液晶显示面板的制作方法、液晶显示面板技术

技术编号:23148148 阅读:27 留言:0更新日期:2020-01-18 13:07
本揭示提供一种液晶显示面板的制作方法、液晶显示面板,液晶显示面板的制作方法包括在液晶盒内注入自配向液晶材料和偏光材料组成的混合物,并经过两次UV照射,实现了配向膜和涂布型偏光板一次成型的需求,节省了配向膜涂布工艺,并避免了高温制程对量子点材料的稳定性造成破坏。

Production method of LCD panel, LCD panel

【技术实现步骤摘要】
液晶显示面板的制作方法、液晶显示面板
本揭示涉及显示
,尤其涉及一种液晶显示面板的制作方法、液晶显示面板。
技术介绍
现有液晶显示器,例如手机屏、平板等相较于传统的屏幕而言,除了在追求更高的清晰度、更高的屏占比、功耗以及显示效果等用户体验上的需求提升外,新颖的外形设计也成了越来越多的客户追求的目标,而柔性屏及折叠屏除了体积轻薄以外,还具有可弯曲、柔韧性佳的特性,而在相应技术衍生下,偏光板的更薄以及弯折性也是考量点,因此涂布型偏光板、自配向液晶都是目前主要开发的内容。然而,传统配向膜的形成需要在230摄氏度以上才能固化,对于采用量子点材料的液晶显示面板来说,由于量子点材料对于热的敏感性极高,高温会破坏量子点材料的稳定性,使其发光效率降低。综上所述,需要提供一种新的液晶显示面板的制作方法、液晶显示面板,来解决上述技术问题。
技术实现思路
本揭示提供一种液晶显示面板的制作方法、液晶显示面板,解决了现有的液晶显示面板在在形成配向膜和涂布型偏光板时,配向膜涂布工艺复杂,且由于温度过高而容易破坏量子点材料的稳定性的技术问题。为解决上述问题,本揭示提供的技术方案如下:本揭示实施例提供一种液晶显示面板的制作方法,包括以下步骤:步骤S10:提供阵列基板和彩膜基板;步骤S20:将所述阵列基板和所述彩膜基板对向贴合,在所述阵列基板和所述彩膜基板之间滴注自配向预聚体、液晶分子以及偏光材料组成的液晶材料混合物,以得到液晶盒;步骤S30:对所述液晶盒进行第一次加热处理,之后利用紫外光对所述液晶盒进行第一次UV照射,使所述自配向预聚体移动至所述阵列基板和所述彩膜基板表面,分别形成第一配向膜和第二配向膜;步骤S40:对所述液晶盒施加电场,使得所述偏光材料向所述阵列基板和所述彩膜基板的其中一侧移动聚集;以及步骤S50:对所述液晶盒进行第二次加热处理,之后利用紫外光对所述液晶盒进行第二次UV照射,使所述偏光材料在所述第一配向膜或所述第二配向膜上形成第一偏光板,所述液晶分子进行配向以形成液晶层。根据本揭示实施例提供的液晶显示面板的制作方法,所述第一次加热处理的加热温度小于120摄氏度,所述第二次加热处理的加热温度小于120摄氏度。根据本揭示实施例提供的液晶显示面板的制作方法,所述彩膜基板面对所述阵列基板的一侧设置有第二偏光板,所述第二配向膜形成于所述第二偏光板上。根据本揭示实施例提供的液晶显示面板的制作方法,所述阵列基板面对所述彩膜基板的一侧设置有第二偏光板,所述第一配向膜形成于所述第二偏光板上。根据本揭示实施例提供的液晶显示面板的制作方法,所述第二偏光板为采用纳米压印技术形成的金属线栅。根据本揭示实施例提供的液晶显示面板的制作方法,所述阵列基板包括第一衬底基板,所述彩膜基板包括第二衬底基板以及设置于所述第二衬底基板上的色阻层,其中所述色阻层的材料为量子点材料。根据本揭示实施例提供的液晶显示面板的制作方法,所述自配向预聚体和所述液晶分子组成自配向材料,所述偏光材料包括偏光液晶聚合物和偶氮类染料。本揭示实施例提供一种液晶显示面板,所述液晶显示面板包括:阵列基板;彩膜基板,与所述阵列基板相对设置;液晶层,设置于所述阵列基板和所述彩膜基板之间;第一配向膜,设置于所述阵列基板面向所述彩膜基板的一侧的表面;第二配向膜,设置于所述彩膜基板面向所述阵列基板的一侧的表面;以及第一偏光板,设置于所述第一配向膜或所述第二配向膜上;其中,所述液晶层、所述第一配向膜、所述第二配向膜以及所述第一偏光板均由液晶材料混合物形成,所述液晶材料混合物由自配向预聚体、液晶分子以及偏光材料组成。根据本揭示实施例提供的液晶显示面板,所述自配向预聚体和所述液晶分子组成自配向材料,所述偏光材料包括偏光液晶聚合物和偶氮类染料。根据本揭示实施例提供的液晶显示面板,所述阵列基板包括第一衬底基板,所述彩膜基板包括第二衬底基板以及设置于所述第二衬底基板上的色阻层,其中所述色阻层的材料为量子点材料。本揭示的有益效果为:本揭示提供的液晶显示面板的制作方法、液晶显示面板,通过在液晶盒内注入自配向液晶材料和偏光材料组成的混合物,经过两次UV照射,实现了配向膜和涂布型偏光板一次成型的需求,节省了配向膜涂布工艺,并避免了高温制程对量子点材料的稳定性造成破坏。附图说明为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是揭示的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本揭示实施例提供的液晶显示面板的制作方法的流程图;图2为本揭示实施例提供的液晶显示面板的制作方法的步骤S20的示意图;图3为本揭示实施例提供的液晶显示面板的制作方法的步骤S30的示意图;图4A为本揭示实施例提供的液晶显示面板的制作方法的一种步骤S40的示意图;图4B为本揭示实施例提供的液晶显示面板的制作方法的一种步骤S50的示意图;图5A为本揭示实施例提供的液晶显示面板的制作方法的另一种步骤S40的示意图;图5B为本揭示实施例提供的一种液晶显示面板的制作方法的另一种步骤S50的示意图;图6A为本揭示实施例提供的一种液晶显示面板的截面结构示意图;图6B为本揭示实施例提供的一种液晶显示面板的截面结构示意图。具体实施方式以下各实施例的说明是参考附加的图示,用以例示本揭示可用以实施的特定实施例。本揭示所提到的方向用语,例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等,仅是参考附加图式的方向。因此,使用的方向用语是用以说明及理解本揭示,而非用以限制本揭示。在图中,结构相似的单元是用以相同标号表示。本揭示针对现有技术的液晶显示面板的制作方法、液晶显示面板,在形成配向膜和涂布型偏光板时,配向膜涂布工艺复杂,且由于温度过高而容易破坏量子点材料的稳定性的技术问题,本实施例能够解决该缺陷。如图1所示,本揭示实施例提供的液晶显示面板的制作方法,包括以下步骤:步骤S10:提供阵列基板1和彩膜基板2。具体地,所述阵列基板1包括第一衬底基板11、设置于所述第一衬底基板11上的薄膜晶体管阵列层12以及第一电极层(图中未示出)等。具体地,所述彩膜基板2包括第二衬底基板21、黑矩阵22以及色阻层23,进一步地,所述色阻层23的材料可以为量子点材料,当受到光线激发后而显示不同的颜色;所述彩膜基板2还包括第二电极层(图中未示出),所述第二电极层位于所述色阻层23和所述黑矩阵22上。步骤S20:将所述阵列基板1和所述彩膜基板2对向贴合,在所述阵列基板1和所述彩膜基板2之间滴注自配向预聚体51、液晶分子52以及偏光材料53组成的液晶材料混合物,以得到液晶盒。<本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种液晶显示面板的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:/n步骤S10:提供阵列基板和彩膜基板;/n步骤S20:将所述阵列基板和所述彩膜基板对向贴合,在所述阵列基板和所述彩膜基板之间滴注自配向预聚体、液晶分子以及偏光材料组成的液晶材料混合物,以得到液晶盒;/n步骤S30:对所述液晶盒进行第一次加热处理,之后利用紫外光对所述液晶盒进行第一次UV照射,使所述自配向预聚体移动至所述阵列基板和所述彩膜基板表面,分别形成第一配向膜和第二配向膜;/n步骤S40:对所述液晶盒施加电场,使得所述偏光材料向所述阵列基板和所述彩膜基板的其中一侧移动聚集;以及/n步骤S50:对所述液晶盒进行第二次加热处理,之后利用紫外光对所述液晶盒进行第二次UV照射,使所述偏光材料在所述第一配向膜或所述第二配向膜上形成第一偏光板,所述液晶分子进行配向以形成液晶层。/n

【技术特征摘要】
1.一种液晶显示面板的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤S10:提供阵列基板和彩膜基板;
步骤S20:将所述阵列基板和所述彩膜基板对向贴合,在所述阵列基板和所述彩膜基板之间滴注自配向预聚体、液晶分子以及偏光材料组成的液晶材料混合物,以得到液晶盒;
步骤S30:对所述液晶盒进行第一次加热处理,之后利用紫外光对所述液晶盒进行第一次UV照射,使所述自配向预聚体移动至所述阵列基板和所述彩膜基板表面,分别形成第一配向膜和第二配向膜;
步骤S40:对所述液晶盒施加电场,使得所述偏光材料向所述阵列基板和所述彩膜基板的其中一侧移动聚集;以及
步骤S50:对所述液晶盒进行第二次加热处理,之后利用紫外光对所述液晶盒进行第二次UV照射,使所述偏光材料在所述第一配向膜或所述第二配向膜上形成第一偏光板,所述液晶分子进行配向以形成液晶层。


2.根据权利要求1所述的液晶显示面板的制作方法,其特征在于,所述第一次加热处理的加热温度小于120摄氏度,所述第二次加热处理的加热温度小于120摄氏度。


3.根据权利要求1所述的液晶显示面板的制作方法,其特征在于,所述彩膜基板面对所述阵列基板的一侧形成有第二偏光板,所述第二配向膜形成于所述第二偏光板上。


4.根据权利要求1所述的液晶显示面板的制作方法,其特征在于,所述阵列基板面对所述彩膜基板的一侧设置有第二偏光板,所述第一配向膜形成于所述第二偏光板上。


5.根据权利要求3或4所述的液晶显示面板的制作方法,其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员:程薇
申请(专利权)人:武汉华星光电技术有限公司
类型:发明
国别省市:湖北;42

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