半导体、太阳能电池用印刷掺杂浆料制造技术

技术编号:23459833 阅读:83 留言:0更新日期:2020-03-03 05:49
本发明专利技术提供一种用于半导体、太阳能电池的印刷浆料,该浆料含有:掺杂剂A、聚合物B、有机硅C、增稠剂D、和混合溶剂E;其中,所述有机硅C为含有式1所示结构的聚合物:

Printing dopant for semiconductor and solar cell

【技术实现步骤摘要】
半导体、太阳能电池用印刷掺杂浆料
本专利技术涉及一种用于半导体、太阳能电池用的印刷掺杂浆料。具体涉及印刷用掺杂浆料的组成、以及使用此材料的半导体单元的掺杂方法。
技术介绍
在以往的半导体或者太阳能电池的制造中,在半导体基板中形成p型或者n型杂质扩散层或局部掺杂的情况下,虽然使用气体掺杂剂或者掺杂浆料的方法均被提出过。但是,使用前述现有气体掺杂剂或者掺杂浆料进行高温热扩散时,在形成图案,进行局部扩散时,或单面扩散时,为了防止对非扩散面的污染,需要扩散前在非扩散区域形成掩膜,扩散后再去除掩膜,从而导致工艺过程冗长、复杂。尤其是对于目前广受关注的双面电池,需要在正反两面进行p型和n型的掺杂,或者局部重掺杂,使用传统的气体扩散方法,工艺更加冗长、复杂,并且成本也相应提高(文献[1])。专利文献[1]:魏青竹、陆俊宇、连维飞、倪志春,N型双面电池及其制作方法:中国,CN201510020649.4[P].2015-01-15.[1]
技术实现思路
本专利技术针对现有技术的不足,提供一种印刷用掺杂浆料,以及可简单实施的整面或局部的掺杂方法,利用该浆料可以简化传统的扩散工艺,降低生产成本。该印刷掺杂浆料可以借助印刷的方法,将扩散源涂布在硅片表面,不需要掩膜即可形成所需图案,并且浆料组成中含有减少气中扩散,形成阻隔层的成分,在没有掩膜的情况下,使用传统的扩散工艺,也可实现两种掺杂剂同时或次第扩散,而不相互影响,最终达到减少工艺步骤、降低成本的效果。本专利技术公开了一种用于太阳能和半导体的可印刷掺杂浆料,含有:掺杂剂A、聚合物B、有机硅C、增稠剂D、和混合溶剂E;其中,所述有机硅C为含有式1所示结构的聚合物:其中,式1中R1为氢、羟基、烷基或烷氧基中的任意一种;R2为含杂原子的烷基或氢;p=0~8,q=0~8,且p+q=1~8。由于考虑到溶解性优选R1为氢或羟基;R2为碳原子数为1~6且含杂原子的烷基,其中所含杂原子为O、S或N;由于考虑到结构稳定性,优选p=0~6,q=0~6,且p+q=1~6。优选所述式1中结构为环氧乙烷基、环氧丙烷基、环氧丁烷基、环氧戊烷基、1,3-环氧丙烷基、1,4-环氧丁烷基、1,5-环氧戊烷基或1,6-环氧己烷基中的任意一种;由于考虑到原料是否易得进一步优选环氧乙烷基、环氧丙烷基、环氧丁烷基、1,3-环氧丙烷基、1,4-环氧丁烷基中的任意一种。除上述式1外,所述有机硅C中还含有由式1环氧基团开环得到的下述式2所示的结构片段:式2结构片段的摩尔含量即开环率r/(r+m)=0~50%。由于开环率太高会影响浆料长期保存的稳定性,因此优选开环率r/(r+m)=0~30%,进一步优选开环率r/(r+m)=0~10%。基于稳定性和溶解性的考虑,有机硅C的重均分子量为1000~20000,优选有机硅C的重均分子量为3000~8000。基于浆料阻隔性和扩散性两方面的考虑,有机硅C的含量为浆料总重量的2%~25%。本专利技术对有机硅C的结构没有特别的限定,可列举出如下例子:由于考虑到原料是否易得,优选掺杂剂成分A为硼或磷化合物,出于成本考虑,掺杂剂A优选价格低廉,原料易得的无机硼化合物或无机磷化合物,进一步优选硼酸、三氧化二硼、磷酸、偏磷酸、五氧化二磷或氯化磷。更进一步优选硼酸或三氧化二硼中的一种或多种。出于杂质扩散成分分散均匀性、稳定性的考虑,优选掺杂剂成分A的含量为掺杂浆料总重量的1%~10%,进一步优选掺杂剂成分A的含量为掺杂浆料总重量的1%~5%。为了提高掺杂剂A在掺杂浆料中和后续印刷、干燥过程中的分散均匀性和稳定性,在体系中加入了聚合物B,基于溶解性的考虑,优选聚合物B为水溶性聚合物,聚合物B的重复单元中含有醇羟基,聚合物B中的羟基与掺杂剂A相互络合,生成了含有下式3或4所示结构的聚合物,既提高了掺杂剂A的分散均匀性,也提高了聚合物B在体系中的溶解性和稳定性。所述R4为氢、羟基或烷基中的一种。对于所述聚合物B没有特别的限定,优选聚丙烯酸、聚丙烯醇或聚乙烯醇中的任意一种或多种。基于溶解性和扩散时热分解难易的考虑,所述聚合物B的重均分子量为1000~300000,进一步优选所述聚合物B的重均分子量为3000~100000。聚合物B的含量为掺杂浆料总重量的1%~20%。基于溶解性的考虑,优选增稠剂D为水溶性聚合物,出于成本和是否易得考虑,进一步优选增稠剂D为甲基纤维素、乙基纤维素、丙基纤维素、羟甲基纤维素、羟乙基纤维素、羟丙基纤维素、羧甲基纤维素、甲基羟乙基纤维素、乙基羟乙基纤维素、甲基羟丙基纤维素、醋酸纤维素、醋酸丁酸纤维素、聚丙烯酰胺、聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、聚氧化乙烯、卡波树脂、聚丙烯酸、聚丙烯酸酯或聚氨酯中的一种或多种。为提高浆料的稳定性和减少絮凝和拉丝,增稠剂D的主体结构中不含醇羟基,更进一步优选增稠剂D为聚氨酯、聚丙烯酰胺、聚乙烯吡咯烷酮或聚丙烯酸酯的一种或多种。出于热稳定性、分散性、流平行、透明性的考虑,再进一步优选聚氨酯、聚丙烯酰胺或聚乙烯吡咯烷酮中的一种或多种。出于增稠效果的考虑增稠剂D的重均分子量为100000~2000000,增稠剂D的含量为掺杂浆料总重量的2%~20%,优选增稠剂D的含量为掺杂浆料总重量的4%~10%。出于对扩散剂A,聚合物B,增稠剂D的溶解性的考虑,混合溶剂E为水和有机溶剂的混合物,其中水的含量为0~50%,为提高印刷性能,有机溶剂优选为可与水互溶且沸点为100~300℃的有机溶剂。对于有机溶剂没有特别的限定,优选1-甲氧基-2-丙醇、二丙酮醇、3-甲氧基-3-甲基丁醇、二乙二醇甲乙醚、丙二醇、二乙二醇单丁醚、二丙二醇单甲醚、松油醇、二乙二醇单甲醚、一缩二乙二醇、乳酸甲酯或乳酸乙酯等。所述印刷掺杂浆料中掺杂剂成分A、聚合物B、有机硅C和增稠剂D的总含量为掺杂浆料总重量的5~25%,优选10~20%。本专利技术所述的印刷掺杂浆料,除上述的掺杂剂成分A、有机硅B、聚合物C、增稠剂D、和溶剂E以外,还可以含有其他助剂,如相转移催化剂、消泡剂等。相转移催化剂:提高浆料各组分间的相溶性。消泡剂:快速消除气泡,改善印刷品质。本专利技术所述的印刷掺杂浆料可以通过丝网印刷、柔版印刷、凹版印刷、胶版印刷、喷墨印刷、辊涂或喷涂等方法进行处理和沉积。本专利技术还公开了一种杂质扩散层的形成方法,其含有以下步骤:使用上述所述的可印刷掺杂浆料在硅基板的一侧整面印刷,或在硅基板的一侧或两侧上局部印刷掺杂浆料,干燥得到涂源层;经扩散使涂源层中的硼扩散至基板中形成杂质扩散层或局部掺杂区。本专利技术提供的印刷用掺杂浆料,印刷性能优良,可有效解决印刷过程中常见的拉丝、均匀性差、保存不稳定等问题。其次,利用本专利技术提供的浆料进行杂质掺杂,不需要用使用掩膜,即可具有阻隔性,可有效抑制污染,简化了生产步骤,降低生产成本。再次,使用该印刷用掺杂浆本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于太阳能电池和半导体的可印刷掺杂浆料,其特征在于,含有:/n掺杂剂A、/n聚合物B、/n有机硅C、/n增稠剂D、和/n混合溶剂E;/n其中,/n所述有机硅C为含有式1所示结构片段的聚合物:/n

【技术特征摘要】
1.一种用于太阳能电池和半导体的可印刷掺杂浆料,其特征在于,含有:
掺杂剂A、
聚合物B、
有机硅C、
增稠剂D、和
混合溶剂E;
其中,
所述有机硅C为含有式1所示结构片段的聚合物:



其中,式1中R1为氢、羟基、烷基或烷氧基中的任意一种;
R2为含杂原子的烷基或氢;
p=0~8,q=0~8,且p+q=1~8。


2.根据权利要求1所述的用于太阳能电池和半导体的可印刷掺杂浆料,其特征在于:所述R1为氢或羟基。


3.根据权利要求1所述的用于太阳能电池和半导体的可印刷掺杂浆料,其特征在于:所述R2为碳原子数为1~6且含杂原子的烷基,其中所含杂原子为O、S或N。


4.根据权利要求1所述的用于太阳能电池和半导体的可印刷掺杂浆料,其特征在于:所述p=0~6,q=0~6,且p+q=1~6。


5.根据权利要求4所述的用于太阳能电池和半导体的可印刷掺杂浆料,其特征在于:所述式1中结构为环氧乙烷基、环氧丙烷基、环氧丁烷基、环氧戊烷基、1,3-环氧丙烷基、1,4-环氧丁烷基、1,5-环氧戊烷基或1,6-环氧己烷基中的任意一种。


6.根据权利要求1所述的用于太阳能电池和半导体的可印刷掺杂浆料,其特征在于:所述有机硅C中还含有由式1环氧基团开环得到的下述式2所示的结构片段:



所述式2结构片段的摩尔含量即开环率r/(r+m)=0~50%。


7.根据权利要求6所述的用于太阳能电池和半导体的可印刷掺杂浆料,其特征在于:所述开环率r/(r+m)=0~30%。

...

【专利技术属性】
技术研发人员:李平徐芳荣池田武史
申请(专利权)人:东丽先端材料研究开发中国有限公司
类型:发明
国别省市:上海;31

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1