一种整合光源的光学系统技术方案

本实用新型专利技术提供了一种整合光源的光学系统，其包括至少一第一光源、至少一第二光源和至少一匀光装置，所述匀光装置包括第一横向匀光棒、第二横向匀光棒和纵向匀光棒，所述第一横向匀光棒和所述第二横向匀光棒相对设置，所述第一横向光源和所述第二横向光源的反射面彼此相接，所述第一光源的光线经所述第一横向匀光棒的反射面反射至所述纵向匀光棒，所述第二光源的光线通过所述第二横向匀光棒的反射面反射至所述纵向匀光棒，所述第一光源和所述第二光源的光线在所述纵向匀光棒中整合。上述光学系统的使用提高了匀光装置的出射总功率，增大均匀出射面面积，改善出射面照明均匀性，同时，提高光源的兼容性。

An optical system integrating light source

【技术实现步骤摘要】
一种整合光源的光学系统
本专利技术涉及一种光学系统，特别是一种应用于多光源的光学系统。
技术介绍
激光直写式曝光是用于在衬底表面上印刷具有特征的构图，相比于传统的掩膜版和菲林底片等曝光的影像直接转移技术，直写式曝光技术产能高，对位精度高。在半导体及PCB生产领域有着非常重要的作用。在激光直写式曝光系统中，光源的光波长以及光强度将直接影响曝光的效果，通常希望通过更高的光强度获得更好的曝光效果。为了实现上述目的，通常选用两个光源耦合进入方棒，进行匀光，但是，目前的实施方案中，所述匀光装置通常包括多个透镜构成透镜组对进入的光线进行耦合匀光。其装置复杂，并且仅能够应于采用两个相同光源的情况。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是一种简单的整合多光源的光学系统。为了解决上述问题，本专利技术提供了一种整合光源的光学系统，其包括至少一第一光源、至少一第二光源和至少一匀光装置，所述第一光源和所述第二光源通过所述匀光装置进行整合匀光，所述匀光装置包括第一横向匀光棒、第二横向匀光棒和纵向匀光棒，所述第一横向匀光棒和所述第本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种整合光源的光学系统，其包括至少一第一光源、至少一第二光源和至少一匀光装置，所述第一光源和所述第二光源通过所述匀光装置进行整合匀光，其特征在于：所述匀光装置包括第一横向匀光棒、第二横向匀光棒和纵向匀光棒，所述第一横向匀光棒和所述第二横向匀光棒相对设置，所述纵向匀光棒垂直于所述第一横向匀光棒和所述第二横向匀光棒，所述第一横向匀光棒和所述第二横向匀光棒均具有入射面、反射面和出射面，所述第一横向光源和所述第二横向光源的反射面彼此相接，所述第一光源的光线经所述第一横向匀光棒的反射面反射至所述纵向匀光棒，所述第二光源的光线通过所述第二横向匀光棒的反射面反射至所述纵向匀光棒，所述第一光源和所述第二光...

【技术特征摘要】
1.一种整合光源的光学系统，其包括至少一第一光源、至少一第二光源和至少一匀光装置，所述第一光源和所述第二光源通过所述匀光装置进行整合匀光，其特征在于：所述匀光装置包括第一横向匀光棒、第二横向匀光棒和纵向匀光棒，所述第一横向匀光棒和所述第二横向匀光棒相对设置，所述纵向匀光棒垂直于所述第一横向匀光棒和所述第二横向匀光棒，所述第一横向匀光棒和所述第二横向匀光棒均具有入射面、反射面和出射面，所述第一横向光源和所述第二横向光源的反射面彼此相接，所述第一光源的光线经所述第一横向匀光棒的反射面反射至所述纵向匀光棒，所述第二光源的光线通过所述第二横向匀光棒的反射面反射至所述纵向匀光棒，所述第一光源和所述第二光源的光线在所述纵向匀光棒中整合。


2.根据权利要求1所述的光学系统，其特征在于：所述反射面与所述入射面的角度为45°。


3.根据权利要求1所述的光学系统，其特征在于：所述第一横向匀光棒、所述第二横向匀光棒和所述纵向匀光棒一体成型。


4.根据权利要求1所述的光学系统，其特征在于：所述第一横向...

【专利技术属性】
技术研发人员：张柯，李伟成，张雷，
申请(专利权)人：苏州源卓光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32