【技术实现步骤摘要】
一种高精度反射镜面型的加工方法
本专利技术专利属于光学元器件的加工领域，尤其是一种高精度反射镜面型的加工方法。
技术介绍
随着光学技术以及激光器的飞速发展，无论是可见光、紫外光，深紫外光，还是红外光，应用中对反射镜的面型要求极高，反射镜一般是在抛光基底上镀反射膜，由于镀膜工艺及膜层应力的影响，镀膜后表面面型变化非常大，面型极差，在使用过程中，光束变形，能量不集中，造成使用效果不佳。因此，反射镜面型越好对光束越有利。目前反射镜的面型常规只能做到λ/4@632.8nm，面型λ/10@632.8nm的只能通过反复测试和背面镀膜拉面型，加工成品率极低，成本高，不易于批量化生产。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服现在反射镜面型加工不良，摒弃传统的加工方案，采用镀高反膜后，通过修正最外层SiO2厚度满足高精度面型要求。本专利技术高反膜系设计时，优化膜系结构及最外层的SiO2厚度，满足反射率达到要求，并且最外层的SiO2厚度变化对高反膜的反射率影响甚微，镀制时，最外层的SiO2厚度适当增加。当反射...
【技术保护点】
1.本专利技术专利涉及一种高精度反射镜面型的加工方法，包括一个抛光的基底，表面镀制高反膜，其特征在于所述的一种高精度反射镜面型的加工方法，高反膜系设计时，优化膜系结构及最外层的SiO
【技术特征摘要】
1.本发明专利涉及一种高精度反射镜面型的加工方法，包括一个抛光的基底，表面镀制高反膜，其特征在于所述的一种高精度反射镜面型的加工方法，高反膜系设计时，优化膜系结构及最外层的SiO2厚度，满足反射率达到要求，并且最外层的SiO2厚度变化对高反膜的反射率影响甚微，镀制时，最外层的SiO2厚度适当增加，当反射镜镀制完后，采用干涉仪测试表面面型，由于镀膜工艺及膜层应力的影响，此时的面型往往比λ/4@632.8nm更差，将测试完的表面面型数据导...
【专利技术属性】
技术研发人员：朱一村，廖洪平，吴先云，张星，陈秋华，陈言灯，陈伟，
申请(专利权)人：福建福晶科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：福建;35
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