一种基板及其制备方法、显示面板及显示装置制造方法及图纸

技术编号:23317222 阅读:19 留言:0更新日期:2020-02-11 18:33
本发明专利技术提供了一种基板及其制备方法、显示面板及显示装置,涉及检测技术领域。其中,基板包括衬底、多个超声传感器件和多个光敏器件,超声传感器件和光敏器件同层设置在衬底上;超声传感器件包括空腔结构和第一缓冲层,光敏器件包括光敏结构和第二缓冲层,第一缓冲层和第二缓冲层同层设置,空腔结构位于衬底与第一缓冲层之间,光敏结构位于衬底与第二缓冲层之间。本发明专利技术中,超声传感器件和光敏器件同层设置在衬底上,该基板在一次检测过程中可同时获得目标区域的三维信息,提高了三维信息的检测效率。另外,超声传感器件和光敏器件共用缓冲层,空腔结构和光敏结构均位于衬底和共用缓冲层之间,从而两种器件可以共同制备出,工艺简单。

【技术实现步骤摘要】
一种基板及其制备方法、显示面板及显示装置
本专利技术涉及检测
,特别是涉及一种基板及其制备方法、显示面板及显示装置。
技术介绍
如今,检测技术在生物领域的应用越来越广泛,从而可以帮助人们获得更多的生理信息。例如在皮肤检测方面,可以分别检测皮肤表面的二维信息,以及深入皮肤的深度信息,通过结合上述两种信息,可以从三维角度对皮肤进行研究和分析。然而,在目前的应用中,由于同一个目标区域的二维信息和深度信息需要分别进行检测,因此检测效率较低。
技术实现思路
本专利技术提供一种基板及其制备方法、显示面板及显示装置,以解决现有的检测三维信息的检测效率较低的问题。为了解决上述问题,本专利技术公开了一种基板,包括衬底、多个超声传感器件和多个光敏器件,所述超声传感器件和所述光敏器件同层设置在所述衬底上;所述超声传感器件包括空腔结构和第一缓冲层,所述光敏器件包括光敏结构和第二缓冲层,所述第一缓冲层和所述第二缓冲层同层设置,所述空腔结构位于所述衬底与所述第一缓冲层之间,所述光敏结构位于所述衬底与所述第二缓冲层之间。可选本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板,其特征在于,包括衬底、多个超声传感器件和多个光敏器件,所述超声传感器件和所述光敏器件同层设置在所述衬底上;所述超声传感器件包括空腔结构和第一缓冲层,所述光敏器件包括光敏结构和第二缓冲层,所述第一缓冲层和所述第二缓冲层同层设置,所述空腔结构位于所述衬底与所述第一缓冲层之间,所述光敏结构位于所述衬底与所述第二缓冲层之间。/n

【技术特征摘要】
1.一种基板,其特征在于,包括衬底、多个超声传感器件和多个光敏器件,所述超声传感器件和所述光敏器件同层设置在所述衬底上;所述超声传感器件包括空腔结构和第一缓冲层,所述光敏器件包括光敏结构和第二缓冲层,所述第一缓冲层和所述第二缓冲层同层设置,所述空腔结构位于所述衬底与所述第一缓冲层之间,所述光敏结构位于所述衬底与所述第二缓冲层之间。


2.根据权利要求1所述的基板,其特征在于,所述超声传感器件包括超声传感单元,所述超声传感单元包括:
第一极板,形成在所述衬底上;
第一绝缘层,覆盖所述第一极板;
第一钝化层,覆盖所述第一绝缘层;
所述第一缓冲层,部分覆盖所述第一钝化层,所述第一缓冲层与所述第一钝化层之间设置有所述空腔结构,所述第一极板在所述衬底上的正投影覆盖所述空腔结构在所述衬底上的正投影;
第二极板,形成在所述第一缓冲层上,所述第二极板在所述衬底上的正投影至少部分覆盖所述空腔结构在所述衬底上的正投影;
第一连接层,覆盖所述第二极板。


3.根据权利要求2所述的基板,其特征在于,所述超声传感器件还包括第一薄膜晶体管,所述第一薄膜晶体管包括:
第一电极层;
第二连接层,所述第二连接层通过第一过孔与所述第一电极层连接,所述第二连接层通过第二过孔与所述第一极板连接,所述第二连接层与所述第二极板同层设置;
第一复合树脂层,覆盖所述第二连接层。


4.根据权利要求3所述的基板,其特征在于,所述光敏器件包括光敏单元,所述光敏单元包括:
第三绝缘层,形成在所述衬底上,所述第三绝缘层与所述第一绝缘层同层设置;
所述光敏结构,包括叠层设置的第二电极层、光敏层和第三电极层,所述第二电极层靠近所述第三绝缘层设置,且部分覆盖所述第三绝缘层,所述第三电极层至少部分覆盖所述光敏层,所述第二电极层与所述第一电极层同层设置;
所述第二缓冲层,覆盖所述光敏结构;
第三连接层,形成在所述第二缓冲层上,所述第三连接层通过第三过孔与所述第三电极层连接,所述第三连接层与所述第二连接层同层设置;
第二复合树脂层,覆盖所述第二缓冲层在所述第三连接层露出的部分,所述第二复合树脂层与所述第一复合树脂层同层设置;
第四连接层,形成在所述第二复合树脂层上,所述第四连接层覆盖所述第三连接层在所述第二复合树脂层露出的部分,所述第四连接层与所述第一连接层同层设置。


5.根据权利要求4所述的基板,其特征在于,所述第二复合树脂层包括:
第三钝化层,所述第三钝化层在所述衬底上的正投影与所述光敏结构在所述衬底上的正投影不重叠;
第一树脂层,覆盖所述第三钝化层,以及所述第二缓冲层在所述第三连接层与所述第三钝化层之间露出的部分。


6.根据权利要求4所述的基板,其特征在于,所述光敏器件还包括第二薄膜晶体管,所述第二薄膜晶体管包括:
第四电极层,所述第四电极层与所述第二电极层同层设置,且与所述第二电极层连接;
第三复合树脂层,所述第三复合树脂层与所述第二复合树脂层同层设置。


7.一种基板制备方法,其特征在于,所述方法包括:
提供衬底;
在所述衬底上同层形成多个超声传感器件和多个光敏器件,所述超声传感器件包括空腔...

【专利技术属性】
技术研发人员:牛菁彭宽军张方振周婷婷彭锦涛史鲁斌任锦宇
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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