【技术实现步骤摘要】
花生种肥同播播种方法
本专利技术涉及花生播种
,具体地说是一种花生种肥同播播种方法。
技术介绍
花生根系主要分布在0-30厘米土层内,占到总根系70%,于地表下15厘米的侧根最多,而花生荚果集中在地表下3-10厘米内,荚果对钙肥的需求主要由荚果本身吸收,而根系吸收的钙素除根系自身需求外、主要输送到茎叶,运送到荚果的很少;钙促进花生对氮、磷、镁的吸收,而抑制钾的吸收。因此实施分层施肥可有效提高肥料利用率,满足花生生长发育需要。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种花生种肥同播播种方法,用于实现对花生的播种的同时,实现施肥作业。本专利技术解决其技术问题所采取的技术方案是:花生种肥同播播种方法,其特征是,它包括以下步骤:(1)在要播种的土地上分三层进行施肥,第一层施肥深度为0-15cm,第二层施肥深度为15-25cm,第三层施肥深度为25-35cm;(2)旋耕,对施肥后的土壤进行旋耕;(3)起垄,对旋耕后的土壤进行起垄、整形;(4)喷药,对地表喷施除草剂;(5)覆膜,喷药后对地表进行覆膜;(6)播种,在薄膜上打孔播种;(7)覆土,在薄膜上覆土。进一步地,第一层施肥施肥深度为0cm,采用撒施的施肥方式,施肥时使用四根施肥管。进一步地,第二层施肥施肥深度为17cm,施肥时使用一根施肥管,第一层施肥使用的四根施肥管对称设置在第二层施肥所用施肥管的两侧。进一步地,第三层施肥施肥深度为27cm,施肥时使用两根施肥管 ...
【技术保护点】
1.花生种肥同播播种方法,其特征是,它包括以下步骤:/n(1)在要播种的土地上分三层进行施肥,第一层施肥深度为0-15cm,第二层施肥深度为15-25cm,第三层施肥深度为25-35cm;/n(2)旋耕,对施肥后的土壤进行旋耕;/n(3)起垄,对旋耕后的土壤进行起垄、整形;/n(4)喷药,对地表喷施除草剂;/n(5)覆膜,喷药后对地表进行覆膜;/n(6)播种,在薄膜上打孔播种;/n(7)覆土,在薄膜上覆土。/n
【技术特征摘要】
1.花生种肥同播播种方法,其特征是,它包括以下步骤:
(1)在要播种的土地上分三层进行施肥,第一层施肥深度为0-15cm,第二层施肥深度为15-25cm,第三层施肥深度为25-35cm;
(2)旋耕,对施肥后的土壤进行旋耕;
(3)起垄,对旋耕后的土壤进行起垄、整形;
(4)喷药,对地表喷施除草剂;
(5)覆膜,喷药后对地表进行覆膜;
(6)播种,在薄膜上打孔播种;
(7)覆土,在薄膜上覆土。
2.根据权利要求1所述的花生种肥同播播种方法,其特征是,第一层施肥施肥深度为0cm,采用撒施的施肥方式,施肥时使用四根施肥管。
3.根据权利要求2所述的花生种肥同播播种方法,其特征是,第二层施肥施肥深度为17cm,施肥时使用一根施肥管,第一层施肥使用的四根施肥管对称设置在第二层施肥所用施肥...
【专利技术属性】
技术研发人员:郭峰,孟静静,杨莎,李新国,耿耘,万书波,唐朝辉,张佳蕾,王建国,
申请(专利权)人:山东省农业科学院生物技术研究中心,
类型:发明
国别省市:山东;37
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