一种用于碳化硅炉炉腔压力控制的控压装置制造方法及图纸

技术编号:23371507 阅读:27 留言:0更新日期:2020-02-18 21:42
本实用新型专利技术涉及一种压力装置,尤其涉及一种用于碳化硅炉炉腔压力控制的控压装置。包括碳化硅炉腔体,碳化硅炉腔体设有腔体进气口与腔体出气口;腔体出气口与主真空管路一端相连;主真空管路另一端与真空泵相连;主真空管路上设有真空阀与旁路支路;旁路支路为若干并联的控压支路,各个控压支路上均设有真空阀;控压支路直径小于主真空管路,且各个控压支路的直径各不相等。本实用新型专利技术由于该装置存在几路不同大小的管径,使得通气量具有可调性,因此可根据实际的使用经验改进管径大小及数量,因此配合真空泵变频使得腔体内部压力在惰性气体的充入和抽吸过程中容易达到平衡。

A pressure control device for pressure control of silicon carbide furnace cavity

【技术实现步骤摘要】
一种用于碳化硅炉炉腔压力控制的控压装置
本技术涉及一种压力装置,尤其涉及一种用于碳化硅炉炉腔压力控制的控压装置。
技术介绍
在生长碳化硅晶体时需要持续不断地向碳化硅炉的腔体内部充入惰性气体,同时必须保证腔体内部压力恒定,而在晶体生长的不同阶段,对于炉腔压力的需求也有很大不同,而且控压精度要求也很高,不允许有较大波动。由于腔体内部的封闭性及须与大气隔离,因此必须通过一种特有的装置来排出多余的惰性气体。目前普遍通过特制的真空阀来保持压力平衡,但这些特制的真空阀价格昂贵调节困难且精度难以达到技术要求。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是,克服现有技术中的不足,提供一种用于碳化硅炉炉腔压力控制的控压装置。为解决上述技术问题,本技术采用的解决方案是:提供一种用于碳化硅炉炉腔压力控制的控压装置,包括碳化硅炉腔体,碳化硅炉腔体设有腔体进气口与腔体出气口;腔体出气口与主真空管路一端相连;主真空管路另一端与真空泵相连;主真空管路上设有真空阀与旁路支路;旁路支路为若干并联的控压支路,各个控压支路上均设有真空阀;控本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于碳化硅炉炉腔压力控制的控压装置,包括碳化硅炉腔体,碳化硅炉腔体设有腔体进气口与腔体出气口;腔体出气口与主真空管路一端相连;其特征在于:/n主真空管路另一端与真空泵相连;所述主真空管路上设有真空阀与旁路支路;/n所述旁路支路为若干并联的控压支路,各个控压支路上均设有真空阀;所述控压支路直径小于主真空管路,且各个控压支路的直径各不相等。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于碳化硅炉炉腔压力控制的控压装置,包括碳化硅炉腔体,碳化硅炉腔体设有腔体进气口与腔体出气口;腔体出气口与主真空管路一端相连;其特征在于:
主真空管路另一端与真空泵相连;所述主真空管路上设有真空阀与旁路支路;
所述旁路支路为若干并联的控压支路,各个控压支路上均设有真空阀;所述控...

【专利技术属性】
技术研发人员:胡建荣高宇倪军夫董熔成石明智陈吉傅林坚曹建伟李欢
申请(专利权)人:浙江晶盛机电股份有限公司
类型:新型
国别省市:浙江;33

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