静校正基准面计算方法及系统技术方案

公开了一种静校正基准面计算方法及系统。该方法可以包括：针对地表位置进行提取，获得静校正量的离散样点与高程的离散样点，进而获得二维规则静校正数据与二维规则高程数据；对二维规则静校正数据进行二维傅里叶变换，获得波数‑振幅谱；计算最小静校正量的范围，进而根据波数‑振幅谱确定波数截取的阈值；根据波数截取的阈值分离波数‑振幅谱的高波数分量和低波数分量，根据低波数分量，获得二维规则静校正数据的高频分量；根据二维规则静校正数据的高频分量与二维规则高程数据，计算静校正基准面。本发明专利技术通过对静校正量高低频分量的分离，实现快速精准的计算静校正基准面。

Calculation method and system of static correction datum

【技术实现步骤摘要】
静校正基准面计算方法及系统
本专利技术涉及地震数据资料处理领域，更具体地，涉及一种静校正基准面计算方法及系统。
技术介绍
在复杂地区地震勘探的资料处理中，静校正及浮动基准面的选取关系到后续速度分析和偏移成像的精度。常规的复杂地表资料处理流程一般如下：采用求取一定孔径范围内的静校正量的方法确定时间域浮动基准面，在该面进行速度分析得到时间域的速度模型。将该模型转换到深度域作为深度域偏移迭代的初始模型。但是，当进行“真地表”深度偏移时，平滑地表高程得到的“真地表”与转深的CMP浮动面间并不完全重合。利用转深的时间域速度模型作为真地表深度偏移并不合理。因此，有必要开发一种静校正基准面计算方法及系统。公开于本专利技术
技术介绍
部分的信息仅仅旨在加深对本专利技术的一般
技术介绍
的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域技术人员所公知的现有技术。
技术实现思路
本专利技术提出了一种静校正基准面计算方法及系统，其能够通过对静校正量高低频分量的分离，实现快速精准的计算静校正基准面。根据本专利技术的一方面，提出了一种静校正基准面计算方法。所述方法可以包括：针对地表位置进行提取，获得静校正量的离散样点与高程的离散样点，进而获得二维规则静校正数据与二维规则高程数据；对所述二维规则静校正数据进行二维傅里叶变换，获得波数-振幅谱；计算最小静校正量的范围，进而根据所述波数-振幅谱确定波数截取的阈值；根据波数截取的阈值分离所述波数-振幅谱的高波数分量和低波数分量，根据所述低波数分量，获得所述二维规则静校正数据的高频分量；根据所述二维规则静校正数据的高频分量与所述二维规则高程数据，计算静校正基准面。优选地，针对地表位置进行提取，获得静校正量的离散样点与高程的离散样点，通过空间数据局部内插，获得二维规则静校正数据与二维规则高程数据。优选地，根据所述低波数分量，获得所述二维规则静校正数据的高频分量包括：针对所述低波数分量进行逆傅里叶变换，获得所述二维规则静校正数据的低频分量；在所述二维规则静校正数据中减去低频分量，获得所述二维规则静校正数据的高频分量。优选地，所述最小静校正量的范围为：其中，J为静校正量，T为地震波周期。优选地，所述静校正基准面为：E基＝E实-T高×V替(2)其中，E基为静校正基准面，T高为静校正量的高频分量，E实为二维规则高程数据，V替为替换速度。根据本专利技术的另一方面，提出了一种静校正基准面计算系统，其特征在于，该系统包括：存储器，存储有计算机可执行指令；处理器，所述处理器运行所述存储器中的计算机可执行指令，执行以下步骤：针对地表位置进行提取，获得静校正量的离散样点与高程的离散样点，进而获得二维规则静校正数据与二维规则高程数据；对所述二维规则静校正数据进行二维傅里叶变换，获得波数-振幅谱；计算最小静校正量的范围，进而根据所述波数-振幅谱确定波数截取的阈值；根据波数截取的阈值分离所述波数-振幅谱的高波数分量和低波数分量，根据所述低波数分量，获得所述二维规则静校正数据的高频分量；根据所述二维规则静校正数据的高频分量与所述二维规则高程数据，计算静校正基准面。优选地，针对地表位置进行提取，获得静校正量的离散样点与高程的离散样点，通过空间数据局部内插，获得二维规则静校正数据与二维规则高程数据。优选地，根据所述低波数分量，获得所述二维规则静校正数据的高频分量包括：针对所述低波数分量进行逆傅里叶变换，获得所述二维规则静校正数据的低频分量；在所述二维规则静校正数据中减去低频分量，获得所述二维规则静校正数据的高频分量。优选地，所述最小静校正量的范围为：其中，J为静校正量，T为地震波周期。优选地，所述静校正基准面为：E基＝E实-T高×V替(2)其中，E基为静校正基准面，T高为静校正量的高频分量，E实为二维规则高程数据，V替为替换速度。本专利技术具有其它的特性和优点，这些特性和优点从并入本文中的附图和随后的具体实施方式中将是显而易见的，或者将在并入本文中的附图和随后的具体实施方式中进行详细陈述，这些附图和具体实施方式共同用于解释本专利技术的特定原理。附图说明通过结合附图对本专利技术示例性实施例进行更详细的描述，本专利技术的上述以及其它目的、特征和优势将变得更加明显，其中，在本专利技术示例性实施例中，相同的参考标号通常代表相同部件。图1示出了根据本专利技术的静校正基准面计算方法的步骤的流程图。图2示出了根据本专利技术的一个实施例的高程的离散样点的示意图。图3示出了根据本专利技术的一个实施例的二维规则高程数据的示意图。图4示出了根据本专利技术的一个实施例的静校正量的离散样点的示意图。图5示出了根据本专利技术的一个实施例的二维规则静校正数据的示意图。图6示出了根据本专利技术的一个实施例的波数-振幅谱的示意图。图7示出了根据本专利技术的一个实施例的根据波数-振幅谱确定波数截取的阈值的示意图。图8示出了根据本专利技术的一个实施例的波数-振幅谱的低波数分量的示意图。图9示出了根据本专利技术的一个实施例的二维规则静校正数据的低频分量的示意图。图10示出了根据本专利技术的一个实施例的二维规则静校正数据的高频分量的示意图。图11示出了根据本专利技术的一个实施例的静校正基准面的示意图。图12a、图12b、图12c分别示出了原始道集、常规静校正后道集以及根据本专利技术的一个实施例的高频静校正后数据的示意图。具体实施方式下面将参照附图更详细地描述本专利技术。虽然附图中显示了本专利技术的优选实施例，然而应该理解，可以以各种形式实现本专利技术而不应被这里阐述的实施例所限制。相反，提供这些实施例是为了使本专利技术更加透彻和完整，并且能够将本专利技术的范围完整地传达给本领域的技术人员。图1示出了根据本专利技术的静校正基准面计算方法的步骤的流程图。在该实施例中，根据本专利技术的静校正基准面计算方法可以包括：步骤101，针对地表位置进行提取，获得静校正量的离散样点与高程的离散样点，进而获得二维规则静校正数据与二维规则高程数据；步骤102，对二维规则静校正数据进行二维傅里叶变换，获得波数-振幅谱；步骤103，计算最小静校正量的范围，进而根据波数-振幅谱确定波数截取的阈值；步骤104，根据波数截取的阈值分离波数-振幅谱的高波数分量和低波数分量，根据低波数分量，获得二维规则静校正数据的高频分量；步骤105，根据二维规则静校正数据的高频分量与二维规则高程数据，计算静校正基准面。在一个示例中，针对地表位置进行提取，获得静校正量的离散样点与高程的离散样点，通过空间数据局部内插，获得二维规则静校正数据与二维规则高程数据。在一个示例中，根据低波数分量，获得二维规则静校正数据的高频分量包括：针对低波数分量进行逆傅里叶变换，获得二维规则静校正数据的低频分量；在二维规则静校正数据中减去低频分量，获得二维规则静校正数据的高频分量。在一个示例中，最小静校正量的范围为：其中，J本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种静校正基准面计算方法，其特征在于，包括：/n针对地表位置进行提取，获得静校正量的离散样点与高程的离散样点，进而获得二维规则静校正数据与二维规则高程数据；/n对所述二维规则静校正数据进行二维傅里叶变换，获得波数-振幅谱；/n计算最小静校正量的范围，进而根据所述波数-振幅谱确定波数截取的阈值；/n根据波数截取的阈值分离所述波数-振幅谱的高波数分量和低波数分量，根据所述低波数分量，获得所述二维规则静校正数据的高频分量；/n根据所述二维规则静校正数据的高频分量与所述二维规则高程数据，计算静校正基准面。/n

【技术特征摘要】
1.一种静校正基准面计算方法，其特征在于，包括：
针对地表位置进行提取，获得静校正量的离散样点与高程的离散样点，进而获得二维规则静校正数据与二维规则高程数据；
对所述二维规则静校正数据进行二维傅里叶变换，获得波数-振幅谱；
计算最小静校正量的范围，进而根据所述波数-振幅谱确定波数截取的阈值；
根据波数截取的阈值分离所述波数-振幅谱的高波数分量和低波数分量，根据所述低波数分量，获得所述二维规则静校正数据的高频分量；
根据所述二维规则静校正数据的高频分量与所述二维规则高程数据，计算静校正基准面。


2.根据权利要求1所述的静校正基准面计算方法，其中，针对地表位置进行提取，获得静校正量的离散样点与高程的离散样点，通过空间数据局部内插，获得二维规则静校正数据与二维规则高程数据。


3.根据权利要求1所述的静校正基准面计算方法，其中，根据所述低波数分量，获得所述二维规则静校正数据的高频分量包括：
针对所述低波数分量进行逆傅里叶变换，获得所述二维规则静校正数据的低频分量；
在所述二维规则静校正数据中减去低频分量，获得所述二维规则静校正数据的高频分量。


4.根据权利要求1所述的静校正基准面计算方法，其中，所述最小静校正量的范围为：



其中，J为静校正量，T为地震波周期。


5.根据权利要求1所述的静校正基准面计算方法，其中，所述静校正基准面为：
E基＝E实-T高×V替(2)
其中，E基为静校正基准面，T高为静校正量的高频分量，E实为二维规则高程数据，V替为替换速度。


6.一种静校正基准面计算系统，其特征在于，该系统包...

【专利技术属性】
技术研发人员：王守进，蔡杰雄，王鹏燕，
申请(专利权)人：中国石油化工股份有限公司，中国石油化工股份有限公司石油物探技术研究院，
类型：发明
国别省市：北京;11