一种陶瓷抛光防滑蜡、细腻面的防滑防污的全抛釉瓷质砖及其制备方法技术

本发明专利技术公开一种陶瓷抛光防滑蜡、细腻面的防滑防污的全抛釉瓷质砖及其制备方法。所述陶瓷抛光防滑蜡的原料组成包括：以质量百分比计，氟化铵溶液10～20%、氯化钠10～20%、表面活性剂10～20%、果酸活性肽15～30%、水30～50%。

A kind of all glaze ceramic tile with anti slip wax and fine surface and its preparation method

【技术实现步骤摘要】
一种陶瓷抛光防滑蜡、细腻面的防滑防污的全抛釉瓷质砖及其制备方法
本专利技术属于陶瓷建材领域，尤其涉及一种釉面细腻的防滑防污的全抛釉瓷质砖及其制备方法。
技术介绍
随着现在社会的发展，老龄化已经越来越严重，对瓷砖的安全性能要求越来越高，尤其是瓷砖的防滑性能，现在市面上瓷砖的防滑性能与防污或藏污性能两者很难兼具，现在瓷砖的防滑性能普遍采用布施打点釉、高温釉或高温干粒致使烧成后呈现凹凸不平的效果，表面粗糙不够光泽细腻，其次是防污差且容易藏污。市面上生产的抛釉产品表面细腻光滑，防污很好深受用户喜爱，但防滑性能偏低，湿水后防滑性能更是极具下降。目前市场上的抛釉产品因静摩擦系数远远不能达到防滑的要求，干法静摩擦系数在0.4～0.55之间，其湿法静摩擦系数更低，当静摩擦系数大于0.6时，防滑性能达到“安全”的级别。而目前市场上的防滑砖的静摩擦系数在0.65以上，但其对应的湿法静摩擦系数普遍下降0.1～0.3左右，同时釉面凹凸不平，既容易藏污较难清理的现象，针对这些问题研究一种具有表面细腻，防污和防滑性能的产品，可以广泛运用于豪华高档的宾馆旅店、商厦、泳池，浴室，厨房以及家庭公寓等场所。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种陶瓷抛光防滑蜡、细腻面的防滑防污全抛釉瓷质砖及其制备方法。第一方面，本专利技术提供一种陶瓷抛光防滑蜡，所述陶瓷抛光防滑蜡的原料组成包括：以质量百分比计，氟化铵溶液10～20％、氯化钠10～20％、表面活性剂10～20％、果酸活性肽15～30％、水30～50％。>第二方面，本专利技术还提供上述陶瓷抛光防滑蜡在陶瓷砖中的应用。所述陶瓷抛光防滑蜡在陶瓷砖表面的施加量为40～65g/m2，施加时间20～40秒。第三方面，本专利技术提供细腻面的防滑防污全抛釉瓷质砖的制备方法，在抛釉砖的表面依次打磨水性防污蜡、油性防污蜡和上述陶瓷抛光防滑蜡。较佳地，上述细腻面的防滑防污全抛釉瓷质砖的制备方法，包括以下步骤：(1)制作坯体；(2)在坯体上布施面釉；(3)在布施面釉后的坯体表面打印喷墨设计图案；(4)在打印喷墨设计图案后的坯体表面丝网或辊筒印刷布施保护釉；(5)在布施保护釉后的坯体表面布施抛釉；(6)烧成；(7)抛光；(8)在抛光后的坯体表面依次打磨水性防污蜡和油性防污蜡，冲洗，烘干；(9)在烘干后的坯体表面打磨陶瓷抛光防滑蜡；(10)磨边，打包分级。较佳地，所述抛釉的矿物组成包括5～10％的石英；优选地，所述抛釉的的矿物组成包括：以质量百分比计，钾长石18～26％、钠长石20～30％、高岭土4～7％、石英5～10％、煅烧高岭土7～10％、烧滑石8-12％、方解石6-10％、硅灰石5-8％、碳酸钡4～8％、氧化锌4～6.5％。较佳地，所述抛釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：51.0～57.0％、Al2O3：11.0～12.5％、Fe2O3：0～0.4％、TiO2：0～0.2％、CaO：5.6～9.8％、MgO：2.6～3.9％、K2O：2.2～4.0％、Na2O：2.6～4.5％、BaO：3.1～6.6％、ZnO：3.6～5.9％、烧失：6.0～8.6％。较佳地，所述水性防污蜡的原料组成包括：以质量百分比计，纳米二氧化硅颗粒：40～60％、防冻型溶剂0.3～1％、表面活性剂0.5～2％、碱性腐蚀剂0.6～1.5％、有机硅烷偶联剂0.5～1％、水36～56％。较佳地，所述油性防污蜡的原料组成包括：以质量百分比计，纳米二氧化硅颗粒30～40％、防冻型溶剂0.3～1％、表面活性剂0.3～1％、有机硅烷偶联剂0.5～1％、二甲基硅油15～25％、含氢硅油42～55％。较佳地，所述水性防污蜡在陶瓷砖表面的施加量为50～80g/m2，施加时间20～35秒；所述油性防污蜡在陶瓷砖表面的施加量为8～15g/m2，施加时间4～8秒。第四方面，本专利技术还提供上述细腻面的防滑防污全抛釉瓷质砖制备方法获得的防滑防污全抛釉瓷质砖。所述瓷质砖的干法静摩擦系数在0.66以上，湿法静摩擦系数在0.6以上。附图说明图1为本专利技术一实施方式防滑防污的全抛釉瓷质砖的工艺流程图。图2为本专利技术一实施方式所得细腻面的防滑防污的全抛釉瓷质砖的砖面效果图。图3是普通的防滑砖表面粗糙的砖面效果图。具体实施方式以下通过下述实施方式进一步说明本专利技术，应理解，下述实施方式仅用于说明本专利技术，而非限制本专利技术。以下各百分含量如无特别说明均指质量百分含量。在本专利技术未作具体说明的情况下，“陶瓷抛光防滑蜡”也可以称为“防滑蜡”和“防滑蜡水”。“防污蜡”也可以称为“防污蜡水”。在本专利技术未作具体说明的情况下，“施加蜡”也可以称为“打磨蜡”。本专利技术旨在提供一种适用于细腻面抛釉砖的陶瓷抛光防滑蜡。所述陶瓷抛光防滑蜡的原料组成包括：氟化铵溶液、氯化钠、表面活性剂、果酸活性肽、水。一些实施方式中，所述陶瓷抛光防滑蜡的原料组成包括：以质量百分比计，氟化铵溶液10～20％、氯化钠10～20％、表面活性剂10～20％、果酸活性肽15～30％、水30～50％。所述氟化铵溶液可为质量分数30-50％的氟化铵水溶液。本专利技术使用酸性较弱的果酸活性肽和氟化铵溶液作为主要成分，氟离子以氟化铵溶液形式存在与防滑蜡溶液中，果酸活性肽和氟离子(氟化铵在溶液中产生)作用使防滑蜡的pH值为6左右从而呈现偏弱酸性，解决了现有防滑蜡中经常使用强酸腐蚀造成的环保问题、安全问题以及工业生产的废水处理问题。本专利技术所述防滑蜡通过防滑蜡中的氟离子与瓷砖表面的二氧化硅或硅酸盐产生化学反应腐蚀表面，在不影响瓷砖细腻手感的基础上，增加瓷砖表面的干法摩擦系数和湿法摩擦系数，形成防滑效果。一些实施方式中，所述陶瓷抛光防滑蜡在陶瓷砖表面的施加量为40～65g/m2。防滑蜡的施加量过多，则可能把防污蜡中的纳米级二氧化硅腐蚀掉，影响防污效果，施加量过少则影响导致防滑效果不突出。本专利技术还旨在提供一种釉面细腻的防滑防污釉面砖。经烧至后的成品，再抛光后经过水性防污蜡、油性防污蜡和防滑蜡的处理后得到一种细腻且防滑防污的釉面。以下结合图1具体示出本专利技术细腻面的防滑防污全抛釉瓷质砖的制备方法。首先，原料按照常规的坯体加工方式，将粉料压制成型进行干燥，制备干燥坯体。一些实施方式中，可将坯在干燥窑中干燥。例如干燥温度可为150～250℃，干燥时间可为50～80min，干燥坯水分控制在0.45％以内。一些实施方式中，坯体层厚度可为5mm-30mm。然后，在坯体上布施面釉。所述面釉的施加方式可为喷釉。该面釉可为常规的全抛釉产品所用的面釉。所述面釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：50～60％、Al2O3：25～33％、K2O：5～7％、Na2O：2～3％、Fe2O3：0.2～0.45％、TiO2：0～0.2％、CaO：0.5～1.0％、MgO：0.15～0.45％、烧失：4～6％。一些实施方式中，面釉的比重为1.42本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种陶瓷抛光防滑蜡，其特征在于，所述陶瓷抛光防滑蜡的原料组成包括：以质量百分比计，氟化铵溶液10～20%、氯化钠10～20%、表面活性剂10～20%、果酸活性肽15～30%、水30～50%。/n

【技术特征摘要】
1.一种陶瓷抛光防滑蜡，其特征在于，所述陶瓷抛光防滑蜡的原料组成包括：以质量百分比计，氟化铵溶液10～20%、氯化钠10～20%、表面活性剂10～20%、果酸活性肽15～30%、水30～50%。


2.权利要求1所述的陶瓷抛光防滑蜡在陶瓷砖中的应用，其特征在于，所述陶瓷抛光防滑蜡在陶瓷砖表面的施加量为40～65g/m2，施加时间20～40秒。


3.细腻面的防滑防污全抛釉瓷质砖的制备方法，其特征在于，在抛釉砖的表面依次打磨水性防污蜡、油性防污蜡和权利要求1所述的陶瓷抛光防滑蜡。


4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
（1）制作坯体；
（2）在坯体上布施面釉；
（3）在布施面釉后的坯体表面打印喷墨设计图案；
（4）在打印喷墨设计图案后的坯体表面丝网或辊筒印刷布施保护釉；
（5）在布施保护釉后的坯体表面布施抛釉；
（6）烧成；
（7）抛光；
（8）在抛光后的坯体表面依次打磨水性防污蜡和油性防污蜡，冲洗，烘干；
（9）在烘干后的坯体表面打磨陶瓷抛光防滑蜡；
（10）磨边，打包分级。


5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述抛釉的矿物组成包括5～10%的石英；优选地，所述抛釉的的矿物组成包括：以质量百分比计，钾长石18～26%、钠长石20～30%、高岭土4～7%、石英5～10%、煅烧高岭土7～10%、烧滑石8-12%、方解石6-10%、硅灰石5-8%、碳酸钡4～8%、氧化锌4～6.5%。

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【专利技术属性】
技术研发人员：张松竹，尹伟，吴文武，黄玲艳，李万平，陈琴云，周勇，
申请(专利权)人：广东清远蒙娜丽莎建陶有限公司，蒙娜丽莎集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44