一种高硅超硬PVD涂层制备工艺制造技术

本发明专利技术提供一种高硅超硬PVD涂层制备工艺，包括待涂工件和高硅PVD涂层，其制备工艺为：首先将待涂工件用磨砂盘进行磨砂、抛光；将磨砂、抛光后的待涂工件放入电解质溶液中，对待涂工件进行电解；将电解后的待涂工件放入碱性溶液中，利用超声波对待涂工件进行清洗，清洗后放入干燥室对待涂工件进行干燥处理；将干燥处理后的待涂工件放入真空室内，向真空室内通入惰性气体，用磁控溅射技术镀上高硅PVD涂层。本发明专利技术利用磁控溅射技术在负高压下进行高速溅射，有效地提高了气体的离化率，提高了涂层与待涂工件的结合强度。

A preparation process of high silicon superhard PVD coating

【技术实现步骤摘要】
一种高硅超硬PVD涂层制备工艺
本专利技术属于高硅超硬PVD涂层制备工艺领域，尤其涉及一种高硅超硬PVD涂层制备工艺。
技术介绍
磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。上世纪70年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。自磁控溅射技术问世以来，在各领域得到了广泛应用。各种功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜；装饰领域的应用，如各种全反射膜及半透明膜等，如手机外壳，鼠标等；在微电子领域作为一种非热式镀膜技术；在光学领域中频闭合场非平衡磁控溅射技术也已在光学薄膜（如增透膜）、低辐射玻璃和透明导电玻璃等方面得到应用，特别是透明导电玻璃目前广泛应用于平板显示器件、太阳能电池、微波与射频屏蔽装置与器件、传感器；在机械加工行业中，表面功能膜、超硬膜，自润滑薄膜的表面沉积技术自问世以来得到长足发展，能有效的提高表面硬度、复合韧性、耐磨损性和抗高温化学稳定性能，从而大幅度地提高涂层产品的使用寿命；磁控溅射除上述已被大量应本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高硅超硬PVD涂层制备工艺，其特征在于，包括待涂工件和高硅PVD涂层，其制备工艺为：/nS1：将待涂工件用磨砂盘进行磨砂、抛光；/nS2：将磨砂、抛光后的待涂工件放入电解质溶液中，对待涂工件进行电解；/nS3：将电解后的待涂工件放入碱性溶液中，利用超声波对待涂工件进行清洗，清洗后放入干燥室对待涂工件进行干燥处理；/nS4：将干燥处理后的待涂工件放入真空室内，向真空室内通入惰性气体，用磁控溅射技术镀上高硅PVD涂层。/n

【技术特征摘要】
1.一种高硅超硬PVD涂层制备工艺，其特征在于，包括待涂工件和高硅PVD涂层，其制备工艺为：
S1：将待涂工件用磨砂盘进行磨砂、抛光；
S2：将磨砂、抛光后的待涂工件放入电解质溶液中，对待涂工件进行电解；
S3：将电解后的待涂工件放入碱性溶液中，利用超声波对待涂工件进行清洗，清洗后放入干燥室对待涂工件进行干燥处理；
S4：将干燥处理后的待涂工件放入真空室内，向真空室内通入惰性气体，用磁控溅射技术镀上高硅PVD涂层。


2.根据权利要求1所述的一种高硅超硬PVD涂层制备工艺，其特征在于，所述电解的原理是将电解质溶液渗透到待涂工件表面的污物下面，产生大量的气泡，气泡聚集形成气流从污物与待涂工件的间隙中逸出，使污物从待涂工件表面上脱落，达到了对待涂工件除油除锈的目的。


3.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：张林，
申请(专利权)人：上海科弦精密工具有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31