一种四电子均相还原剂、还原剂的制备方法及其应用技术

本发明专利技术公开一种式(I)结构的2,3,4,5,2’,3’,4’,5’‑八芳基螺环噻咯四负离子化合物，

Preparation and application of a four electron homogeneous reducing agent and reducing agent

【技术实现步骤摘要】
一种四电子均相还原剂、还原剂的制备方法及其应用
本专利技术涉及一种均相还原剂、还原剂的制备方法及其应用，具体涉及一种含螺环噻咯结构的四电子均相还原剂、还原剂的制备方法及其应用。
技术介绍
还原反应是合成化学领域一类重要的反应，在冶金、化工、材料以及生物医药中应用十分广泛。目前常用的还原剂主要是一些碱金属和碱土金属，如：金属锂(Li)、钠(Na)、钾(K)、镁(Mg)等。但是上述类型还原剂都属于非均相还原剂，它们和反应体系无法互溶，这样使得反应进行的较慢、反应选择性较差、特别容易导致过度还原。使用均相还原剂可以避免上述问题，均相还原剂与还原体系能够互溶、定量地进行反应，反应较容易控制，所得的还原产物单一，产率高。目前，常用的均相还原剂主要有萘锂、Birch试剂以及二碘化钐(SmI2)等。A.J.Birch在1944年报道了金属锂、钠溶解在液氨溶剂中的均相体系单电子还原剂可以高效还原醛、酮，被命名为Birch还原剂(参见Birch,A,J.J.Chem.Soc.1944.430)，在合成化学中应用十分广泛(参见Birch,A,J.J.Che本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种四电子均相还原剂，其特征在于，还原剂是2,3,4,5,2’,3’,4’,5’-八芳基螺环噻咯四负离子化合物，结构如式(I)所示：/n

【技术特征摘要】
1.一种四电子均相还原剂，其特征在于，还原剂是2,3,4,5,2’,3’,4’,5’-八芳基螺环噻咯四负离子化合物，结构如式(I)所示：



式中，所述Ar为C6～C10芳香基或取代的芳香基团；M为碱金属；S为含氧溶剂并以配位键形式和噻咯化合物络合。


2.根据权利要求1所述的均相还原剂，其特征在于，式(I)中，Ar为苯基、2，6-二甲基苯基或2，6-二异丙基苯基中的一种。


3.根据权利要求1所述的均相还原剂，其特征在于，式(I)中，M选自金属锂、钠或钾中的一种。


4.根据权利要求3所述的均相还原剂，其特征在于M选自金属锂。


5.根据权利要求1所述的均相还原剂，其特征在于，式(I)中，S选自四氢呋喃、乙醚或乙二醇二甲醚中的一种。


6.根据权利要求5所述的均相还原剂，其特征在于，S选自乙二醇二甲醚。


7.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：韩振刚，刘承琪，徐人威，李琰，周颖，王雄，韩晓昱，李艳芹，穆蕊娟，韦清华，
申请(专利权)人：中国石油天然气股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11