一种胶水擦胶治具制造技术

本实用新型专利技术涉及一种胶水擦胶治具，包括底座和上盖，所述的底座上设有凹槽，凹槽内放置产品，所述的上盖设有凹陷的擦拭部以及定位槽，所述的上盖盖在底座上并通过定位柱进行固定，将产品溢出到擦拭部的胶通过无纺布进行擦拭即可。本实用新型专利技术结构简单，设计合理，通过该擦胶治具，改善擦胶后造成胶出现缺口及胶不均匀的问题，避免出现胶缺口及胶不均匀的时候会导致产品胶层上出现气泡的异常。

A kind of glue wiping fixture

【技术实现步骤摘要】
一种胶水擦胶治具
本技术涉及一种胶水擦胶治具，属于模组装配

技术介绍
因模块组装行业的质量，客户要求越来越严格。一方面是胶缺口及胶不均匀的问题会导致产品（模块）胶层上出现气泡的异常，以及模块胶层上有气泡不良造成客户端无法正常使用，另一方面模块会存在信赖性的问题。传统的擦胶方式造成产品不良导致客人投诉及产品整批性批退。
技术实现思路
本技术的目的在于：针对现有技术的缺陷，提出了一种胶水擦胶治具，以解决上述技术问题。本技术所采用的技术方案是：一种胶水擦胶治具，包括底座和上盖，所述的底座上设有凹槽，凹槽内放置产品，所述的上盖设有凹陷的擦拭部以及定位槽，所述的上盖盖在底座上并通过定位柱进行固定，将产品溢出到擦拭部的胶通过无纺布进行擦拭即可。在本技术中：所述底座包括凹槽，凹槽向外延伸的延伸部的四角均设有定位孔一，其中两侧的延伸部上设有取拿部，通过取拿部方便取拿产品；下端的延伸部设有产品预留部。在本技术中：所述上盖包括凹陷的擦拭部和中空的定位槽，其中擦拭部向外延伸的延伸部的四角均设有定位孔二。采用上述技术方案后，本技术的有益效果为：本技术结构简单，设计合理，通过该擦胶治具，改善擦胶后造成胶出现缺口及胶不均匀的问题，避免出现胶缺口及胶不均匀的时候会导致产品胶层上出现气泡的异常。附图说明图1为本技术的结构示意图；图2为本技术中底座的示意图；图3为本技术中上盖的示意图。图中：1.底座；2.上盖；3.凹槽；4.定位孔一；5.取拿部；6.产品预留部；7.定位孔二；8.擦拭部；9.定位槽。具体实施方式下面将结合附图对本技术作进一步的说明。由图1-3可见，一种胶水擦胶治具，包括底座1和上盖2，所述的底座1上设有凹槽3，凹槽3内放置产品，所述的上盖2设有凹陷的擦拭部8以及定位槽9，所述的上盖2盖在底座1上并通过定位柱进行固定，将产品溢出到擦拭部8的胶通过无纺布进行擦拭即可。所述底座1包括凹槽3，凹槽3向外延伸的延伸部的四角均设有定位孔一4，其中两侧的延伸部上设有取拿部5，通过取拿部5方便取拿产品；下端的延伸部设有产品预留部6（产品的FPC避开位置）。所述上盖2包括凹陷的擦拭部8和中空的定位槽9，其中擦拭部8向外延伸的延伸部的四角均设有定位孔二7。具体实施时，先在产品（背光）及产品（模块）四周边沿点上RTV胶后将铁框（把背光与模块固定为一体）组装上，同时将产品（模块）放置在治具的底座1上，再将上盖2与底座1重合即通过定位柱将定位孔一4和定位孔二7进行固定，然后将溢出的残胶溢到擦拭部8上，使用无尘布沿着擦拭部8的四周进行擦拭。产品（模块）溢出的残胶擦拭完成后的，将上盖2取开，通过取拿部5即可将擦拭好的产品取出。本技术中的底座1、上盖2的材质选用铝合金，同时铝合金进行表面阳极处理，其定位柱选用钢材材质制作。以上对本技术的具体实施方式进行了描述，但本技术并不限于以上描述。对于本领域的技术人员而言，任何对本技术方案的同等修改和替代都是在本技术的范围之中。因此，在不脱离本技术的精神和范围下所作的均等变换和修改，都应涵盖在本技术的范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种胶水擦胶治具，其特征在于：包括底座和上盖，所述的底座上设有凹槽，凹槽内放置产品，所述的上盖设有凹陷的擦拭部以及定位槽，所述的上盖盖在底座上并通过定位柱进行固定，将产品溢出到擦拭部的胶通过无纺布进行擦拭即可。/n

【技术特征摘要】
1.一种胶水擦胶治具，其特征在于：包括底座和上盖，所述的底座上设有凹槽，凹槽内放置产品，所述的上盖设有凹陷的擦拭部以及定位槽，所述的上盖盖在底座上并通过定位柱进行固定，将产品溢出到擦拭部的胶通过无纺布进行擦拭即可。


2.根据权利要求1所述的一种胶水擦胶治具，其特征在于：所述底座...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄克军，
申请(专利权)人：江苏久正光电有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32