硬化层材料、硬化层材料的制备方法及显示装置制造方法及图纸

技术编号:23440151 阅读:39 留言:0更新日期:2020-02-28 16:18
在本申请所提供的硬化层材料、硬化层材料的制备方法及显示装置中,所述硬化层材料的结构式为

Preparation method and display device of hardening layer material and hardening layer material

【技术实现步骤摘要】
硬化层材料、硬化层材料的制备方法及显示装置
本申请涉及显示领域,具体涉及一种硬化层材料、硬化层材料的制备方法及显示装置。
技术介绍
目前,因为理想的硬化层拥有着优异的机械性能、良好的光学透明性和容易加工等特点,因此硬化层被应用到了显示屏的保护膜上,现在硬化层材料已经成为显示屏的保护膜的材料的主要选择。近年来,硬化层主要是采用聚丙烯酸酯、聚氨酯等一些有机高分子材料来作为硬化层材料,但是这些材料的表面硬度较低、抗摩擦性能差,会影响硬化层的机械性能,从而不利于硬化层在显示屏的保护膜这一领域的应用。因此,如何选用一种新的硬化层材料来提高硬化层的机械性能是全世界面板厂家正在努力攻克的难关。
技术实现思路
本申请提供一种硬化层材料、硬化层材料的制备方法及显示装置,可以解决现有的硬化层材料因表面硬度较低、抗摩擦性能差从而影响硬化层的机械性能的技术问题。一种硬化层材料,所述硬化层材料的结构式为其中,所述R的结构式为中的一种,所述m和n的值均在30到70之间,且所述m和n的值相同。一种硬化层材料的制备方法,包括本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种硬化层材料,其特征在于,所述硬化层材料的结构式为

【技术特征摘要】
1.一种硬化层材料,其特征在于,所述硬化层材料的结构式为其中,所述R的结构式为中的一种,所述m和n的值均在30到70之间,且所述m和n的值相同。


2.一种硬化层材料的制备方法,其特征在于,包括:
提供第一反应物和第二反应物,所述第一反应物和所述第二反应物进行反应生成所述硬化层材料,其中,所述第一反应物的结构式为所述第二反应物的结构式为所述硬化层材料的结构式为其中,所述R的结构式为中的一种,所述m和n的值均在30到70之间,且所述m和n的值相同。


3.如权利要求2所述的硬化层材料的制备方法,其特征在于,在所述第一反应物和所述第二反应物进行反应生成所述硬化层材料中,所述第一反应物的摩尔量和所述第二反应物的摩尔量的对应关系为1摩尔的所述第一反应物对应1摩尔的所述第二反应物。


4.如权利要求2所述的硬化层材料的制备方法,其特征在于,所述第一反应物和所述第二反应物在第一溶液中进行反应生成所述硬化层材料中,所述第一溶液包括四氢呋喃、水和第一添加剂,所述第一添加剂包括碳酸钾、碳酸钠、碳酸氢钠中的一种或几种的组合。


5.如权利要求2所述的硬化层材料的制备方法,其特征在于,所述第一反应物和所述第二反应物进行反应生成所述硬化层材料的反应温度为室温。


6.如权利要求2所述的硬化层材料的制备方法,其特征在于,所述第一反应物和所述第二反应物进行...

【专利技术属性】
技术研发人员:赵远
申请(专利权)人:武汉华星光电半导体显示技术有限公司
类型:发明
国别省市:湖北;42

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