一种防爆膜制造技术

本发明专利技术涉及保护膜产品技术领域，特指一种用于玻璃背板内的防爆膜。一种防爆膜，其包括：基材层，于所述的基材层的上表面依次附着光学胶层和离型膜，于所述的基材层下表面依次附着有电镀层和保护层；所述的光学胶层采用热固化光学胶涂层，并且于该光学胶层中加入有抗紫外线阻隔剂；所述的保护层为黑色膜层。本发明专利技术可以应用在手机等电子产品的玻璃背板上，其不仅具有对玻璃背板进行保护的功效，同时也可以作为玻璃背板的图案形成载体，通过镭射雕刻的图案可以直接通过玻璃背板透射出来。本发明专利技术在所述的光学胶层中加入了抗紫外线阻隔剂，这样在镭射雕刻图案时，其可以对镭射形成一定的阻隔，确保不会击穿防爆膜，同时，也可以保证不会应为激光强度过低而造成图案不连续。

An explosion-proof membrane

【技术实现步骤摘要】
一种防爆膜
：本专利技术涉及保护膜产品
，特指一种用于玻璃背板内的防爆膜。
技术介绍
：目前的移动通讯终端产品中，产品的背板也开始采用的玻璃材料，由于玻璃材料通常为透明材料，所以为了产品的美观，需要在玻璃背盖的内表喷涂或者印刷各种颜色或图案。但是，由于3D造型的玻璃表面会形成一定的弯曲曲面，所以如果要在这种3D玻璃背盖内表面通过喷涂、转印印刷等方式形成图案难度较大。另外，使用3D玻璃背盖取代传统的金属或者塑胶背盖，也会带来令一个问题，就是玻璃材料即便经过钢化处理，其抗摔能力仍较弱，在受到外力冲击时，玻璃背盖容易爆裂，可能会对使用者造成一定的伤害。针对于此，目前采用玻璃背板的产品中，都会在玻璃背板内粘贴一防爆膜。这种防爆膜通常采用PET或者TPU为基材的复合材料。具体而言包括：目前防爆膜自上而下包括：离型膜层61、粘胶层62、基材层63和电镀层64。使用时，将离型膜层61揭去，然后通过粘胶层62将防爆膜粘贴在玻璃背板的内表面。最后，通过激光雕刻的方式，由玻璃背板的外表面进行对应图案的成型。激光穿过玻璃背板、粘胶层62、基材层63后，在电镀层64上雕刻呈图案。例如雕刻条形码、产品商标图样等。电镀层64可采用铝粉涂层、银镜涂层等。通过这种方式无需通过喷涂、印刷等方式在玻璃背板上形成图案。但是其也存在一个问题。由于目前的镭射雕刻机其强度过高，容易出现镭射强度过高，击穿整个防爆膜的情况。但是，如果通过其他方式降低镭射强度，不仅实施麻烦，并且容易造成雕刻图案不连续，出现断点。基于以上问题，本专利技术人提出了以下技术方案。
技术实现思路
：本专利技术所要解决的技术问题在于提供一种用于激光雕刻的防爆膜。为了解决上述技术问题，本专利技术采用了下述技术方案：一种防爆膜，其包括：基材层，于所述的基材层的上表面依次附着光学胶层和离型膜，于所述的基材层下表面依次附着有电镀层和保护层；所述的光学胶层采用热固化光学胶涂层，并且于该光学胶层中加入有抗紫外线阻隔剂；所述的保护层为黑色膜层。进一步而言，上述技术方案中，所述的基材层采用PET光学基材膜，或者TPU光学基材膜。进一步而言，上述技术方案中，所述的光学胶层中抗紫外线阻隔剂的含量为：5-10％。进一步而言，上述技术方案中，所述的光学胶层中抗的组分及各组分的重量配比为：丙烯酸酯86-92％；抗紫外线阻隔剂5-10％；改性剂2-8％；固化剂0.4-0.8％。进一步而言，上述技术方案中，所述的保护层为黑色TPU膜层。采用上述技术方案后，本专利技术与现有技术相比较具有如下有益效果：本专利技术在所述的光学胶层中加入了抗紫外线阻隔剂，这样在镭射雕刻图案时，即便镭射的强度过高，其可以对镭射形成一定的阻隔，确保不会击穿防爆膜，同时，也可以保证不会应为激光强度过低而造成图案不连续。另外，本专利技术在电路层的外增加了一层黑色保护层，通过黑色保护层不仅可以作为底色，令镭射的图案更加鲜明，同时还可以起到对电镀层的保护。本专利技术可以应用在手机等电子产品的玻璃背板上，其不仅具有对玻璃背板进行保护的功效，同时也可以作为玻璃背板的图案形成载体，通过镭射雕刻的图案可以直接通过玻璃背板透射出来。附图说明：图1是现有技术的结构示意图；图2是本专利技术的结构示意图；具体实施方式：下面结合具体实施例和附图对本专利技术进一步说明。本专利技术为一种可用于手机等电子产品玻璃背板的防爆膜，见图1所示，本专利技术包括：基材层1、光学胶层2、离型膜3、电镀层4和保护层5。所述的基材层1作为本专利技术的主要承载体，其可以采用PET材料的光学膜，或者TPU光学基材膜，厚度在40-200微米。于所述的基材层1的上表面依次附着光学胶层2和离型膜3，于所述的基材层1下表面依次附着有电镀层4和保护层5。所述的光学胶层2采用亚克力热固化光学胶涂层，并且于该光学胶层2中加入有抗紫外线阻隔剂。具体而言，所述的光学胶层4中的组分及各组分的重量配比为：具体而言，所述的丙烯酸酯采用环氧甲基丙烯酸酯，改性剂采用甲基丙烯酸、甲基丙烯酸羟乙酯中的任意一种，固化剂采用异氰酸酯。所述的离型膜3厚度为80-120微米。所述的电镀层采用铝粉涂层，所述的保护层为黑色TPU膜层厚度在40-100微米。使用时，将离型膜3揭去后，将本专利技术通过光学胶层2粘接在玻璃背板的内表面，这样本专利技术就会对玻璃背板形成一种强化保护，即便玻璃背板因外力冲击发生破裂或爆裂，其也不会形成碎裂的碎片飞溅，而是被本专利技术防爆膜粘结。这样就避免了碎片可能对人体的伤害，也确保碎片不会进入移动通讯产品内部，对内部电路等器件造成损伤。同时，待光学胶层2固化后，通过镭射雕刻机对防爆膜进行镭射雕刻图案。由于本专利技术在所述的光学胶层2中加入了抗紫外线阻隔剂，这样在镭射雕刻图案时，即便镭射的强度过高，其可以对镭射形成一定的阻隔，确保不会击穿防爆膜，同时，也可以保证不会应为激光强度过低而造成图案不连续。另外，本专利技术在电镀层4的外增加了一层黑色保护层5，黑色保护层5不仅可以作为底色，令镭射的图案更加鲜明，同时还可以起到对电镀层4的保护。实施例1：所述的基材层1采用TPU光学基材膜，厚度在100微米。所述的光学胶层2中的组分及各组分的重量配比为：丙烯酸酯采用环氧甲基丙烯酸酯，改性剂采用甲基丙烯酸，固化剂采用异氰酸酯。所述的离型膜3厚度为100微米的PET离型膜。所述的电镀层采用铝粉涂层，所述的保护层为黑色油墨层。在通过镭射雕刻机进行雕刻时，采用波长为300nm–400nm的激光，通过抗紫外线阻隔剂可以阻隔75％的激光，从而大大的减低激光的强度，同时也可以保证穿过光学胶层2的激光可以完成对电镀层4的雕刻。所述的产品如下整个产品的总厚度：230um±5um基材厚度：50±5um涂胶厚度：25±5um离型膜厚度：125±5um保护膜厚度：30um±5um粘性：＞17N/inch与所述产品对应的镭射雕刻机参数如下：功率：＜1250W脉冲：50/60HZ速度：0-400mm/s波长：355NM所述光学胶2能阻隔镭射激光，阻隔率约为65％，本光学胶层2在贴覆玻璃板4小时后，趋于稳定。本光学胶层2还具有耐酸碱(ph＝4，ph＝6.5,ph＝10)耐高温(55℃±2℃，湿度95％RH条件下)，耐老化等特点当然，以上所述仅为本专利技术的具体实施例而已，并非来限制本专利技术实施范围，凡依本专利技术申请专利范围所述构造、特征及原理所做的等效变化或修饰，均应包括于本专利技术申请专利范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种防爆膜，其包括：基材层(1)，其特征在于：于所述的基材层(1)的上表面依次附着光学胶层(2)和离型膜(3)，于所述的基材层(1)下表面依次附着有电镀层(4)和保护层(5)；/n所述的光学胶层(2)采用热固化光学胶涂层，并且于该光学胶层(2)中加入有抗紫外线阻隔剂。/n

【技术特征摘要】
1.一种防爆膜，其包括：基材层(1)，其特征在于：于所述的基材层(1)的上表面依次附着光学胶层(2)和离型膜(3)，于所述的基材层(1)下表面依次附着有电镀层(4)和保护层(5)；
所述的光学胶层(2)采用热固化光学胶涂层，并且于该光学胶层(2)中加入有抗紫外线阻隔剂。


2.根据权利要求1所述的一种防爆膜，其特征在于：所述的基材层(1)采用PET光学基材膜，或者TPU光学基材膜。...

【专利技术属性】
技术研发人员：洪立志，
申请(专利权)人：东莞市航达电子有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44