导气垫圈制造技术

本实用新型专利技术提供一种导气垫圈，属于专用于制造传感器的设备技术领域，其中，导气垫圈为环形结构，包括：垫圈本体，为环形结构，具有上、下两个结合面；导气凹槽，设置在所述垫圈本体的至少一个所述结合面上，所述导气凹槽连通所述垫圈本体的内外两侧；本实用新型专利技术的导气垫圈，在使用时，通过导气凹槽将垫圈本体的内外两侧连通，在不改变垫圈本体原来厚度的前提下，使垫圈本体内圈的空气在抽真空时，能够快速高效的排出，从而避免气体陷入在环形垫圈的内部，提高传感器在超高真空排气时的排气效率和排气效果。

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【技术实现步骤摘要】
导气垫圈
本技术涉及专用于制造传感器的设备
，具体涉及一种导气垫圈。
技术介绍
压差式传感器由上电极、绝缘体和下电极等等多个组件构成。当电极受压力作用时，受力电极会发生一定的变形，因此，上下电极之间的距离发生一定的变化，从而使探测信号发生变化。压差式传感器制备过程中，为了调控压差两电极之间的距离。通常通过更换一个或者多个不同厚度的硬材质调距垫圈，目的是限定极小压差探测信号的测试范围。然而，由于压差式传感器内部配件的加工精度和平整度要求极高，采用现有的调距垫圈进行调节间距时，容易阻碍两电极之间的气体流动，影响传感器的排气效率，甚至将气体陷入在微小空间内，直接影响传感器寿命。
技术实现思路
因此，本技术的目的在于提供一种导气垫圈，用以解决现有技术中的压差式传感器排气封接时间长，封接后残余气体多的问题。为了解决上述技术问题，本技术提供一种导气垫圈，包括：垫圈本体，为环形结构，具有上、下两个结合面；导气凹槽，设置在所述垫圈本体的至少一个所述结合面上，所述导气凹槽连通所述垫圈本体的内外两侧。作为一种优选方案，所述垫圈本体的上、下两个结合面上均设置有所述导气凹槽。作为一种优选方案，所述导气凹槽为正弦曲线形。作为一种优选方案，所述导气凹槽在所述结合面上具有相互交叉的两条。作为一种优选方案，还包括：导气缝隙，设置在所述垫圈本体的被所述导气凹槽围绕的支撑台阶的端面上，所述导气缝隙的两端分别连通所述导气凹槽。作为一种优选方案，所述导气缝隙在所述支撑台阶的端面上具有两条，两条所述导气缝隙以十字交叉形式连接。作为一种优选方案，所述导气缝隙的宽度为0.1～1mm。作为一种优选方案，所述垫圈本体的厚度为0.05～0.35mm。作为一种优选方案，所述导气凹槽的深度为0.01～0.1mm。本技术提供的导气垫圈的制造方法，包括以下步骤：根据厚度需求选择垫圈本体；设置导气凹槽，在垫圈本体的结合面上，采用激光、电子束、化学腐蚀或电化学腐蚀的方法，设置导气凹槽，以使垫圈本体的内外两侧连通；设置导气缝隙，在垫圈本体的结合面上，在被所述导气凹槽围绕的支撑台阶的端面上，以激光、电子束、化学腐蚀或电化学腐蚀的方法设置至少一条导气缝隙，以使所述导气缝隙的两端与所述导气凹槽和/或所述垫圈本体的内外两侧连通。本技术技术方案，具有如下优点：1.本技术提供的导气垫圈，在使用时，通过导气凹槽将垫圈本体的内外两侧连通，在不改变垫圈本体原来厚度的前提下，使垫圈本体内圈的空气在抽真空时，能够快速高效的排出，从而避免气体陷入在环形垫圈的内部，提高传感器在超高真空排气时的排气效率和排气效果。2.本技术提供的导气垫圈，在支撑台阶的端部上设置的导气缝隙，能够将支撑台阶的端部的空气排出，在多个垫圈堆叠使用时，不会使气体陷入支撑台阶的端部微小空间内，保证了传感器的排气效果，从而可提高传感器的质量。3.本技术提供的导气垫圈的制造方法，在选取好垫圈本体的厚度后，再进行导气凹槽的制作，不仅不会改变垫圈本体的厚度，而且设置方法简单，可保证支撑台阶所在位置的环形垫圈的厚度不变，保证了垫圈的原有应用范围；然后，通过在支撑台阶的支撑端面上设置导气缝隙，可进一步地将支撑台阶的支撑端面处的气体进行导出，便于堆叠使用导气垫圈时，对传感器进行抽真空。附图说明为了更清楚地说明本技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术的实施方式中提供的导气垫圈的立体结构示意图。图2为图1中A区域的放大图。图3为导气垫圈的部分结构的主视图。图4为图3的俯视图。图5为多组导气垫圈进行堆叠的使用状态立体结构示意图。图6为图5中B区域的放大图。附图标记说明：1、垫圈本体；2、导气凹槽；3、支撑台阶；4、导气缝隙。具体实施方式下面将结合附图对本技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。在本技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。此外，下面所描述的本技术不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。实施例1本实施例提供一种导气垫圈的具体实施方式，如图1、图2所示，本实施方式的垫圈本体1为常规的环形结构垫圈，通过激光在垫圈本体1的上下两个结合面上均设置有导气凹槽2，所述导气凹槽2具有两条，为相互交叉的正弦曲线形状，通过所述导气凹槽2用于连通垫圈本体1的内外两侧，使垫圈本体1的内侧空气可以在抽真空时被及时抽出。在被导气凹槽2围绕的支撑台阶3的端面上，还设置有两条导气缝隙4，所述导气缝隙4成十字交叉设置，其中一条导气缝隙4连通垫圈本体1的内外两侧，另一条导气缝隙4连通支撑台阶3两侧的导气凹槽2；通过所述导气缝隙4，用于使支撑台阶3的端面处的空气可以在抽真空时被及时抽出。为了实现对传感器两电极之间的距离的精确调节，本实施例的垫圈本体1采用的材质为硬质材料，具体可采用陶瓷、玻璃、合金、金属、电木等。如图3、图4所示，关于垫圈本体1的厚度h1，其可选用的范围为0.05～0.35mm；关于导气凹槽2的深度h2，其可选用的范围为0.01～0.1mm。关于导气缝隙4的宽度d，其可选用的范围为0.1～1mm。以上具体数值，可根据实际需要进行选择使用，如在本实施例中，选用垫圈本体1的厚度h1为0.35mm，导气凹槽2的深度h2为0.04mm，导气凹槽2的宽度d为1mm。如图5、图6所示，在使用时，根据需要可将垫圈本体1依次堆叠，堆叠时使两片垫圈本体1之间通过支撑台阶3进行支撑。这样，在传感器进行排气时，在相邻两本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.导气垫圈，其特征在于，包括：/n垫圈本体(1)，为环形结构，具有上、下两个结合面；/n导气凹槽(2)，设置在所述垫圈本体(1)的至少一个所述结合面上，所述导气凹槽(2)连通所述垫圈本体(1)的内外两侧。/n

【技术特征摘要】
1.导气垫圈，其特征在于，包括：
垫圈本体(1)，为环形结构，具有上、下两个结合面；
导气凹槽(2)，设置在所述垫圈本体(1)的至少一个所述结合面上，所述导气凹槽(2)连通所述垫圈本体(1)的内外两侧。


2.根据权利要求1所述的导气垫圈，其特征在于，所述垫圈本体(1)的上、下两个结合面上均设置有所述导气凹槽(2)。


3.根据权利要求1所述的导气垫圈，其特征在于，所述导气凹槽(2)为正弦曲线形。


4.根据权利要求3所述的导气垫圈，其特征在于，所述导气凹槽(2)在所述结合面上具有相互交叉的两条。


5.根据权利要求1所述的导气垫圈，其特征在于，还包括：
...

【专利技术属性】
技术研发人员：张心强，靳毅，陈林，郜晨希，王迪，林琳，郑旭，远雁，刘瑞琪，李超波，
申请(专利权)人：川北真空科技北京有限公司，中国科学院微电子研究所，
类型：新型
国别省市：北京;11