阀装置和流体控制装置制造方法及图纸

提供一种小型并且对弯矩的耐力得到了改善的阀装置。具有：块状的阀体(30)；壳体(11)，其为筒状，其内置有驱动用于开闭流路的阀芯的驱动机构，该壳体与阀体(30)连接，自该阀体(30)的上表面(30t)朝向上方延伸；以及保护构件(50)，其与筒状的壳体(11)和阀体(30)抵接，用于抑制在弯矩作为外力作用于壳体(10)时在位于壳体(10)的根基部分的壳体构件(12)与阀体(30)之间产生的应力集中。

Valve unit and fluid control unit

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】阀装置和流体控制装置
本专利技术涉及一种阀装置和流体控制装置，该流体控制装置集成有包括该阀装置的流体设备。
技术介绍
例如，作为用于向半导体制造装置等的腔室供给各种工艺气体的流体控制装置，公知有下述的对比文件1等中公开的流体控制装置。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2015－175502号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题在上述那样的流体控制装置的领域中，期望工艺气体的供给控制具有更高的响应性，为此，需要使流体控制装置尽可能小型化、集成化，并且设置于离作为流体的供给目的地的腔室更近的位置。并且，随着半导体晶圆的大口径化等处理对象物的大型化，需要相应地使从流体控制装置向腔室内供给的流体的供给流量也增大或者对其进行维持。因此，在上述那样的流体控制装置所使用的阀装置中，块状的阀体的尺寸、内置有用于驱动设置在阀体上的阀芯的驱动机构的壳体的外径越来越小。另一方面，为了确保流量，需要确保开闭阀时的隔板等阀芯的上升量等，因此阀装置整体变得细长。在阀装置小本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阀装置，其特征在于，/n该阀装置具有：/n阀体，其为块状，该阀体划分出相对的底面和上表面并且划分出流体流路；/n壳体，其为筒状，其内置有驱动用于开闭所述流路的阀芯的驱动机构，该壳体与所述阀体连接，自该阀体的上表面朝向上方延伸；以及/n保护构件，其与所述壳体和所述阀体抵接，该保护构件用于抑制在弯矩作为外力作用于所述壳体时在所述壳体的根基部分与所述阀体之间产生的应力集中。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170531 JP 2017-1077641.一种阀装置，其特征在于，
该阀装置具有：
阀体，其为块状，该阀体划分出相对的底面和上表面并且划分出流体流路；
壳体，其为筒状，其内置有驱动用于开闭所述流路的阀芯的驱动机构，该壳体与所述阀体连接，自该阀体的上表面朝向上方延伸；以及
保护构件，其与所述壳体和所述阀体抵接，该保护构件用于抑制在弯矩作为外力作用于所述壳体时在所述壳体的根基部分与所述阀体之间产生的应力集中。


2.根据权利要求2所述的阀装置，其特征在于，
所述保护构件具有在所述壳体的根基部分的外周固定的环状构件，
所述环状构件具有固定于所述壳体的根基部分的外周并且与所述阀体的上表面抵接的抵接端面。


3.根据权利要求2所述的阀装置，其特征在于，
所述壳体和保护构件的外轮廓在俯视时容纳在所述阀体的上表面内。


4.根据权利要求3所述的阀装置，其特征在于，
在所述壳体的外周形成有螺纹部，
所述壳体与...

【专利技术属性】
技术研发人员：渡边一诚，中田知宏，篠原努，
申请(专利权)人：株式会社富士金，
类型：发明
国别省市：日本;JP