光电跟踪设备调整环制造技术

技术编号:23712432 阅读:19 留言:0更新日期:2020-04-08 12:33
本实用新型专利技术属于光电跟踪设备调节技术领域,具体涉及光电跟踪设备调整环。本实用新型专利技术公开了光电跟踪设备调整环,包括两个结构相同的圆环,所述圆环的一个端面为平面、另一个端面为带有角度的斜面,所述圆环设有若干定位孔,所述定位孔绕圆环的圆心均匀设置有一圈,所述圆环的侧壁设有刻度线,所述圆环的最高点为刻度线的起始刻度、并标记为“0”。本实用新型专利技术的结构非常简单、上手难度低、精度高、调节准确等优势,使得非专业人员通过简单得培训也能很快上手使用,并且水平调节精度高。

Photoelectric tracking device adjustment ring

【技术实现步骤摘要】
光电跟踪设备调整环
本技术属于光电跟踪设备调节
,具体涉及光电跟踪设备调整环。
技术介绍
针对光电跟踪设备在安装的过程中,由于其安装基座的基面不是使用者的可控因素,其基座的基面水平误差可能会大于安装精度的要求;但是为了设备的精度使用要求,我们需要随时去修正这个偏差;而现在能够修正偏差的装置,结构复杂、且制作成本高;因此,为了满足光电跟踪设备的使用要求,并且降低制作成本,特专利技术了一种光电跟踪设备调整环。
技术实现思路
针对上述背景提出的问题,本技术的目的是:旨在提供一种光电跟踪设备调整环,它能够降低制作成本,并将原本超出精度要求的水平偏差修正到符合标准的误差之内。为实现上述技术目的,本技术采用的技术方案如下:光电跟踪设备调整环,包括两个结构相同的圆环,所述圆环的一个端面为平面、另一个端面为带有角度的斜面,所述圆环设有若干定位孔,所述定位孔绕圆环的圆心均匀设置有一圈,所述圆环的侧壁设有刻度线,所述圆环的最高点为刻度线的起始刻度、并标记为“0”。进一步限定,所述定位孔的数量为60个。进一步限定,所述刻度线设有“0”~“6”七个刻度值,相邻两个刻度值与圆心连线的夹角为15°。进一步限定,所述圆环的最高点与最低点的高度差小于5mm。本技术的有益效果:本技术的结构非常简单、上手难度低、精度高、调节准确等优势,使得非专业人员通过简单得培训也能很快上手使用,并且水平调节精度高。附图说明本技术可以通过附图给出的非限定性实施例进一步说明;图1为本技术光电跟踪设备调整环实施例的结构示意图;图2为本技术光电跟踪设备调整环实施例中圆环的结构示意图;主要元件符号说明如下:圆环1、定位孔2、刻度线3、下圆环1′、上圆环1″。具体实施方式为了使本领域的技术人员可以更好地理解本技术,下面结合附图和实施例对本技术技术方案进一步说明。如图1、图2所示,本技术的光电跟踪设备调整环,包括两个结构相同的圆环1,圆环1的一个端面为平面、另一个端面为带有角度的斜面,圆环1设有若干定位孔2,定位孔2绕圆环1的圆心均匀设置有一圈,圆环1的侧壁设有刻度线3,圆环1的最高点为刻度线3的起始刻度、并标记为“0”。其中,定位孔2的数量为60个。这样,使得两个圆环1在旋转定位的时候定位更稳定。其中,刻度线3设有“0”~“6”七个刻度值,相邻两个刻度值与圆心连线的夹角为15°。这样,使得在调节的时候,能够相对较好的进行参考。其中,圆环1的最高点与最低点的高度差小于5mm。这样,能够满足高精度调节的要求。本实施例中,将两个圆环1上下匹配安装,将下侧的圆环1计为下圆环1′,上侧的圆环计为上圆环1″,下圆环1′的斜面与上圆环1″的斜面贴合安装,将下圆环1′的“0”刻度值与上圆环1″的“0”刻度值对齐;此时,下圆环1′的下端面与上圆环1″的上端面之间形成一个夹角,通过旋转上圆环1″来控制夹角的大小,从而调节光电跟踪设备调整环的最高点与最低点之间的差值;当上圆环1″相对下圆环1′旋转180°的时候,下圆环1′的下端面与上圆环1″的上端面平行;将调节好的光电跟踪设备调整环的最高点放到所测量的水平位置的最低点上,从而实现修正的目的。需要指出的是,本技术的圆环1上的斜面可以根据实际使用情况,并进行精密的计算来确定其夹角的大小,然后通过3D建模模拟验证,可以得出旋转位移量为多少时,两个圆环1其形成的夹角为多少,并实现该使用所需要的水平修正精度;在调节偏差值的过程中,使上下两个圆环1的某两个相同刻度值的数字对齐,此时,光电跟踪设备调整环的最高点为数字对齐的位置,最低点为该最高点的180°位置方向,并将光电跟踪设备调整环的最高点放到所测量的水平位置的最低点上,从而实现修正的目的。上述实施例仅示例性说明本技术的原理及其功效,而非用于限制本技术。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本技术的精神及范畴下,对上述实施例进行修饰或改变。因此,凡所属
中具有通常知识者在未脱离本技术所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变,仍应由本技术的权利要求所涵盖。本文档来自技高网
...

【技术保护点】
1.光电跟踪设备调整环,其特征在于:包括两个结构相同的圆环(1),所述圆环(1)的一个端面为平面、另一个端面为带有角度的斜面,所述圆环(1)设有若干定位孔(2),所述定位孔(2)绕圆环(1)的圆心均匀设置有一圈,所述圆环(1)的侧壁设有刻度线(3),所述圆环(1)的最高点为刻度线(3)的起始刻度、并标记为“0”。/n

【技术特征摘要】
1.光电跟踪设备调整环,其特征在于:包括两个结构相同的圆环(1),所述圆环(1)的一个端面为平面、另一个端面为带有角度的斜面,所述圆环(1)设有若干定位孔(2),所述定位孔(2)绕圆环(1)的圆心均匀设置有一圈,所述圆环(1)的侧壁设有刻度线(3),所述圆环(1)的最高点为刻度线(3)的起始刻度、并标记为“0”。


2.根据权利要求1所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:范伟平李松斌
申请(专利权)人:深圳市明日系统集成有限公司
类型:新型
国别省市:广东;44

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1