用于EUV真空环境中的光传输装置及光刻机制造方法及图纸

一种用于EUV真空环境中的光传输装置及光刻机，用于EUV真空环境中的光传输装置包括：光纤连接器，设置通孔；通光介质，设置于所述光纤连接器的通孔内；两光纤束，分别连接于所述光纤连接器的两侧，且两所述光纤束分别与所述通光介质的中心对准，实现分段的光纤束之间的光的传输。本发明专利技术设计两段光纤束来解决整根光纤束不利于装配、维护以及存在断纤的风险的问题；通过光纤连接器以及光纤连接器上设置的通光介质实现两段光纤束的导通，连接方式可靠，并且应用于EUV光刻机中，解决了真空腔内外光传输的问题，提高了光纤束与光刻机的连接可靠性，降低了维修风险。

Optical transmission device and lithography machine for EUV vacuum environment

【技术实现步骤摘要】
用于EUV真空环境中的光传输装置及光刻机
本专利技术属于半导体装备
，尤其涉及一种用于EUV真空环境中的光传输装置及光刻机。
技术介绍
EUV光刻机是目前半导体行业最先进的、已进入量产机型的光刻机。但由于空气及几乎所有的材料均对EUV光都具有强烈的吸收作用，导致EUV光刻机内部工作环境必须是EUV(超)清洁真空，EUV光刻机所有零部件的设计必须考虑材料及加工工艺流程可能引入的材料和结构的放气问题。EUV光刻机内部有多种光学传感器，对光刻机内的部件及环境进行测试，因此不可避免的会将光学传感器置于真空环境中，而光学传感器的光源由于污染、散热等原因不适合放置于真空环境中，这时需要合适的光传输装置将真空腔外的光传输进入真空腔内供给传感器工作。由于EUV光刻机内的部件或模组所需光纤不会是1根，会有单个部件就需要多光纤构成的光纤束来实现照明的需求。因此多光纤构成的光纤束穿过真空腔体是一个必须解决的问题。传统的穿过真空腔体的光纤束组件均采用整束光纤粘结在真空法兰上的方式。这种方式不适用于EUV光刻机，因为EUV光刻机对工作环境的要求极为本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于EUV真空环境中的光传输装置，其特征在于，包括：/n光纤连接器，设置通孔；/n通光介质，设置于所述光纤连接器的通孔内；/n两光纤束，分别连接于所述光纤连接器的两侧，且两所述光纤束分别与所述通光介质的中心对准，实现分段的光纤束之间的光的传输。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于EUV真空环境中的光传输装置，其特征在于，包括：
光纤连接器，设置通孔；
通光介质，设置于所述光纤连接器的通孔内；
两光纤束，分别连接于所述光纤连接器的两侧，且两所述光纤束分别与所述通光介质的中心对准，实现分段的光纤束之间的光的传输。


2.如权利要求1所述的用于EUV真空环境中的光传输装置，其特征在于，所述光纤连接器，包括：
通光法兰，在所述通光法兰的两侧分别设置法兰卡扣；
两光纤束卡扣，分别与所述通光法兰两侧的法兰卡扣匹配卡固；且在所述光纤束卡扣上设置光纤束安装孔，用于将所述光纤束连接形成光纤束组件。


3.如权利要求2所述的用于EUV真空环境中的光传输装置，其特征在于，所述光纤束卡扣与所述光纤束通过胶粘结或者卡接。


4.如权利要求2所述的用于EUV真空环境中的光传输装置，其特征在于，所述通光介质包括光波导或者光学镜片。


5.如权利要求4所述的用于EUV真空环境中的光传输装置，其特征在于，所述通光介质为光波导，所述通光法兰的材质为可伐合金；
其中，所述光波导包括柱形光波导或者矩形光波导；
其中，所述光波导与通光法兰之间真...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐天伟，王丹，马向红，谢冬冬，齐威，陈进新，齐月静，
申请(专利权)人：中国科学院微电子研究所，
类型：发明
国别省市：北京;11