双工器、介质滤波器及其容性耦合结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种双工器、介质滤波器及其容性耦合结构，容性耦合结构包括设于介质本体中相邻的两个介质谐振器之间、按第一预设长度和预设深度设置的第一调节槽，所述第一调节槽的一端与所述介质本体的一侧壁间隔设置，所述第一调节槽的另一端与所述介质本体的另一侧壁连通或所述第一调节槽的另一端与隔绝窗口连通。所述容性耦合结构生产难度低，也方便进行后续的生产调试；如此，采用所述容性耦合结构的介质滤波器的生产难度低，生产调试难度低；如此，采用所述介质滤波器的双工器的生产难度低，生产调试难度低。

Diplexer, dielectric filter and its capacitive coupling structure

【技术实现步骤摘要】
双工器、介质滤波器及其容性耦合结构
本技术涉及滤波器
，具体涉及一种双工器、介质滤波器及其容性耦合结构。
技术介绍
随着通信技术的高速发展，为了满足使用需求，通信器件也日益小型化。介质滤波器因其具备小型化的特点，在通信设备中得到了广泛的应用。为实现良好的损耗和抑制的效果，介质滤波器通常通过增加交叉耦合的方式以达到更好的性能以及更小的体积，因此需在介质滤波器上设置容性耦合结构。介质滤波器为实现容性耦合的目地，传统的做法通常在介质本体中相邻的两个介质谐振器之间设置深孔，通过调节深孔的底壁与介质本体的下表面之间的间距以调节容性耦合带宽，其中，深孔的底壁与介质本体的下表面之间的间距越小，容性耦合带宽越小，为了实现小的容性耦合带宽，深孔的底壁与介质本体的下表面之间的间距需要足够小，在成产过程的烧结工艺中，不利于烧结成型，增加了生产难度，也不利于后续的生产调试。
技术实现思路
基于此，提出了一种双工器、介质滤波器及其容性耦合结构，所述容性耦合结构生产难度低，也方便进行后续的生产调试；如此，采用所述容性耦合结构的介质滤波器的生产本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种介质滤波器的容性耦合结构，其特征在于，包括设于介质本体中相邻的两个介质谐振器之间、按第一预设长度和预设深度设置的第一调节槽，所述第一调节槽的一端与所述介质本体的一侧壁间隔设置，所述第一调节槽的另一端与所述介质本体的另一侧壁连通或所述第一调节槽的另一端与隔绝窗口连通。/n

【技术特征摘要】
1.一种介质滤波器的容性耦合结构，其特征在于，包括设于介质本体中相邻的两个介质谐振器之间、按第一预设长度和预设深度设置的第一调节槽，所述第一调节槽的一端与所述介质本体的一侧壁间隔设置，所述第一调节槽的另一端与所述介质本体的另一侧壁连通或所述第一调节槽的另一端与隔绝窗口连通。


2.根据权利要求1所述的介质滤波器的容性耦合结构，其特征在于，所述第一调节槽的底壁按第二预设长度设有第二调节槽，所述第二调节槽贯穿所述介质本体，所述第二调节槽的一端与所述介质本体的另一侧壁连通或所述第二调节槽的一端与所述隔绝窗口连通。


3.根据权利要求2所述的介质滤波器的容性耦合结构，其特征在于，所述第二调节槽的长度为W1，且W1可调。


4.根据权利要求2所述的介质滤波器的容性耦合结构，其特征在于，所述第二调节槽的另一端的侧壁设置为第一圆弧段，和/或所述第一调节槽的一端的侧壁设置为第二圆弧段。


5.根据权利要求1所述的介质滤波器的容性耦合结构，其特征在于，所述第一调节槽的长度为W2，且W2可调，和/或所述第一调节槽的深度为H，且...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢懿非，丁海，林显添，
申请(专利权)人：京信通信技术广州有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44