调节装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种调节装置，包括：基座；支架，用于固定波片，支架设于基座内，支架能够在基座内转动，以使波片相对基座的偏转角度可调；润滑组件，润滑组件由非挥发性材质制成，设于支架和基座之间，润滑组件用于减小支架和基座之间的摩擦力。上述调节装置由于支架和基座之间设置有润滑组件，当支架在基座内转动时，润滑组件可以减小支架和基座之间的摩擦力，避免由于支架和基座之间的摩擦力过大而造成支架卡顿而无法旋转，确保波片相对基座的偏转角度的调节顺畅，同时由于润滑组件由非挥发性材质制成，当该调节装置安装于激光外光路系统中时，该调节装置的润滑组件不会挥发异物污染激光外光路系统中的元器件，具有无污染、调节顺畅的特点。

【技术实现步骤摘要】
调节装置
本技术涉及光学设备领域，尤其涉及一种调节装置。
技术介绍
在激光外光路系统中，通常需要使用调节装置来调整波片的偏转角度来改变激光的偏振态，以满足工件的加工工艺需要。传统的调节装置通常采用电机配合蜗轮蜗杆的旋转方式来实现波片的偏转角度的调节，为了实现该调节装置对波片的偏转角度的精细调节，该调节装置通常会加入润滑油，然而由于润滑油具有较强的挥发性，润滑油挥发后的异物易飘落至激光外光路系统中而造成激光外光路系统中的元器件的污染，而当该调节装置不加润滑油时，该调节装置的电机配合蜗轮蜗杆旋转运动时易产生卡壳等情况，致使波片的偏转角度的调节难以操作，最终导致该调节装置难以满足用户的实际使用需求。
技术实现思路
基于此，有必要提供一种无污染、调节顺畅的调节装置。一种调节装置，包括：基座；支架，用于固定波片，所述支架设于所述基座内，且所述支架能够在所述基座内转动，以使所述波片相对所述基座的偏转角度可调；及润滑组件，所述润滑组件由非挥发性材质制成，设于所述支架和所述基座之间，所述润滑组件用于减小所述支架和所述基座之间的摩擦力。在其中一个实施例中，所述基座内具有支撑梁，所述支架穿设于所述支撑梁，并能够在所述基座内相对所述支撑梁转动，所述润滑组件设于所述支架和所述支撑梁之间，所述润滑组件用于减小所述支架和所述支撑梁之间的摩擦力。在其中一个实施例中，所述支架包括安装部和固定部，所述安装部用于固定所述波片，所述固定部穿设于所述支撑梁，并与所述安装部连接，且所述固定部与所述安装部的连接处形成有用于容纳所述支撑梁的台阶槽，所述润滑组件包括第一润滑件和第二润滑件，所述第一润滑件设于所述台阶槽的底壁和所述支撑梁之间，所述第二润滑件设于所述台阶槽的内侧壁和所述支撑梁之间。在其中一个实施例中，还包括第一锁紧环，所述第一锁紧环与所述支架相配合，以压持所述支撑梁从而将所述支架压接于所述支撑梁上。在其中一个实施例中，所述第一锁紧环螺合于所述支架外，转动所述第一锁紧环，可驱动所述第一锁紧环相对所述支架朝靠近或远离所述支撑梁的方向移动，以使所述支架与所述支撑梁之间的压紧力可调。在其中一个实施例中，所述第一锁紧环上设有用于固定所述第一锁紧环的第一紧固孔。在其中一个实施例中，还包括第三润滑件，所述第三润滑件由非挥发性材质制成，所述第三润滑件设于所述第一锁紧环和所述支撑梁之间，所述第三润滑件用于减小所述第一锁紧环和所述支撑梁之间的摩擦力。在其中一个实施例中，还包括第二锁紧环，所述第二锁紧环与所述支架相配合，以将所述波片压持固定于所述支架内。在其中一个实施例中，所述第二锁紧环螺合于所述支架内，转动所述第二锁紧环，可驱动所述第二锁紧环相对所述支架朝靠近或远离所述波片的方向移动，以使所述第二锁紧环压紧或松开所述波片。在其中一个实施例中，所述基座上设有用于固定所述支架的第二紧固孔。上述调节装置，由于支架和基座之间设置有润滑组件，当支架在基座内转动时，润滑组件可以减小支架和基座之间的摩擦力，避免由于支架和基座之间的摩擦力过大而造成支架卡顿而无法旋转，确保波片相对基座的偏转角度的调节顺畅，同时由于润滑组件由非挥发性材质制成，当该调节装置安装于激光外光路系统中时，该调节装置的润滑组件不会挥发异物污染激光外光路系统中的元器件，具有无污染、调节顺畅的特点。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为一实施例中调节装置的结构示意图；图2为图1所示调节装置的剖面示意图；图3为图1所示调节装置的爆炸图。具体实施方式为了便于理解本技术，下面将参照相关附图对本技术进行更全面的描述。附图中给出了本技术的较佳实施方式。但是，本技术可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施方式。相反地，提供这些实施方式的目的是使对本技术的公开内容理解的更加透彻全面。需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“内”、“外”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。如图1及图2所示，一实施例中的调节装置10包括基座100、支架200及润滑组件300，支架200用于固定波片20，支架200设于基座100内，且支架200能够在基座100内转动，以使波片20相对基座100的偏转角度可调，润滑组件300由非挥发性材质制成，润滑组件300设于支架200和基座100之间，润滑组件300用于减小支架200和基座100之间的摩擦力。上述调节装置10，由于支架200和基座100之间设置有润滑组件300，当支架200在基座100内转动时，润滑组件300可以减小支架200和基座100之间的摩擦力，避免由于支架200和基座100之间的摩擦力过大而造成支架200卡顿而无法旋转，确保波片20相对基座100的偏转角度的调节顺畅，同时由于润滑组件300由非挥发性材质制成，当该调节装置10安装于激光外光路系统中时，该调节装置10的润滑组件300不会挥发异物污染激光外光路系统中的元器件，具有无污染、调节顺畅的特点。如图2所示，进一步地，在一实施例中，基座100内具有支撑梁110，支架200穿设于支撑梁110，并能够在基座100内相对支撑梁110转动，润滑组件300设于支架200和支撑梁110之间，润滑组件300用于减小支架200和支撑梁110之间的摩擦力。在一实施例中，支架200包括安装部220和固定部240，安装部220用于固定波片20，固定部240穿设于支撑梁110，并与安装部220连接，且固定部240与安装部220的连接处形成有用于容纳支撑梁110的台阶槽260，润滑组件300包括第一润滑件320和第二润滑件340，第一润滑件320设于台阶槽260的底壁和支撑梁110之间，第二润滑件340设于台阶槽260的内侧壁和支撑梁110之间，第一润滑件320用于减小台阶槽260的底壁和支撑梁110之间的摩擦力，第二润滑件340用于减小台阶槽260的内侧壁和支撑梁110之间的摩擦力。如图2及图3所示，在一实施例中，上述调节装置10还包括第一锁紧环400，第一锁紧环400与支架200相配合，以压持支撑梁110从而将支架200压接于支撑梁110上。在本实施例中，第一锁紧环400螺合于支架200外，转动第一锁紧环400，可驱动第一锁紧环400相对支架200朝靠近或远离支撑梁110的方向移动，以使支架200与支撑梁110之间的压紧力可调，从而以便于调节支架200旋转的顺畅度。具体的，第本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种调节装置，其特征在于，包括：/n基座；/n支架，用于固定波片，所述支架设于所述基座内，且所述支架能够在所述基座内转动，以使所述波片相对所述基座的偏转角度可调；及/n润滑组件，所述润滑组件由非挥发性材质制成，设于所述支架和所述基座之间，所述润滑组件用于减小所述支架和所述基座之间的摩擦力。/n

【技术特征摘要】
1.一种调节装置，其特征在于，包括：
基座；
支架，用于固定波片，所述支架设于所述基座内，且所述支架能够在所述基座内转动，以使所述波片相对所述基座的偏转角度可调；及
润滑组件，所述润滑组件由非挥发性材质制成，设于所述支架和所述基座之间，所述润滑组件用于减小所述支架和所述基座之间的摩擦力。


2.根据权利要求1所述的调节装置，其特征在于，所述基座内具有支撑梁，所述支架穿设于所述支撑梁，并能够在所述基座内相对所述支撑梁转动，所述润滑组件设于所述支架和所述支撑梁之间，所述润滑组件用于减小所述支架和所述支撑梁之间的摩擦力。


3.根据权利要求2所述的调节装置，其特征在于，所述支架包括安装部和固定部，所述安装部用于固定所述波片，所述固定部穿设于所述支撑梁，并与所述安装部连接，且所述固定部与所述安装部的连接处形成有用于容纳所述支撑梁的台阶槽，所述润滑组件包括第一润滑件和第二润滑件，所述第一润滑件设于所述台阶槽的底壁和所述支撑梁之间，所述第二润滑件设于所述台阶槽的内侧壁和所述支撑梁之间。


4.根据权利要求2所述的调节装置，其特征在于，还包括第一锁紧环，所述第一锁紧环与所述支架相配合，以压持所述支撑梁从而将所述支架压接...

【专利技术属性】
技术研发人员：代雨成，刘亮，曹洪涛，吕启涛，高云峰，
申请(专利权)人：大族激光科技产业集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44