不含六价铬的蚀刻锰回收系统技术方案

本发明专利技术提供了用于回收锰蚀刻剂溶液的方法，其中收集并蒸发用于在蚀刻非导电基板之后冲洗或中和基板的处理溶液，以提供浓缩的处理溶液，该溶液被进料回到锰蚀刻剂溶液或酸冲洗液中。

Recovery system of etching manganese without hexavalent chromium

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】不含六价铬的蚀刻锰回收系统相关申请的交叉引用本专利申请要求2017年7月10日提交的美国临时申请号62/530,473的优先权，该申请据此全文以引用方式并入。
本公开涉及不含六价铬的蚀刻锰回收系统。
技术介绍
本部分提供与本公开相关的背景信息，其不一定是现有技术。金属化非导电基板的许多常规工艺包括蚀刻基板，然后活化，然后进行无电镀金属化。无电镀金属化使得非导电基板具有导电性，从而允许后续的传统电镀工艺。在许多此类工艺中，通过将非导电基板浸渍在铬酸-硫酸混合物中来实现基板的蚀刻。许多此类蚀刻工艺主要利用六价铬。然而，在过去几年中，六价铬蚀刻剂的使用由于六价铬造成的保健风险而下降。然而其它方法避免了在蚀刻剂溶液中完全使用铬并迁移到其它溶液，包括基于锰的蚀刻剂溶液。Mn蚀刻剂溶液具有其它独特的挑战。持续需要进一步降低与Mn蚀刻剂溶液相关的成本。
技术实现思路
本部分提供了对本公开的总体概述，并且未全面公开其全部范围或其所有特征。本专利技术的技术提供了用于回收在锰蚀刻剂工艺中使用的锰的方法。该方法包括在用蚀刻剂溶液蚀刻非导电基板之后用中和剂溶液中和基板。中和剂溶液包含由酸和氧化剂构成的溶液。去除使用的中和剂溶液或含锰的冲洗液(本文中称为处理溶液)的至少一部分，并且将其送至蒸发处理槽中，在蒸发处理槽中蒸发处理溶液以从剩余的所用处理溶液中去除任何氧化剂和浓缩物。将浓缩的处理溶液添加到蚀刻剂或酸冲洗溶液中。在其它实施方案中，浓缩的处理溶液被浓缩至大于或等于约2g/LMn。在其它实施方案中，蒸发器组件包括大气蒸发器或真空蒸发器。在其它实施方案中，蒸发器组件包括蒸发处理槽。在其它实施方案中，加热蒸发处理槽并用剧烈空气处理来处理。在各种实施方案中，蚀刻剂溶液包含锰离子源。本专利技术的技术还提供了回收用于在锰蚀刻中使用的锰蚀刻剂溶液的方法。该方法包括在用蚀刻剂溶液蚀刻非导电基板之后用中和剂溶液中和基板。中和剂溶液包含酸和氧化剂中的至少一种。将处理溶液的至少一部分浓缩至蚀刻剂溶液的浓度。将浓缩的处理溶液进料到蚀刻剂处理中。在其它实施方案中，浓缩的处理溶液被浓缩至大于或等于约2g/LMn。在其它实施方案中，中和剂溶液包含酸和氧化剂。在甚至另外的实施方案中，将处理溶液的至少一部分转移到蒸发器处理槽中以浓缩处理溶液。蒸发器组件还可包括大气蒸发器或真空蒸发器。在其它实施方案中，蒸发器组件还可包括蒸发处理槽。在其它此类实施方案中，可使用剧烈空气处理对蒸发处理槽进行加热和处理。在其它实施方案中，蚀刻剂溶液包含锰离子源。本专利技术的技术还提供了用于回收锰蚀刻剂溶液的蒸发系统。蒸发系统包括蒸发器组件，并且蒸发器组件被配置成从处理溶液中蒸发水以形成浓缩的处理溶液。蒸发器组件可转印地连接到被配置成用于在无电镀金属化处理中使用的处理槽。处理槽容纳被配置成转移到蒸发槽中的处理溶液。在其它实施方案中，蒸发器组件还包括蒸发处理槽。在其它此类实施方案中，蒸发处理槽还包括加热器和空气搅拌器。在其它实施方案中，当浓缩的处理溶液被浓缩至大于或等于约2g/LMn时，蒸发器组件排放浓缩的处理溶液。在甚至另外的实施方案中，蒸发器组件在蚀刻剂处理中将浓缩的处理溶液排放到槽中。蚀刻剂处理可包括锰离子源。在各种实施方案中，处理溶液包含酸。根据本文提供的描述，其它适用领域将变得显而易见。本
技术实现思路
中的描述和具体示例仅旨在用于说明目的并且不旨在限制本公开的范围。附图说明本文描述的附图仅用于所选实施方案的说明性目的而不是所有可能的具体实施，并且不旨在限制本公开的范围。图1示出了用于制备无电镀金属化基板的方法的流程图；图2示出了根据本公开的代表性蒸发组件；图3示出了普通锰离子源上的蒸发器组件的流程图。图4示出了用于蒸发器从酸冲洗液进行收集以提供蚀刻剂浴和/或酸冲洗液的方法的流程图。图5示出了采用蒸发组件的锰回收示例的处理参数，该蒸发组件使用酸冲洗液作为锰离子源。图6为描绘图4的实施例的结果的图；图7示出了用于蒸发器从中和剂处理进行收集以提供酸冲洗液的方法的流程图。图8示出了采用蒸发组件的锰回收的另一个示例的处理参数，并且图9是描绘图7的实施例的结果的图。在附图的若干视图中，对应的附图标记表示对应的部件。具体实施方式提供了示例性实施方案使得本公开将是详尽的，并且将向本领域技术人员完整地传达范围。阐述了许多具体细节，诸如具体组合物、组分、装置和方法的示例，用于提供对本公开的实施方案的彻底理解。本领域技术人员将明白的是，不需要采用具体细节、可以许多不同形式实施示例性实施方案，且不应被解释为限制本公开的范围。在一些示例性实施方案中，没有详细描述公知工艺、公知装置结构以及公知技术。本文中所使用的术语仅仅用于描述特定示例性实施方案的目的，而不旨在限制。如本文中所使用，除非上下文另有明确指示，否则单数形式“a”、“an”和“the”也可以旨在包括复数形式。术语“包括(comprises、comprising、including)”和“具有”是包括性的并且因此规定所述特征结构、元件、组合物、步骤、整数、操作、和/或部件的存在，但是不排除一个或多个其它特征结构、整数、步骤、操作、元件、部件和/或其组的存在或添加。虽然开放式术语“包括”应被理解为用于描述和要求本文所阐述的各种实施方案的非限制性术语，但在某些方面，该术语可另选地理解为更限制性和限制的术语，诸如“由...组成”或“基本上由...组成”。因此，对于列举组合物、材料、部件、元件、特征、整数、操作和/或方法步骤的任何给定实施方案，本公开还具体地包括由上述组合物、材料、部件、元件、特征、整数、操作和/或方法步骤组成或基本上由其组成的实施方案。在“由...组成”的情况下，可供选择的实施方案不包括任何附加的组合物、材料、部件、元件、特征、整数、操作和/或方法步骤，而在“基本上由...组成”的情况下，此类实施方案不包括实质上影响基本和新颖特征的任何附加的组合物、材料、部件、元件、特征、整数、操作和/或方法步骤，但是不实质上影响基本和新颖特征的任何组合物、材料、部件、元件、特征、整数、操作和/或方法步骤可被包括在该实施方案中。除非具体指明按顺序执行，否则本文中所述的任何方法步骤、工艺以及操作不应被理解为它们一定需要以所讨论或所说明的特定顺序来执行。还应理解的是，除非另外指明，否则可以采用附加的或可选的步骤。当部件、元件或层被称为“在...上”、“接合到”、“连接到”或“联接到”另一元件或层时，可以直接在、接合到、连接到或联接到另一部件、元件或层上，或者可存在中间元件或层。相反，当元件被称为“直接在...上”、“直接接合到”、“直接连接到”或“直接联接到”另一元件或层时，可不存在中间元件或层。用于描述元件之间关系的其它词语应当以类似的方式解释(例如，“介于”与“直接介于”、“相邻”与“直接相邻”等)。如本文所使用，术语“和/或”包括相关联的列出项目中的一个或多个的任何和所有组合。<本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于回收锰蚀刻剂溶液的方法，所述方法包括：/n在用蚀刻剂溶液蚀刻非导电基板之后用中和剂中和所述基板，其中所述中和剂包含含有酸和氧化剂的溶液；/n从所述中和剂或含锰的冲洗物中将处理溶液的至少一部分去除至蒸发器组件；/n蒸发所述蒸发器组件中的所述处理溶液以去除水以形成浓缩的处理溶液；以及/n将所述浓缩的处理溶液添加到所述蚀刻剂溶液或酸冲洗液中。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170710 US 62/530,4731.一种用于回收锰蚀刻剂溶液的方法，所述方法包括：
在用蚀刻剂溶液蚀刻非导电基板之后用中和剂中和所述基板，其中所述中和剂包含含有酸和氧化剂的溶液；
从所述中和剂或含锰的冲洗物中将处理溶液的至少一部分去除至蒸发器组件；
蒸发所述蒸发器组件中的所述处理溶液以去除水以形成浓缩的处理溶液；以及
将所述浓缩的处理溶液添加到所述蚀刻剂溶液或酸冲洗液中。


2.根据权利要求1所述的方法，其中将所述浓缩的处理溶液浓缩至大于或等于约2g/LMn。


3.根据权利要求1所述的方法，其中所述蒸发器组件还包括常压蒸发器或真空蒸发器。


4.根据权利要求1所述的方法，其中所述蒸发器组件还包括蒸发处理槽。


5.根据权利要求1所述的方法，其中所述蒸发处理槽在温度控制下并且在受控空气处理的情况下操作。


6.根据权利要求5所述的方法，其中所述温度为约155°F至约180°F。


7.根据权利要求5所述的方法，其中所述受控空气处理处于约1880lb/hr至约2090lb/hr的流速。


8.根据权利要求6所述的方法，其中所述受控空气处理处于约1880lb/hr至约2090lb/hr的流速。


9.根据权利要求1所述的方法，其中所述处理溶液包含锰离子源。


10.一种用于回收锰蚀刻剂溶液的方法，所述方法包括：
在用蚀刻剂溶液蚀刻非导电基板之后，任选地在基于酸的冲洗物中冲洗并且然后用中和剂中和所述基板，其中所述中和剂包含酸和氧化剂中的至少一种；
将处理溶液的至少一部分浓缩至与所述蚀刻剂溶液类似的浓度；以及
将所述浓缩的处理溶液进料到所述蚀刻剂溶液或酸冲洗液中。


11.根据权利要求10所述的方法，其中将...

【专利技术属性】
技术研发人员：马克·鲍曼，丹尼尔·莱西，格里·沃格尔波尔，
申请(专利权)人：SRG全球有限公司，
类型：发明
国别省市：美国;US