【技术实现步骤摘要】
一种半导体设备研磨头装载体槽液气泡清洗装置
本技术涉及一种清洗装置,具体说是一种半导体设备研磨头装载体槽液气泡清洗装置。
技术介绍
目前在对半导体化学机械研磨头进行维修再生工艺中,由于研磨头装载体上有难以去掉的颗粒,因此采用超声波对其进行处理,将部品的颗粒去除。由于超声波只能将部品表面的微小颗粒去除,很难将比较大的颗粒去除,因此需要先人为的将研磨头装载体用异丙醇擦拭一遍,擦拭完毕后用水冲洗一段时间。由于研磨头结构复杂,且材质为聚乙烯,首先擦拭困难,稍有疏忽就会造成产品的损坏,另外擦拭时间长,而且效果不好,费时费力,现场的生产效率大大降低。
技术实现思路
为解决现有技术存在上述缺点,本申请提供了一种半导体设备研磨头装载体槽液气泡清洗装置,代替人工擦拭将表面的大型的颗粒去除。为实现上述目的,本申请的技术方案为:一种半导体设备研磨头装载体槽液气泡清洗装置,包括:相连通的上槽体和下槽体,所述上槽体的一个侧面为倾斜面,该倾斜面上安装有挡板和上拉板;在下槽体中设有清洗设备和溢流装置,所述清洗设备,包括出气管、清洗板、支撑板,在清洗板上设有多排清洗孔,在清洗板底面分布有多个支撑板,支撑板上设有通过孔,多个出气管位于相应的通过孔中,每个出气管底面均开设有多个出气孔;所述溢流装置包括溢流侧板和溢流底板,所述溢流侧板底部与溢流底板相连,在溢流侧板上设有溢流口;所述溢流侧板位于清洗设备两侧,多个支撑板位于溢流底板上;进水管一端连接至下槽体中。进一步的,溢流侧板与下槽体侧板之间的缝隙为溢流通道,所述溢流底板与 ...
【技术保护点】
1.一种半导体设备研磨头装载体槽液气泡清洗装置,其特征在于,包括:相连通的上槽体和下槽体,所述上槽体的一个侧面为倾斜面,该倾斜面上安装有挡板和上拉板;在下槽体中设有清洗设备和溢流装置,所述清洗设备,包括出气管、清洗板、支撑板,在清洗板上设有多排清洗孔,在清洗板底面分布有多个支撑板,支撑板上设有通过孔,多个出气管位于相应的通过孔中,每个出气管底面均开设有多个出气孔;所述溢流装置包括溢流侧板和溢流底板,所述溢流侧板底部与溢流底板相连,在溢流侧板上设有溢流口;所述溢流侧板位于清洗设备两侧,多个支撑板位于溢流底板上;进水管一端连接至下槽体中。/n
【技术特征摘要】
1.一种半导体设备研磨头装载体槽液气泡清洗装置,其特征在于,包括:相连通的上槽体和下槽体,所述上槽体的一个侧面为倾斜面,该倾斜面上安装有挡板和上拉板;在下槽体中设有清洗设备和溢流装置,所述清洗设备,包括出气管、清洗板、支撑板,在清洗板上设有多排清洗孔,在清洗板底面分布有多个支撑板,支撑板上设有通过孔,多个出气管位于相应的通过孔中,每个出气管底面均开设有多个出气孔;所述溢流装置包括溢流侧板和溢流底板,所述溢流侧板底部与溢流底板相连,在溢流侧板上设有溢流口;所述溢流侧板位于清洗设备两侧,多个支撑板位于溢流底板上;进水管一端连接至下槽体中。
2.根据权利要求1所述一种半导体设备研磨头装载体槽液气泡清洗装置,其特征在于,溢流侧板与下槽体侧板之间的缝隙为溢流通道,所述溢流底板与下槽体底板之间的缝隙为排水通道。
3.根据权利要求1所述一种半导体设备研磨头装载体槽液气泡清洗装置,其特征在于,在溢流底板下面设有多个疏水板,每个疏水板上设有多个排水孔。
4.根据权利要求1所述一种半导体设备研磨头装载体槽液气泡清洗装置,其特征在于,所述多个出气管的一端均与连通管相连,所述连通管通过进气管与气源装...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈智慧,贺贤汉,李泓波,张正伟,朱光宇,王松朋,
申请(专利权)人:富乐德科技发展大连有限公司,
类型:新型
国别省市:辽宁;21
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