硬化性组合物、显示元件及硬化膜的形成方法技术

本发明专利技术的目的在于提供一种在提高保存稳定性及放射线感度的同时，即便为通过200℃以下的硬化煅烧工艺而获得的膜也可形成硬度高、耐溶剂性优异的硬化膜的硬化性组合物、显示元件及硬化膜的形成方法。用以解决所述课题而成的发明专利技术为一种硬化性组合物，其含有(A)具有聚合性基的化合物、(B)感光剂、(C)热活性型延迟荧光化合物。

Hardening composition, display element and forming method of hardening film

【技术实现步骤摘要】
硬化性组合物、显示元件及硬化膜的形成方法
本专利技术涉及一种硬化性组合物、显示元件及硬化膜的形成方法。
技术介绍
在液晶显示元件、有机电致发光元件(有机EL(electroluminescence)元件)、电子纸元件等显示元件中，设置有用于防止以触摸屏为代表的电子零件的劣化或损伤的保护膜、用于保持配置成层状的配线间的绝缘性的层间绝缘膜、用于提高开口率的平坦化膜等硬化膜。在此种硬化膜的形成时使用感放射线性的硬化性组合物，例如在基板上形成硬化性组合物的涂膜，介隔具有规定图案的光掩模进行曝光，利用显影液进行显影并去除不需要的部分，然后进行加热(后烘烤)，由此获得硬化膜。对所述硬化性组合物要求即使长期保存粘度也不会变得过高(保存稳定性)、以及放射线感度良好。另外，对由所述硬化性组合物所获得的硬化膜要求硬度高、以及对硬化膜形成的后续工序中使用的溶剂的耐受性(耐溶剂性)优异。进而，关于此种硬化膜形成，通常根据200℃以上的硬化煅烧工艺，就减少环境负荷、防止针对塑料基板的应对或耐热性不足的染料或有机发光体的热劣化的观点而言，研究200℃以下的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种硬化性组合物，含有：/n(A)具有聚合性基的化合物；/n(B)感光剂；以及/n(C)热活性型延迟荧光化合物。/n

【技术特征摘要】
20180821 JP 2018-1550151.一种硬化性组合物，含有：
(A)具有聚合性基的化合物；
(B)感光剂；以及
(C)热活性型延迟荧光化合物。


2.根据权利要求1所述的硬化性组合物，其中所述(C)热活性型延迟荧光化合物为下述式(1)或式(2)所示的化合物，



式(1)、式(2)中，R1至R7中的至少一个表示氢原子、碳数1至12的烷基、苯基、甲苯基、萘基、氰基、式(X)所表示的基；
式(X)中，R21至R28各自独立地表示氢原子或取代基；其中，满足＜A＞或＜B＞中的至少一者；
＜A＞R25与R26一起形成单键；
＜B＞R27与R28一起形成经取代或未经取代的苯环。


3.根据权利要求1或2所述的硬化性组合物，其特征在于：所述式(X)表示9-咔唑基、3,6-二(叔丁基)-9-咔唑基、经取代或未经取代的1,2,3,4-四氢-9-咔唑基、经取代或未经取代的1-吲哚基、或者经取代或未经取代的二芳基氨基。

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【专利技术属性】
技术研发人员：栗山敬祐，一户大吾，
申请(专利权)人：JSR株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP