事务机器及枢纽结构制造技术

本实用新型专利技术提供一种事务机器及枢纽结构，所述事务机器包括主体、盖体及枢纽结构。枢纽结构包括定位组件及枢转件。定位组件连接于主体。枢转件连接于盖体且枢接于定位组件。枢转件适于枢转至第一状态而使盖体闭合于主体，且适于枢转至第二状态而使盖体展开于主体。枢转件具有至少一定位部。当枢转件枢转至介于第一状态与第二状态之间的第三状态时，枢转件通过至少一定位部而定位于定位组件。本实用新型专利技术的事务机器及枢纽结构可避免使用者的手指被事务机器的盖体夹伤，且可避免事务机器的主体受到盖体撞击而损伤。

Transaction machine and hub structure

【技术实现步骤摘要】
事务机器及枢纽结构
本技术涉及一种电子装置及其枢纽结构，尤其涉及一种事务机器及其枢纽结构。
技术介绍
随着科技的进步，目前市面上已有多种整合有影印及扫描等功能的事务机器(multi-functionprinter,简称MFP)，以方便使用者进行文书处理作业。在使用此类事务机器时，通常会需要将盖体掀起或闭合于主体，由于盖体具有一定的重量，盖体在往下靠合于主体时，可能会因为下降速度较快，使用者反应不及而发生夹伤手指的状况，或者，盖体也可能会大力地撞击到主体而使得事务机器的构件受到损伤。是以，本技术提供一种枢纽结构，用以改善上述问题。本技术的枢纽结构除适用于事务机器外，亦可适用于具有盖体与主体的电子装置。
技术实现思路
本技术提供一种事务机器及枢纽结构，可避免使用者的手指被电子装置(如事务机器)的盖体夹伤，且可避免电子装置(如事务机器)的主体受到盖体高速撞击而损伤。本技术的一种事务机器，包括主体、盖体及枢纽结构。枢纽结构包括定位组件及枢转件。定位组件连接于主体。枢转件连接于盖体且枢接于定位组件。枢转件适于枢转至第一状态而使盖体闭合于主体，且适于枢转至第二状态而使盖体展开于主体。枢转件具有至少一定位部。当枢转件枢转至介于第一状态与第二状态之间的第三状态时，枢转件通过至少一定位部而定位于定位组件。本技术的一种枢纽结构，适用于电子装置，电子装置包括主体及盖体。枢纽结构包括定位组件及枢转件。定位组件连接于所述主体。枢转件连接于盖体且枢接于定位组件。枢转件适于枢转至第一状态而使盖体闭合于主体，且适于枢转至第二状态而使盖体展开于主体。枢转件具有至少一定位部。当枢转件枢转至介于第一状态与第二状态之间的第三状态时，枢转件通过至少一定位部而定位于定位组件。在本技术的一实施例中，当枢转件枢转至第二状态时，盖体相对于主体展开第一角度，当枢转件枢转至第三状态时，盖体相对于主体展开第二角度，第二角度小于第一角度。在本技术的一实施例中，上述的至少一定位部包括两定位部，当枢转件枢转至第三状态时，枢转件通过一个定位部而定位于定位组件，当枢转件枢转至第二状态时，枢转件通过另一个定位部而定位于定位组件。在本技术的一实施例中，上述的定位组件包括底座、定位件及弹性件，底座连接于主体，枢转件枢接于底座，弹性件连接于底座与定位件之间，定位件通过弹性件的弹性力而抵顶枢转件。在本技术的一实施例中，上述的枢纽结构包括枢轴，底座具有第一轴孔，枢转件具有第二轴孔，枢轴穿过第一轴孔及第二轴孔以将枢转件枢接于底座。在本技术的一实施例中，上述的至少一定位部包括至少一第一凹部，定位件具有第一凸部，至少一第一凹部适于定位于第一凸部。在本技术的一实施例中，上述的枢转件具有两第二凸部，两第二凸部之间形成第一凹部，定位件具有两导引斜面，第一凸部形成于两导引斜面的相交处，各第二凸部适于随着枢转件的枢转而沿一个导引斜面移动并越过第一凸部，以使至少一第一凹部定位于第一凸部。在本技术的一实施例中，上述的枢转件具有承靠面，当枢转件枢转至第一状态时，承靠面承靠于一个导引斜面。在本技术的一实施例中，上述的定位件适于通过弹性件的弹性变形而沿移动方向相对于底座移动，枢转件沿第一轴线枢接于底座，第一轴线垂直于移动方向。在本技术的一实施例中，上述的枢转件沿第一轴线枢接于底座，弹性件沿第二轴线压缩于定位件与底座之间，第一轴线与第二轴线不相交。基于上述，在本技术的事务机器及枢纽结构中，枢纽结构的枢转件具有定位部，定位部可在盖体往主体闭合的过程中定位于枢纽结构的定位组件，以达到缓冲效果，使盖体不会以使用者来不及反应的速度直接闭合至主体，藉以避免用户的手指被电子装置(如事务机器)的盖体夹伤。此外，所述缓冲效果还可避免电子装置(如事务机器)的主体受到盖体高速撞击而损伤。为让本技术的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合附图作详细说明如下。附图说明图1是本技术一实施例的事务机器的立体图；图2是图1的枢纽结构的立体图；图3是图2的枢纽结构的分解图；图4是图2的枢纽结构的部分构件侧视图；图5A至图5E是图4的枢纽结构的作动流程。附图标记说明：100：事务机器；110：主体；120：盖体；130：枢纽结构；132：定位组件；132a：底座；132a1：第一轴孔；132b：定位件；132c：弹性件；134：枢转件；134a、134b：定位部；134c：第二轴孔；136：枢轴；θ1：第一角度；θ2：第二角度；A1：第一轴线；A2：第二轴线；D：移动方向；P1：第一凸部；P2：第二凸部；S1、S2：导引斜面；S3：承靠面。具体实施方式图1是本技术一实施例的事务机器的立体图。请参考图1，本实施例的事务机器100包括主体110、盖体120及枢纽结构130(示出为两个)。盖体120通过枢纽结构130而枢接于主体110，使用者可将盖体120展开于主体110并将纸张置于主体110上，然后将盖体120闭合于主体110以进行影印及扫描等功能。在其他实施例中，枢纽结构130可应用于其他种类的电子装置。图2是图1的枢纽结构的立体图。图3是图2的枢纽结构的分解图。图4是图2的枢纽结构的部分构件侧视图。请参考图2至图4，本实施例的枢纽结构130包括定位组件132及枢转件134。定位组件132连接于主体110，枢转件134连接于盖体120且枢接于定位组件132，使盖体120能够随着枢转件134相对于定位组件132的枢转而闭合于主体110或展开于主体110，详述如下。图5A至图5E是图4的枢纽结构的作动流程。以图5A至图5E的顺序而言，是盖体120从闭合状态作动至展开状态的流程，而盖体120从展开状态动至闭合状态的流程则为图5E至图5A的顺序。枢转件134适于枢转至图4所示的第一状态而使盖体120闭合于主体110，且适于枢转至图5E所示的第二状态而使盖体120展开于主体110，此时盖体120相对于主体110展开第一角度θ1。此外，枢转件134具有至少一定位部(示出为两个定位部134a、134b)，当枢转件134如图5B所示枢转至介于第一状态与第二状态之间的第三状态时，枢转件134通过其中一个定位部134a而定位于定位组件132，此时盖体120相对于主体110展开第二角度θ2，第二角度θ2小于第一角度θ1。也就是说，枢转件134的定位部134a可在盖体120往主体110闭合的过程中如图5B所示定位于定位组件132，以达到缓冲效果，使盖体120不会以使用者来不及反应的速度直接闭合至主体110，藉以避免使用者的手指被事务机器100的盖体120夹伤。此外，所述缓冲效果还可避免事务机器100的主体110受到盖体120本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种事务机器，其特征在于，包括：/n主体；/n盖体；以及/n枢纽结构，包括：/n定位组件，连接于所述主体；以及/n枢转件，连接于所述盖体且枢接于所述定位组件，其中所述枢转件适于枢转至第一状态而使所述盖体闭合于所述主体，且适于枢转至第二状态而使所述盖体展开于所述主体，/n所述枢转件具有至少一定位部，当所述枢转件枢转至介于所述第一状态与所述第二状态之间的第三状态时，所述枢转件通过所述至少一定位部而定位于所述定位组件。/n

【技术特征摘要】
1.一种事务机器，其特征在于，包括：
主体；
盖体；以及
枢纽结构，包括：
定位组件，连接于所述主体；以及
枢转件，连接于所述盖体且枢接于所述定位组件，其中所述枢转件适于枢转至第一状态而使所述盖体闭合于所述主体，且适于枢转至第二状态而使所述盖体展开于所述主体，
所述枢转件具有至少一定位部，当所述枢转件枢转至介于所述第一状态与所述第二状态之间的第三状态时，所述枢转件通过所述至少一定位部而定位于所述定位组件。


2.根据权利要求1所述的事务机器，其特征在于，当所述枢转件枢转至所述第二状态时，所述盖体相对于所述主体展开第一角度，当所述枢转件枢转至所述第三状态时，所述盖体相对于所述主体展开第二角度，所述第二角度小于所述第一角度。


3.根据权利要求1所述的事务机器，其特征在于，所述至少一定位部包括两定位部，当所述枢转件枢转至所述第三状态时，所述枢转件通过一个所述定位部而定位于所述定位组件，当所述枢转件枢转至所述第二状态时，所述枢转件通过另一个所述定位部而定位于所述定位组件。


4.根据权利要求1所述的事务机器，其特征在于，所述定位组件包括底座、定位件及弹性件，所述底座连接于所述主体，所述枢转件枢接于所述底座，所述弹性件连接于所述底座与所述定位件之间，所述定位件通过所述弹性件的弹性力而抵顶所述枢转件。


5.根据权利要求4所述的事务机器，其特征在于，所述枢纽结构包括枢轴，所述底座具有第一轴孔，所述枢转件具有第二轴孔，所述枢轴穿过所述第一轴孔及所述第二轴孔以将所述枢转件枢接于所述底座。


6.根据权利要求4所述的事务机器，其特征在于，所述至少一定位部包括至少一第一凹部，所述定位件具有第一凸部，所述至少一第一凹部适于定位于所述第一凸部。


7.根据权利要求6所述的事务机器，其特征在于，所述枢转件具有两第二凸部，所述两第二凸部之间形成所述第一凹部，所述定位件具有两导引斜面，所述第一凸部形成于所述两导引斜面的相交处，各所述第二凸部适于随着所述枢转件的枢转而沿一个所述导引斜面移动并越过所述第一凸部，以使所述至少一第一凹部定位于所述第一凸部。


8.根据权利要求7所述的事务机器，其特征在于，所述枢转件具有承靠面，当所述枢转件枢转至所述第一状态时，所述承靠面承靠于一个所述导引斜面。


9.根据权利要求4所述的事务机器，其特征在于，所述定位件适于通过所述弹性件的弹性变形而沿移动方向相对于所述底座移动，所述枢转件沿第一轴线枢接于所述底座，所述第一轴线垂直于所述移动方向。


10.根据权利要求4所述的事务机器，其特征在于，所述枢转件沿第一轴线枢接于所述底座，所述弹性件沿第二轴线压缩于所述定位件与所述底座之间，所述第一轴线与所述第二轴线不相交。


11....

【专利技术属性】
技术研发人员：蒋世熙，张子承，宋鸿焕，
申请(专利权)人：金宝电子工业股份有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾;71