【技术实现步骤摘要】
一种PVD涂层刀片及其制备方法
本专利技术属于PVD涂层刀片及其制备方法领域,尤其涉及一种PVD涂层刀片及其制备方法。
技术介绍
磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。上世纪70年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。自磁控溅射技术问世以来,在各领域得到了广泛应用。各种功能性薄膜:如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜;装饰领域的应用,如各种全反射膜及半透明膜等,如手机外壳,鼠标等;在微电子领域作为一种非热式镀膜技术;在光学领域中频闭合场非平衡磁控溅射技术也已在光学薄膜(如增透膜)、低辐射玻璃和透明导电玻璃等方面得到应用,特别是透明导电玻璃目前广泛应用于平板显示器件、太阳能电池、微波与射频屏蔽装置与器件、传感器;在机械加工行业中,表面功能膜、超硬膜,自润滑薄膜的表面沉积技术自问世以来得到长足发展,能有效的提高表面硬度、复合韧性、耐磨损性和抗高温化学稳定性能,从而大幅度地提高涂层产品的使用寿命;磁控 ...
【技术保护点】
1.一种PVD涂层刀片及其制备方法,其特征在于,所述PVD涂层刀片包括硬质合金基体材料和PVD涂层,其制备方法为:/nS1:将硬质合金基体材料用磨砂盘进行磨砂、抛光;/nS2:将磨砂、抛光后的硬质合金基体材料用清洗剂进行初步清洁;/nS3:将初步清洁后的硬质合金基体材料加入无机酸溶液中,并对硬质合金基体材料进行超声波处理,进行深度清洁,深度清洁后进行干燥处理 ;/nS4:将干燥处理后的硬质合金基体材料放入溅射室内,向溅射室内通入惰性气体,用磁控溅射技术镀上PVD涂层。/n
【技术特征摘要】
1.一种PVD涂层刀片及其制备方法,其特征在于,所述PVD涂层刀片包括硬质合金基体材料和PVD涂层,其制备方法为:
S1:将硬质合金基体材料用磨砂盘进行磨砂、抛光;
S2:将磨砂、抛光后的硬质合金基体材料用清洗剂进行初步清洁;
S3:将初步清洁后的硬质合金基体材料加入无机酸溶液中,并对硬质合金基体材料进行超声波处理,进行深度清洁,深度清洁后进行干燥处理;
S4:将干燥处理后的硬质合金基体材料放入溅射室内,向溅射室内通入惰性气体,用磁控溅射技术镀上PVD涂层。
2.根据权利要求1所述的一种PVD涂层刀片及其制备方法,其特征在于,所述硬质合金基体材料为WC-CO硬质合金。
3.根据权利要求1所述的一种PVD涂层刀片及其...
【专利技术属性】
技术研发人员:张林,
申请(专利权)人:上海科弦精密工具有限公司,
类型:发明
国别省市:上海;31
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