的过程中避免导电结构板外表面受到损伤。本专利技术的目的是通过以下技术方案来实现的:一种纳米掩膜材料去除生产线的生产工艺,包括以下步骤:将操作平台浸入水槽的水中;控制进料运输机构将导电结构板运输到所述操作平台上,所述导电结构板包括从内到外依次层叠设置的基板、导电膜及纳米掩膜材料;在所述操作平台开设多个通孔,控制真空吸附装置抽取多个所述通孔内的气体,以将所述导电结构板吸附固定在所述操作平台上;控制传送位移组件驱动擦除工具在所述导电结构板外表面进行擦拭操作,以去除所述纳米掩膜材料,得到绒面导电结构板。在其中一种实施方式,在得到所述绒面导电结构板的操作之后,还控制空气压缩装置向多个所述通孔内释放压缩空气,以减轻水对所述绒面导电结构板的阻力;控制出料运输机构运送所述绒面导电结构板离开所述操作平台。在其中一种实施方式,所述进料运输机构包括移载运输位移组件及升降运输位移组件,所述操作平台开设有沟槽,所述升降运输位移组件嵌入所述沟槽内,所述移载运输位移组件设置于所述操作平台的邻近位置处,所述控制进料运输机构将导电结构板运输到所述操作平台上的操作具体为:控制所述移载运输位移组件带动所述导电结构板做上升运动,控制所述升降运输位移组件做同步上升运动,控制所述移载运输位移组件带动所述导电结构板向靠近所述升降运输位移组件的方向运动,以将所述导电结构板运输到所述升降运输位移组件上,控制所述升降运输位移组件带动所述导电结构板做下降运动,以将所述导电结构板运输到所述操作平台上。在其中一种实施方式,所述进料运输机构还包括X轴运输位移组件、XY轴运输位移组件及Y轴运输位移组件,所述Y轴运输位移组件设置于所述移载运输位移组件的邻近位置处,所述XY轴运输位移组件设置于所述Y轴运输位移组件的邻近位置处,所述X轴运输位移组件设置于所述XY轴运输位移组件的邻近位置处,在控制所述移载运输位移组件带动所述导电结构板做上升运动的操作之前,还控制X轴运输位移组件带动所述导电结构板向靠近所述XY轴运输位移组件的方向运动,以将所述导电结构板运输到所述XY轴运输位移组件上;控制所述XY轴运输位移组件带动所述导电结构板向靠近所述Y轴运输位移组件的方向运动,以将所述导电结构板运输到所述Y轴运输位移组件上;控制所述Y轴运输位移组件带动所述导电结构板向靠近所述移载运输位移组件的方向运动,以将所述导电结构板运输到所述移载运输位移组件上。在其中一种实施方式,所述XY轴运输位移组件包括X轴运输位移装置及Y轴运输位移装置,所述X轴运输位移装置设置于所述X轴运输位移组件与所述Y轴运输位移组件之间,所述Y轴运输位移装置滑动连接在所述X轴运输位移装置上,所述控制所述XY轴运输位移组件带动所述导电结构板向靠近所述Y轴运输位移组件的方向运动的操作具体为:控制所述X轴运输位移装置带动所述导电结构板在X轴做直线位移运动,控制所述Y轴运输位移装置带动所述导电结构板在Y轴做直线位移运动。在其中一种实施方式,所述传送位移组件包括X轴位移模组、Y轴位移模组及Z轴位移模组,所述擦除工具设置于所述Z轴位移模组上,所述Z轴位移模组滑动连接在所述Y轴位移模组上,所述Y轴位移模组滑动连接在所述X轴位移模组上,所述X轴位移模组设置于所述操作平台的上方,所述控制传送位移组件驱动擦除工具在所述导电结构板外表面进行擦拭操作的操作具体为:控制所述X轴位移模组带动所述擦除工具向靠近所述操作平台的方向运动,以将所述擦除工具运输到所述操作平台的位置处;控制所述Z轴位移模组带动所述擦除工具做下降运动,以使所述擦除工具与所述导电结构板接触;控制所述Y轴位移模组驱动所述擦除工具在Y轴做往复位移运动,以使所述擦除工具在Y轴对所述导电结构板外表面进行擦拭操作。在其中一种实施方式,所述擦除工具的中间10mm~30mm宽幅的区域比两侧高出5mm~10mm。在其中一种实施方式,多个所述通孔均匀间隔设置于所述操作平台上,每个所述通孔分别包括相连通的上孔及下孔,所述上孔的直径为1.0mm~1.5mm,所述下孔的直径为6mm~8mm。在其中一种实施方式,所述升降运输位移组件包括放水电机及承载结构,所述放水电机与所述承载结构驱动连接,所述承载结构开设有连接槽,所述移载运输位移组件设置有连接部,所述连接部用于衔接插入所述连接槽内。一种纳米掩膜材料去除生产线,包括:吸固承载机构,所述吸固承载机构包括水槽、操作平台及真空吸附装置,所述操作平台设置于所述水槽内,所述操作平台设置有多个通孔,所述真空吸附装置设置于所述操作平台的下方,所述真空吸附装置的进气端与多本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种纳米掩膜材料去除生产线的生产工艺,其特征在于,包括以下步骤:/n将操作平台浸入水槽的水中;/n控制进料运输机构将导电结构板运输到所述操作平台上,所述导电结构板包括从内到外依次层叠设置的基板、导电膜及纳米掩膜材料;/n在所述操作平台开设多个通孔,控制真空吸附装置抽取多个所述通孔内的气体,以将所述导电结构板吸附固定在所述操作平台上;/n控制传送位移组件驱动擦除工具在所述导电结构板外表面进行擦拭操作,以去除所述纳米掩膜材料,得到绒面导电结构板。/n

【技术特征摘要】
1.一种纳米掩膜材料去除生产线的生产工艺,其特征在于,包括以下步骤:
将操作平台浸入水槽的水中;
控制进料运输机构将导电结构板运输到所述操作平台上,所述导电结构板包括从内到外依次层叠设置的基板、导电膜及纳米掩膜材料;
在所述操作平台开设多个通孔,控制真空吸附装置抽取多个所述通孔内的气体,以将所述导电结构板吸附固定在所述操作平台上;
控制传送位移组件驱动擦除工具在所述导电结构板外表面进行擦拭操作,以去除所述纳米掩膜材料,得到绒面导电结构板。


2.根据权利要求1所述的纳米掩膜材料去除生产线的生产工艺,其特征在于,在得到所述绒面导电结构板的操作之后,还控制空气压缩装置向多个所述通孔内释放压缩空气,以减轻水对所述绒面导电结构板的阻力;控制出料运输机构运送所述绒面导电结构板离开所述操作平台。


3.根据权利要求2所述的纳米掩膜材料去除生产线的生产工艺,其特征在于,所述进料运输机构包括移载运输位移组件及升降运输位移组件,所述操作平台开设有沟槽,所述升降运输位移组件嵌入所述沟槽内,所述移载运输位移组件设置于所述操作平台的邻近位置处,所述控制进料运输机构将导电结构板运输到所述操作平台上的操作具体为:控制所述移载运输位移组件带动所述导电结构板做上升运动,控制所述升降运输位移组件做同步上升运动,控制所述移载运输位移组件带动所述导电结构板向靠近所述升降运输位移组件的方向运动,以将所述导电结构板运输到所述升降运输位移组件上,控制所述升降运输位移组件带动所述导电结构板做下降运动,以将所述导电结构板运输到所述操作平台上。


4.根据权利要求3所述的纳米掩膜材料去除生产线的生产工艺,其特征在于,所述进料运输机构还包括X轴运输位移组件、XY轴运输位移组件及Y轴运输位移组件,所述Y轴运输位移组件设置于所述移载运输位移组件的邻近位置处,所述XY轴运输位移组件设置于所述Y轴运输位移组件的邻近位置处,所述X轴运输位移组件设置于所述XY轴运输位移组件的邻近位置处,在控制所述移载运输位移组件带动所述导电结构板做上升运动的操作之前,还控制X轴运输位移组件带动所述导电结构板向靠近所述XY轴运输位移组件的方向运动,以将所述导电结构板运输到所述XY轴运输位移组件上;控制所述XY轴运输位移组件带动所述导电结构板向靠近所述Y轴运输位移组件的方向运动,以将所述导电结构板运输到所述Y轴运输位移组件上;控制所述Y轴运输位移组件带动所述导电结构板向靠近所述移载运输位移组件的方向运动,以将所述导电结构板运输到所述移载运输位移组件上。


5.根据权利要求4所述的纳米掩膜材料去除生产线的生产工艺,其特征在于,所述XY轴运输位移组件包括X轴运输位移装置及Y轴运输位移装置,所述X轴运输位移装置设置于所述X轴运输位移组件与所述Y轴运输位移...

【专利技术属性】
技术研发人员:林清耿武圣彬杨文达王洋
申请(专利权)人:惠州易晖光电材料股份有限公司
类型:发明
国别省市:广东;44

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