一种高分子材料生产用的自清洁冷却槽制造技术

本发明专利技术涉及冷却槽技术领域，具体为一种高分子材料生产用的自清洁冷却槽，包括清洗槽体和清洗装置，清洗槽体通过两侧设置的导轴连接清洗装置，清洗装置包括清洗辊支架和一对清洗辊，有益效果：本发明专利技术通过控制第一电机工作驱动螺杆进行转动，从而控制清洗辊支架沿导轴的轴向进行移动，从而能够使得一对清洗辊对清洗槽体的内壁进行全面的清洗，设置的清洗辊数目少，便于维修维护，通过控制气泵进行工作，对清洗辊芯内部通入空气，空气沿清洗辊芯外壁的鼓气孔导出，气体沿鼓气孔鼓出时，有效将毛刷清洗层中粘黏的杂质携带出，防止杂质粘黏在毛刷清洗层中影响清洁效果。

A self cleaning cooling tank for polymer production

【技术实现步骤摘要】
一种高分子材料生产用的自清洁冷却槽
本专利技术涉及冷却槽
，具体为一种高分子材料生产用的自清洁冷却槽。
技术介绍
高分子材料经过加热融化后通过模具制成需要的加工产品，成型后的高分子材料产品需要放入冷却槽内进行冷却固定。冷却槽在长时间使用后，通常需要人工定期对冷却槽内壁进行清理，较为麻烦。对比申请号CN201821130310.5的中国专利，公开了一种高分子材料生产用自清洗型冷却槽，其在清洗辊架上通过轴承活动连接有两组清洗辊，并且同组清洗辊通过电机带动带轮相互传动实现同步旋转，从而实现对高分子材料的两侧清洗，但是其不足处为：其所设置的清洗辊数目较多，增加了维修和维护的成本，而且被刮落清洗后的杂质容易沾染在清洗辊外壁设置的清洗层中，降低了清洗辊的清洗效果。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种高分子材料生产用的自清洁冷却槽，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种高分子材料生产用的自清洁冷却槽，包括清洗槽体和清洗装置，所述清洗槽体的底部设置有支撑柱，清洗槽体两端本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高分子材料生产用的自清洁冷却槽，包括清洗槽体（1）和清洗装置（6），其特征在于：所述清洗槽体（1）的底部设置有支撑柱（101），清洗槽体（1）两端的两侧焊接有轴座（3），且沿清洗槽体（1）长度方向同一侧的两个轴座（3）之间连接有导轴（4），清洗槽体（1）通过两侧设置的导轴（4）连接清洗装置（6），所述清洗装置（6）包括清洗辊支架和一对清洗辊（9），清洗辊支架包括一对侧支架（7）以及连接两个侧支架（7）的两个横梁（8），两个侧支架（7）的内侧壁均设有滑座（71），且侧支架（7）与导轴（4）滑动连接，沿清洗槽体（1）长度方向同一侧的两个轴座（3）之间转动连接有螺杆（5），且螺杆（5）与滑座...

【技术特征摘要】
1.一种高分子材料生产用的自清洁冷却槽，包括清洗槽体（1）和清洗装置（6），其特征在于：所述清洗槽体（1）的底部设置有支撑柱（101），清洗槽体（1）两端的两侧焊接有轴座（3），且沿清洗槽体（1）长度方向同一侧的两个轴座（3）之间连接有导轴（4），清洗槽体（1）通过两侧设置的导轴（4）连接清洗装置（6），所述清洗装置（6）包括清洗辊支架和一对清洗辊（9），清洗辊支架包括一对侧支架（7）以及连接两个侧支架（7）的两个横梁（8），两个侧支架（7）的内侧壁均设有滑座（71），且侧支架（7）与导轴（4）滑动连接，沿清洗槽体（1）长度方向同一侧的两个轴座（3）之间转动连接有螺杆（5），且螺杆（5）与滑座（71）相螺接，螺杆（5）的一端与第一电机（10）的输出轴联接，第一电机（10）通过螺栓固定在轴座（3）的外侧壁，设置在下方的横梁（8）的两侧分别设置有一根清洗辊（9）。


2.根据权利要求1所述的一种高分子材料生产用的自清洁冷却槽，其特征在于：所述清洗辊（9）包括清洗辊芯（18）、焊接在清洗辊芯（18）上端的第一电机（10）以及包裹固定在清洗辊芯（18）外壁的毛刷清洗层（20），两根清洗辊（9）中所设的毛刷清洗层（20）分别紧贴清洗槽体（1）的两侧内壁设置，辊芯转轴（19）垂直贯穿设置在下方的横梁（8），且辊芯转轴（19）与横梁（8）转动连接。


3.根据权利要求2所述的一种高分子材料生产用的自清洁冷却槽，其特征在于：所述横梁（8）的上表面中部通过螺栓固定有第二电机（11），第二电机（11）的输出轴向下垂直贯穿横梁（8），且第二电机（11）的输出轴外壁固定有两个驱动皮带轮，两根...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨春萌，
申请(专利权)人：杨春萌，
类型：发明
国别省市：福建;35