用于多个处理构件的附接系统技术方案

一种用于往复式处理装置的适配器组件，其包括主体部分，所述主体部分具有处于其顶部上的至少第一顶部阳附接构件或第一顶部阴附接构件以及处于其底部上的至少第一和第二底部阳附接构件或第一和第二底部阴附接构件。

Attachment system for multiple processing components

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于多个处理构件的附接系统相关申请的交叉引用本申请是2017年7月11日提交的美国专利申请15/647,050的一部分的延续并要求2018年3月27日提交的美国临时申请62/648,810的权益，上述美国申请的全部内容通过引用结合于本文中。
本专利技术总体上涉及一种用于将处理元件附接至往复式处理装置的系统，更具体地，涉及用于将多个处理元件附接至往复式处理装置的适配器。
技术介绍
治疗处理或按摩装置可包括可互换的处理装置。然而，用于更换部件的机构可能很复杂。此外，由于装置的振动，在使用期间部件可能会松动。因此，需要一种克服这些问题的系统。
技术实现思路
根据本专利技术的第一方面，提供了一种用于往复式处理(治疗)装置的适配器组件，该适配器组件包括主体部分，该主体部分包括处于其顶部上的至少第一顶部阳(凸形)附接构件或第一顶部阴(凹形)附接构件以及处于其底部上的至少第一和第二底部阳附接构件或第一和第二底部阴附接构件。在优选实施例中，所述主体部分包括从其延伸的第一和第二臂，并且所述第一底部阳附接构件或第一底部阴附接构件被设置在所述第一臂的远端处，并且所述第二底部阳附接构件或第二底部阴附接构件被设置在所述第二臂的远端处。在优选实施例中，所述主体部分的底部包括从其延伸的第一和第二底部阳附接构件，并且所述主体部分的顶部包括顶部阴附接构件。在优选实施例中，所述主体部分的底部包括从其延伸的第一和第二底部阳附接构件。所述第一阳附接构件包括具有至少第一平坦表面的外表面，并且所述外表面包括限定于其中的第一卡位或从其偏压的第一球之一。所述第二阳附接构件包括具有至少第一平坦表面的外表面，并且所述外表面包括限定于其中的第一卡位或从其偏压的第一球之一。优选地，所述第一阳附接构件的外表面包括限定于其中的第二卡位或从其偏压的第二球之一，并且所述第二阳附接构件的外表面包括限定于其中的第二卡位或从其偏压的第二球之一。在优选实施例中，所述主体部分的顶部包括阴附接构件，所述阴附接构件具有限定于其中的轴凹部，所述轴凹部由包括第一平坦表面的内表面限定。所述内表面包括限定于其中的第一卡位或从其向内偏压的第一球之一。在优选实施例中，所述适配器组件包括连接至其的第一和第二处理构件。优选地，所述第一处理构件包括处于其顶部上的阳附接构件或阴附接构件，该阳附接构件或阴附接构件被连接至所述第一底部阳附接构件或第一底部阴附接构件，并且所述第二处理构件包括处于其顶部上的阳附接构件或阴附接构件，该阳附接构件或阴附接构件被连接至所述第二底部阳附接构件或第二底部阴附接构件。优选地，所述主体部分的顶部包括具有限定于其中的轴凹部的阴附接构件。所述轴凹部由包括第一平坦表面的内表面限定。所述内表面包括限定于其中的第一卡位或从其向内偏压的第一球之一。根据本专利技术的另一方面，提供了一种往复式处理装置，其包括壳体、从所述壳体延伸并且可操作以沿着轴轴线往复运动的轴以及连接至所述轴的远端的适配器组件。所述适配器组件包括主体部分，该主体部分具有处于其底部上的至少第一和第二底部阳附接构件或第一和第二底部阴附接构件。在优选实施例中，所述适配器组件的主体部分包括从其延伸的第一和第二臂，所述第一和第二臂各自具有远端。所述第一底部阳附接构件或第一底部阴附接构件被设置在所述第一臂的远端处，并且所述第二底部阳附接构件或第二底部阴附接构件被设置在所述第二臂的远端处。在优选实施例中，所述适配器组件的主体部分包括处于其顶部上的至少第一顶部阳附接构件或第一顶部阴附接构件，以及处于其底部上的至少第一和第二底部阳附接构件或第一和第二底部阴附接构件。在优选实施例中，所述装置包括连接至所述第一底部阳附接构件或第一阴附接构件的第一处理构件、连接至所述第二底部阳附接构件或第二阴附接构件的第二处理构件。优选地，所述第一处理构件包括处于其顶部上的阳附接构件或阴附接构件。所述第一处理构件的阳附接构件或阴附接构件被连接至所述第一底部阳附接构件或第一底部阴附接构件。所述第二处理构件包括处于其顶部上的阳附接构件或阴附接构件，并且所述第二处理构件的阳附接构件或阴附接构件被连接至所述第二底部阳附接构件或第二底部阴附接构件。根据本专利技术的另一个方面，提供了一种方法，该方法包括：获得往复式处理装置，该往复式处理装置包括壳体和从所述壳体延伸的轴，所述轴可操作以沿着轴轴线往复运动；从所述轴的远端上移除处理构件；获得适配器组件，所述适配器组件包括主体，所述主体具有连接至其的第一和第二处理构件；将所述适配器组件连接至所述轴的远端；以及使用所述往复式处理装置来同时利用所述第一和第二处理构件处理对象。在优选实施例中，所述适配器组件的主体部分具有处于其底部上的至少第一和第二底部阳附接构件或第一和第二底部阴附接构件，并且所述方法包括：将所述第一处理构件连接至所述第一阳或阴附接构件；以及将所述第二处理构件连接至所述第二阳或阴附接构件。优选地，所述适配器组件的主体部分包括处于其顶部上的至少第一顶部阳附接构件或第一顶部阴附接构件。根据本专利技术的另一方面，提供了一种用于将处理构件固定至轴的处理组件，其包括处理构件和阴附接构件。所述处理构件限定纵向轴线，并且具有远端和近端。所述近端包括限定于其中的附接凹部。所述阴附接构件具有远端、近端和限定于所述近端中的轴凹部。所述阴附接构件被固定在所述处理构件的附接凹部中。所述轴凹部由包括第一平坦表面的内表面限定。所述内表面包括限定于其中的第一卡位。当所述轴被接收在所述轴凹部中时，所述第一平坦表面与阳附接构件上的第一相对平坦表面可操作地接合，并且第一球被偏压到所述第一卡位中。优选地，所述第一卡位被限定于所述第一平坦表面中。在优选实施例中，所述内表面包括第二平坦表面和限定于其中的第二卡位。当所述轴被接收在所述轴凹部中时，所述第二平坦表面与所述阳附接构件上的第二相对平坦表面可操作地接合，并且第二球被偏压到所述第二卡位中。优选地，所述第一卡位被限定于所述第一平坦表面中，并且所述第二卡位被限定于所述第二平坦表面中。在优选实施例中，所述阴附接构件的第一和第二平坦表面基本彼此平行。根据本专利技术的另一方面，提供了一种用于将处理构件固定至轴的附接系统。所述附接系统包括所述处理构件、阴附接构件和阳附接构件。所述处理构件限定纵向轴线并且具有远端和近端。所述近端包括限定于其中的附接凹部。所述阴附接构件具有远端、近端和限定于所述近端中的轴凹部。所述阴附接构件被固定在所述处理构件的附接凹部中。所述轴凹部由包括第一平坦表面的内表面限定。所述内表面包括限定于其中的第一卡位或从其偏压的第一球之一。所述阳附接构件被设置在所述轴凹部中，并且包括具有至少第一相对平坦表面的外表面。所述外表面包括限定于其中的第一卡位或从其偏压的第一球中的另一个。所述第一平坦表面与所述第一相对平坦表面可操作地接合，并且所述第一球被偏压至所述第一卡位中。在优选实施例中，所述第一卡位被限定于所述轴凹部的内表面中，并且所述第一球被从所述阳附接构件的外表面向外偏压。优选地，所述第一卡位被限定于所述第一平坦表面中。在优选实施例中，所述阴附接构件的内表面包本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于往复式处理装置的适配器组件，所述适配器组件包括：/n主体部分，所述主体部分包括处于其顶部上的至少第一顶部阳附接构件或第一顶部阴附接构件以及处于其底部上的至少第一和第二底部阳附接构件或第一和第二底部阴附接构件。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170711 US 15/647,050;20180327 US 62/648,8101.一种用于往复式处理装置的适配器组件，所述适配器组件包括：
主体部分，所述主体部分包括处于其顶部上的至少第一顶部阳附接构件或第一顶部阴附接构件以及处于其底部上的至少第一和第二底部阳附接构件或第一和第二底部阴附接构件。


2.根据权利要求1所述的适配器组件，其中，所述主体部分包括从其延伸的第一和第二臂，其中，所述第一和第二臂各自具有远端，其中所述第一底部阳附接构件或第一底部阴附接构件被设置在所述第一臂的远端处，并且其中所述第二底部阳附接构件或第二底部阴附接构件被设置在所述第二臂的远端处。


3.根据权利要求2所述的适配器组件，其中，所述主体部分的底部包括从其延伸的第一和第二底部阳附接构件。


4.根据权利要求3所述的适配器组件，其中，所述主体部分的顶部包括顶部阴附接构件。


5.根据权利要求1所述的适配器组件，其中，所述主体部分的底部包括从其延伸的第一和第二底部阳附接构件，其中所述第一阳附接构件包括具有至少第一平坦表面的外表面，并且其中所述外表面包括限定于其中的第一卡位或从其偏压的第一球之一，其中所述第二阳附接构件包括具有至少第一平坦表面的外表面，并且其中所述外表面包括限定于其中的第一卡位或从其偏压的第一球之一。


6.根据权利要求5所述的适配器组件，其中，所述第一阳附接构件的外表面包括限定于其中的第二卡位或从其偏压的第二球之一，并且其中所述第二阳附接构件的外表面包括限定于其中的第二卡位或从其偏压的第二球之一。


7.根据权利要求1所述的适配器组件，其中，所述主体部分的顶部包括阴附接构件，所述阴附接构件具有限定于其中的轴凹部，其中所述轴凹部由包括第一平坦表面的内表面限定，其中所述内表面包括限定于其中的第一卡位或从其向内偏压的第一球之一。


8.根据权利要求1所述的适配器组件，其至少还包括连接至其的第一和第二处理构件。


9.根据权利要求8所述的适配器组件，其中，所述第一处理构件包括处于其顶部上的阳附接构件或阴附接构件，其中所述第一处理构件的阳附接构件或阴附接构件被连接至所述第一底部阳附接构件或第一底部阴附接构件，其中所述第二处理构件包括处于其顶部上的阳附接构件或阴附接构件，并且其中所述第二处理构件的阳附接构件或阴附接构件被连接至所述第二底部阳附接构件或第二底部阴附接构件。


10.根据权利要求8所述的适配器组件，其中，所述主体部分的顶部包括阴附接构件，所述阴附接构件具有限定于其中的轴凹部，其中所述轴凹部由包括第一平坦表面的内表...

【专利技术属性】
技术研发人员：B·纳泽瑞恩，J·韦斯兰德，M·沃尔德伦，G·恩辛，D·科洛内洛，J·S·索拉纳，
申请(专利权)人：泰乐甘股份有限公司，
类型：发明
国别省市：美国;US