一种化学气相沉积负压状态下粉末前驱体的进料装置制造方法及图纸

本发明专利技术一种化学气相沉积负压状态下粉末前驱体的进料装置，属于化学气相沉积技术领域；包括步进电机、传动组件、储料罐、球阀、金属真空管和化学气相沉积炉；传动组件同轴安装于储料罐内，其传动杆底端从端头处沿轴向依次固定安装有金属细针、金属螺纹塞和旋转叶片，其顶端穿过所述法兰盘的圆通孔与所述步进电机的转子同轴固定，通过所述步进电机带动所述传动组件旋转，所述传动杆与所述法兰盘之间为动密封结构；所述步进电机通过螺纹柱固定于所述法兰盘的上表面；采用动密封结构实现传动杆与法兰盘之间的密封，将法兰盘上方步进电机及螺纹柱隔绝在真空系统外，防止步进电机过热及防止步进电机被粉体腐蚀，且其方便安装、调试及拆卸。

A feeding device of powder precursor under negative pressure of CVD

【技术实现步骤摘要】
一种化学气相沉积负压状态下粉末前驱体的进料装置
本专利技术属于化学气相沉积
，具体涉及一种化学气相沉积负压状态下粉末前驱体的进料装置。
技术介绍
化学气相沉积技术由于其可绕性强，致密度高，制备温度低，结合力良好以及可设计性强等优点受到学术界和工程界的广泛关注。目前常见的化学气相沉积的前躯体多为气体或挥发性较强的液体。成来飞教授利用鼓泡法向反应装置内部输送甲基三氯硅烷(MTS)，成功制备出SiC涂层，并表征其抗氧化性能[ChengL,XuY,ZhangL,etal.OxidationanddefectcontrolofCVDSiCcoatingonthree-dimensionalC/SiCcomposites[J].Carbon,2002,40(12):2229-2234]。GuimonC等人利用气相输送前驱体的方法制备出BN陶瓷[GuimonC,GonbeauD,Pfister-GuillouzoG,etal.XPSstudyofBNthinfilmsdepositedbyCVDonSiCplanesubstrates[J].Surfa本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种化学气相沉积负压状态下粉末前驱体的进料装置，其特征在于：包括步进电机、传动组件、储料罐、第一球阀、第二球阀、第三球阀、金属真空管和化学气相沉积炉；/n所述储料罐包括玻璃罩和锥形漏斗，所述玻璃罩为两端开口的筒状结构，其上端口通过法兰盘密封安装，所述法兰盘中心处开有圆通孔，用于穿过所述传动组件；所述玻璃罩的下端口与所述锥形漏斗的大径端同轴密封安装，所述锥形漏斗的小径端与所述第一球阀的一端连接；所述玻璃罩侧壁上开有通孔，用于同轴固定玻璃细管，所述金属真空管一端通过橡胶塞与所述玻璃细管出口密封连接，使得所述金属真空管与所述玻璃罩内相通；所述金属真空管的另一端与所述化学气相沉积炉炉体通过所述第三...

【技术特征摘要】
1.一种化学气相沉积负压状态下粉末前驱体的进料装置，其特征在于：包括步进电机、传动组件、储料罐、第一球阀、第二球阀、第三球阀、金属真空管和化学气相沉积炉；
所述储料罐包括玻璃罩和锥形漏斗，所述玻璃罩为两端开口的筒状结构，其上端口通过法兰盘密封安装，所述法兰盘中心处开有圆通孔，用于穿过所述传动组件；所述玻璃罩的下端口与所述锥形漏斗的大径端同轴密封安装，所述锥形漏斗的小径端与所述第一球阀的一端连接；所述玻璃罩侧壁上开有通孔，用于同轴固定玻璃细管，所述金属真空管一端通过橡胶塞与所述玻璃细管出口密封连接，使得所述金属真空管与所述玻璃罩内相通；所述金属真空管的另一端与所述化学气相沉积炉炉体通过所述第三球阀连接；所述化学气相沉积炉设置于整个装置的底端，其顶端进料口与所述第一球阀的另一端连接，所述第一球阀的侧壁通过所述第二球阀与沉积进气管连接；
所述传动组件同轴安装于所述储料罐内，包括传动杆、旋转叶片、金属螺纹塞和金属细针；所述传动杆底端从端头处沿轴向依次固定安装有金属细针、金属螺纹塞和旋转叶片，其顶端穿过所述法兰盘的圆通孔与所述步进电机的转子同轴固定，通过所述步进电机带动所述传动组件旋转，所述传动杆与所述法兰盘之间为动密封结构；所述步进电机通过螺纹柱固定于所述法兰盘的上表面；
所述金属螺纹塞为锥形结构，其锥角与所述锥形漏斗的锥角相同，能够通过真空压力保证所述金属螺纹塞与所述锥形漏斗小径端的内壁压紧贴合，使得前...

【专利技术属性】
技术研发人员：冯涛，童明德，姚朔天，温世峰，林红娇，
申请(专利权)人：西北工业大学，
类型：发明
国别省市：陕西;61