微影投影设备制造技术

本公开涉及一种微影投影设备，本公开实施例提供一种提供具有不同波长的多个光源的微影投影设备中的基板测量装置。在一些实施例中，微影投影设备包括基板测量系统，设置靠近于基板载台，基板测量系统包括：发射器，包括多个光源，配置以提供多束光束，所述多束光束中的至少一些光束中的每一者具有不同的波长，以及至少一个光纤，其中所述至少一个光纤的部分中的每一者配置以使所述多束光束中的对应的一者通过；以及接收器，定位以收集从发射器发出的光以及从设置在基板载台上的基板反射的光。

Micro shadow projector

【技术实现步骤摘要】
微影投影设备
本公开涉及一种微影投影设备。
技术介绍
半导体集成电路(integratedcircuit，IC)工业经历了指数增长。集成电路材料及设计的技术改进已产生了数个世代的集成电路，每一世代的集成电路都具有比上一世代更小及更复杂的电路。在集成电路进化过程中，功能密度(单位芯片面积的互联装置数量)通常随着几何尺寸(使用制造工艺可以创建的最小元件或线)下降而增加。这种微缩化的过程通常可提高生产效率和降低相关成本。目前已使用微影法(Photolithography)以在芯片上形成元件。随着集成电路元件的尺寸降低，需要微影工艺将更小的特征精确地、准确地、并且无损地转移到基板上。对高分辨率微影工艺的需求会造成在前几代几何维度较大的微影工艺中可能未出现的挑战。
技术实现思路
在一些实施例中提供一种微影投影设备，包括基板测量系统，设置靠近于基板载台，基板测量系统包括发射器，包括多个光源，配置以提供多束光束，多束光束中的至少一些光束中的每一者具有不同的波长；以及至少一个光纤，其中至少一个光纤的多个对应部分中的每一者配置以使光束本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种微影投影设备，包括：/n一基板测量系统，设置靠近于一基板载台，该基板测量系统包括：/n一发射器，包括：/n多个光源，配置以提供多束光束，所述多束光束中的至少一些光束中的每一者具有不同的波长；以及/n至少一个光纤，其中该至少一个光纤的多个对应部分中的每一者配置以使所述多束光束中的对应的一者通过；以及/n一接收器，定位以收集从该发射器发出的光以及从设置在该基板载台上的一基板反射的光。/n

【技术特征摘要】
20180730 US 16/049,6781.一种微影投影设备，包括：
一基板测量系统，设置靠近于一基板载台，该基板测量系统包括：
一发射器，包括：
多个光源，配置以提供多束光束，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴旻政，廖启宏，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71