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本发明专利涉及一种高精度反射镜面型的加工方法，包括一个抛光的基底，表面镀制高反膜，其特征在于所述的一种高精度反射镜面型的加工方法，高反膜系设计时，优化膜系结构及最外层的SiO...
该专利属于福建福晶科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过福建福晶科技股份有限公司授权不得商用。

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