本实用新型专利技术一种自清洁涂胶装置及自清洁涂胶装置用承片托盘属于微纳光学元件生产设备领域。该自清洁涂胶装置包含保护罩上盖、保护罩底座、承片托盘、清洗装置、真空吸附系统、驱动电机和转轴。承片托盘内部径向方向开设斜向上管道，用于喷射清洗液，承片托盘在旋转过程中能够对保护罩侧壁进行充分清洗；清洗装置包括清洗液供给装置和清洗液管；清洗液管与承片托盘底部相连。保护罩上盖侧壁在对应晶圆及其上方区域为圆弧形，用于改变光刻胶溅射方向，解决胶面彗尾等问题；承片托盘内部开设斜向上清洗液通道用于喷涂清洗液，全面清洗保护罩内壁；保护罩底部侧壁为圆弧斜坡形，易于排出清洗后废液，操作简单。整个装置复杂度低，成本低廉。
A self-cleaning gluing device and a carrier tray for the self-cleaning gluing device
【技术实现步骤摘要】
一种自清洁涂胶装置及自清洁涂胶装置用承片托盘
本技术一种自清洁涂胶装置及自清洁涂胶装置用承片托盘属于微纳光学元件生产设备领域。
技术介绍
涂胶是微纳光学元件生产过程中的重要工艺，是指将光刻胶均匀涂覆到晶圆表面的过程。目前通常使用旋涂式的涂胶设备进行光刻胶涂覆，其原理是在低速运动时将滴落在晶圆中心区域的光刻胶平铺在晶圆表面，在随后的高速运动过程中，将表面多余的光刻胶甩出晶圆，达到胶厚均匀一致的效果。这种旋涂的方式，光刻胶从晶圆表面高速甩出后，会在保护罩内壁发生反弹，部分光刻胶会重新回到晶圆表面，产生彗尾或者晕圈等胶面溅射现象，破坏胶面的均匀性，对后续的光刻造成不利影响；此外，大部分甩出的光刻胶会粘结在保护罩内壁上，若不定期清理，也会在旋涂过程中，对晶圆表面造成污染。现有的涂胶装置普遍存在光刻胶溅射的现象，解决该问题的方法目前主要有：降低晶圆转速来缓解光刻溅射问题，并未从根本上解决该问题；专利CN203561823提出了一种涂胶机室，采用横截面为梯形的胶杯罩代替原有柱面外罩；专利CN107783374提出了一种涂胶机系统，除采用倾斜侧壁外，还引入了抽气系统带走光刻胶微粒；但以上两种方法均没有考虑如何清理粘结在旋涂机侧壁上的光刻胶。目前旋涂机侧壁的清理一般采用拆卸清洗的方式，清洗成本高，耗时长。专利CN203764494中提出一种新型的涂胶机装置，将保护罩更改为外罩和可相对外罩移动的内罩，通过内罩的上下移动和水平转动，对内罩进行清洗，省去了拆除清洗的步骤。这种方式的清洗流程相对复杂，内罩的上下移动和水平转动都需要额外的驱动电机控制，成本较高，系统复杂。
技术实现思路
为解决上述光刻胶溅射问题和旋涂机侧壁光刻胶清洗问题，本技术提供一种自清洁涂胶装置及自清洁涂胶装置用承片托盘。本技术的目的是这样实现的：一种自清洁涂胶装置，包含保护罩上盖、保护罩底座、承片托盘、清洗装置、真空吸附系统、驱动电机和转轴；所述保护罩上盖的上盖侧壁在对应晶圆及其上方区域为圆弧形，用于改变光刻胶溅射方向；所述保护罩底座的底座侧壁为一个圆角斜面，便于光刻胶和清洗液流出；所述承片托盘内部径向方向开设斜向上管道，倾斜方向与水平线之间的角度为4-12度，所述管道用于喷射清洗液，承片托盘在旋转过程中能够对上盖侧壁进行充分清洗；所述承片托盘中部位置开设一个通孔，承片托盘上表面有导气沟道，所述通孔上侧与所述导气沟道相连，所述通孔下侧与所述真空吸附系统相连；承片托盘中部位置开设一个沉孔，所述沉孔上端与所述斜向上管道相通，所述沉孔下端与清洗液管相连；所述清洗装置包括清洗液供给装置和清洗液管，所述清洗液管与承片托盘底部相连。上述自清洁涂胶装置，还包括废液收集装置，所述保护罩底座下端经由废液管路与废液收集装置相连。以上自清洁涂胶装置，所述驱动电机为中空轴电机。一种自清洁涂胶装置用承片托盘，内部径向方向开设斜向上管道，倾斜方向与水平线之间的角度为4-12度，所述管道用于喷射清洗液，承片托盘在旋转过程中能够对上盖侧壁进行充分清洗；所述承片托盘中部位置开设一个通孔，承片托盘上表面有导气沟道，所述通孔上侧与所述导气沟道相连，所述通孔下侧与真空吸附系统相连；承片托盘中部位置开设一个沉孔，所述沉孔上端与所述斜向上管道相通，所述沉孔下端与清洗液管相连。所述光刻胶旋涂装置的工作原理在于：涂胶时关闭清洗装置，将待涂胶基片置于承片托盘上，真空吸附系统通过承片托盘的中心通孔吸附待涂胶基片，驱动电机驱动承片托盘带动基片旋转。由于保护罩上盖侧壁在对应晶圆及其上方区域为圆弧形，可以有效改变光刻胶溅射方向，解决光刻胶反弹到晶圆，破坏胶面均匀性的问题。涂胶完毕进行清洗时，关闭真空吸附系统，取出晶圆基片，开启清洗装置。开启驱动电机，驱动承片托盘旋转。清洗装置通入清洗液，清洗液经由承片托盘内部斜向上通道旋转向上喷洒清洗液，清洗保护罩内壁上的光刻胶。清洗后的清洗液和光刻胶沿保护罩底部圆角斜面流出光刻胶旋涂装置，达到全面清洗的目的。有益效果：第一、保护罩上盖侧壁设计成弧形，可有效改变光刻胶溅射方向，解决光刻胶反弹到晶圆破坏胶面均匀性的问题，提高涂胶的良率；第二、保护罩上盖扣上时，光刻胶旋涂装置内部形成一个相对密封的空间，可减少光刻胶的挥发，有利于光刻胶均匀性的提高；第三、无需拆卸即可达到清洗光刻胶旋涂装置的目的，承片托盘开设斜向上通道，用于喷射清洗液，并借由保护罩底部斜面将清洗后的废液和光刻胶排出，在达到清洗设备目的的同时，降低了系统的复杂度和清洗设备的时间成本。附图说明图1是本技术一种自清洁涂胶装置的结构示意图。图2是本技术一种自清洁涂胶装置用承片托盘的结构示意图。图中：1保护罩上盖、11上盖侧壁、2保护罩底座、21底座侧壁、3承片托盘、31管道、32通孔、33导气沟道、34沉孔、4清洗装置、41清洗液供给装置、42清洗液管、5真空吸附系统、6驱动电机、7转轴、8废液收集装置、9驱动电机。具体实施方式下面结合附图对本技术具体实施例作进一步详细描述。具体实施例一本实施例是一种自清洁涂胶装置的实施例。本实施例的自清洁涂胶装置，结构示意图如图1所示，该自清洁涂胶装置包含保护罩上盖1、保护罩底座2、承片托盘3、清洗装置4、真空吸附系统5、驱动电机6和转轴7；所述保护罩上盖1的上盖侧壁11在对应晶圆及其上方区域为圆弧形，用于改变光刻胶溅射方向；所述保护罩底座2的底座侧壁21为一个圆角斜面，便于光刻胶和清洗液流出；所述承片托盘3的结构示意图如图2所示，其中，图2(a)为承片托盘示上视图及剖视图，图2(b)为承片托盘轴向视图；该承片托盘内部径向方向开设斜向上管道31，倾斜方向与水平线之间的角度为4-12度，所述管道31用于喷射清洗液，承片托盘3在旋转过程中能够对上盖侧壁11进行充分清洗；所述承片托盘3中部位置开设一个通孔32，承片托盘3上表面有导气沟道33，所述通孔32上侧与所述导气沟道33相连，所述通孔32下侧与所述真空吸附系统5相连；承片托盘3中部位置开设一个沉孔34，所述沉孔34上端与所述斜向上管道31相通，所述沉孔34下端与清洗液管42相连；所述清洗装置4包括清洗液供给装置41和清洗液管42，所述清洗液管42与承片托盘3底部相连。所述光刻胶旋涂装置的工作过程为：涂胶时关闭清洗装置，将待涂胶基片置于承片托盘3上，真空吸附系统5通过承片托盘3的中心通孔吸附待涂胶基片，驱动电机6通过转轴7驱动承片托盘3旋转，进而带动基片旋转。光刻胶在离心力作用下甩出，运动保护罩上盖1弧形侧壁上，运动方向发生改变，运动路线如图1中虚线箭头所示，沿保护罩内壁和斜坡底部流出，解决了光刻胶反弹到晶圆破坏胶面均匀性的问题。涂胶完毕进行清洗时，关闭真空吸附系统5，打开保护罩上盖1，取出晶圆基片，关闭保护罩上盖1，清洗装置4。开启驱动电机(本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种自清洁涂胶装置，其特征在于，包含保护罩上盖(1)、保护罩底座(2)、承片托盘(3)、清洗装置(4)、真空吸附系统(5)、驱动电机(6)和转轴(7)；/n所述保护罩上盖(1)的上盖侧壁(11)在对应晶圆及其上方区域为圆弧形，用于改变光刻胶溅射方向；/n所述保护罩底座(2)的底座侧壁(21)为一个圆角斜面，便于光刻胶和清洗液流出；/n所述承片托盘(3)内部径向方向开设斜向上管道(31)，倾斜方向与水平线之间的角度为4-12度，所述管道(31)用于喷射清洗液，承片托盘(3)在旋转过程中能够对上盖侧壁(11)进行充分清洗；所述承片托盘(3)中部位置开设一个通孔(32)，承片托盘(3)上表面有导气沟道(33)，所述通孔(32)上侧与所述导气沟道(33)相连，所述通孔(32)下侧与所述真空吸附系统(5)相连；承片托盘(3)中部位置开设一个沉孔(34)，所述沉孔(34)上端与所述斜向上管道(31)相通，所述沉孔(34)下端与清洗液管(42)相连；/n所述清洗装置(4)包括清洗液供给装置(41)和清洗液管(42)，所述清洗液管(42)与承片托盘(3)底部相连。/n
【技术特征摘要】
1.一种自清洁涂胶装置，其特征在于，包含保护罩上盖(1)、保护罩底座(2)、承片托盘(3)、清洗装置(4)、真空吸附系统(5)、驱动电机(6)和转轴(7)；
所述保护罩上盖(1)的上盖侧壁(11)在对应晶圆及其上方区域为圆弧形，用于改变光刻胶溅射方向；
所述保护罩底座(2)的底座侧壁(21)为一个圆角斜面，便于光刻胶和清洗液流出；
所述承片托盘(3)内部径向方向开设斜向上管道(31)，倾斜方向与水平线之间的角度为4-12度，所述管道(31)用于喷射清洗液，承片托盘(3)在旋转过程中能够对上盖侧壁(11)进行充分清洗；所述承片托盘(3)中部位置开设一个通孔(32)，承片托盘(3)上表面有导气沟道(33)，所述通孔(32)上侧与所述导气沟道(33)相连，所述通孔(32)下侧与所述真空吸附系统(5)相连；承片托盘(3)中部位置开设一个沉孔(34)，所述沉孔(34)上端与所述斜向上管道(31)相通，所述沉孔(34)下端与清洗液管(42)相连；
所述清洗装置(4)包括清洗液供给装置(4...
【专利技术属性】
技术研发人员：金光国，赵梁玉，
申请(专利权)人：苏州麦田光电技术有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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