基于双面金属光波导热增强刻蚀SERS芯片的方法技术

本发明专利技术公开了一种基于双面金属光波导热增强刻蚀SERS芯片的方法，包括如下步骤：第一步：玻璃片处理；第二步：蒸发镀膜法镀厚银膜；第三步：磁控溅射法镀薄银膜；第四步：制成SERS芯片。本发明专利技术的操作简单，不需要复杂的操作步骤并且对环境温度没有要求。本发明专利技术的芯片价格实惠，所需要的原料较为廉价，节约成本。本发明专利技术的芯片表征直接，可以直接用SEM进行表征，可以直接滴加探针分子测试拉曼信号。

A method of SERS chip etching based on double-sided metal light wave heat conduction enhancement

【技术实现步骤摘要】
基于双面金属光波导热增强刻蚀SERS芯片的方法
本专利技术属于光刻蚀领域，具体涉及一种基于双面金属光波导热增强刻蚀SERS芯片的方法，用于制备SERS芯片。
技术介绍
目前，基于表面局域等离子体共振制备SERS基底的方式有金属溶胶法以及平面基底金属纳米阵列法，这些方法存在着不确定性并且价格昂贵。本专利技术制备了双面金属平板光波导结构，在785nm激光的照射下产生热增强，同时利用电镀置换反应制得SERS芯片。
技术实现思路
专利技术目的：为了解决现有技术的不足，本专利技术提供了一种基于双面金属光波导热增强刻蚀SERS芯片的方法。技术方案：一种基于双面金属光波导热增强刻蚀SERS芯片的方法，采用平板波导结构，自上而下设置了上层金属薄膜、玻璃片、下层金属膜；所述的上层金属薄膜和下层金属膜形成平板波导的包覆层，玻璃片形成导波层；包括如下步骤：第一步：玻璃片处理：将数片大小相同的玻璃片放入烧杯中，倒入清水和洗洁精混合液，将烧杯放入超声池中进行超声清洗2h；然后，将烧杯中混合液倒出并冲刷干净，再将乙醇与丙酮按体积本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基于双面金属光波导热增强刻蚀SERS芯片的方法，采用平板波导结构，自上而下设置了上层金属薄膜、玻璃片、下层金属膜；所述的上层金属薄膜和下层金属膜形成平板波导的包覆层，玻璃片形成导波层；其特征在于：包括如下步骤：/n第一步：玻璃片处理：将数片大小相同的玻璃片放入烧杯中，倒入清水和洗洁精混合液，将烧杯放入超声池中进行超声清洗2h；然后，将烧杯中混合液倒出并冲刷干净，再将乙醇与丙酮按体积比3：1混合倒入烧杯中，同时滴加几滴硝酸，用保鲜膜将烧杯口密封，放入超声池中继续超声清洗4个小时；接着，将烧杯中混合液倒出并冲刷干净，再倒入异丙醇,同样密封之后将烧杯放入超声池中超声清洗2个小时；最后，将玻璃...

【技术特征摘要】
1.一种基于双面金属光波导热增强刻蚀SERS芯片的方法，采用平板波导结构，自上而下设置了上层金属薄膜、玻璃片、下层金属膜；所述的上层金属薄膜和下层金属膜形成平板波导的包覆层，玻璃片形成导波层；其特征在于：包括如下步骤：
第一步：玻璃片处理：将数片大小相同的玻璃片放入烧杯中，倒入清水和洗洁精混合液，将烧杯放入超声池中进行超声清洗2h；然后，将烧杯中混合液倒出并冲刷干净，再将乙醇与丙酮按体积比3：1混合倒入烧杯中，同时滴加几滴硝酸，用保鲜膜将烧杯口密封，放入超声池中继续超声清洗4个小时；接着，将烧杯中混合液倒出并冲刷干净，再倒入异丙醇,同样密封之后将烧杯放入超声池中超声清洗2个小时；最后，将玻璃片取出并用氮气吹干即可；
第二步：蒸发镀膜法镀厚银膜：抽真空，调节电流使银靶材熔化，控制蒸镀速率以及时间得到100nm左右的银膜；
第三步：磁控溅射法镀薄银膜：抽真空,调节氩气流量，旋转电压调节钮到260V至启辉，调节溅射电压,控制溅射时间得到厚度为30nm左右的银膜；
第四步：制成SERS芯片：在厚银膜上滴加0.1％氯金酸溶液，用785nm的激光进行照射至反应溶液干，激光耦合进入导波层产生超高...

【专利技术属性】
技术研发人员：许田，尹瑶瑶，周永驰，方靖淮，金永龙，王超男，祁浩宇，姜嘉琪，
申请(专利权)人：南通大学，
类型：发明
国别省市：江苏;32