电解槽清洁装置制造方法及图纸

技术编号:22899932 阅读:41 留言:0更新日期:2019-12-21 12:24
本实用新型专利技术公开了一种电解槽清洁装置,包括布置于电解槽高位槽底处的管体,管体上有出液口,出液口的出液方向自下而上斜向指向电解槽的高位端槽端池壁。上述技术方案中,管体的进液口与电解液储液罐连接,管体的出液口斜向喷出电解液至电解槽的高位端槽端池壁,电解液在重力作用下回落到电解槽的高位端槽底,电解液从电解槽高位端槽底流到低位端槽底,冲刷电解槽槽底残留的阳极泥和其它杂质,对电解槽达到良好的清洁目的,同时无需人工进行电解槽的冲洗且避免造成电解系统中电解液的体积变化。

Cell cleaning device

【技术实现步骤摘要】
电解槽清洁装置
本技术属于电解设备领域,具体涉及一种电解槽清洁装置。
技术介绍
目前在铜冶炼企业中,电解车间电解槽的槽底为沿槽长方向一端高、一端低的斜面,电解槽的低位槽底端设有排污口,电解完成后从排污口排出废液和阳极泥,另外电解过程中需时刻保证电解车间的电解系统平衡稳定,而电解槽中电解液的体积稳定是其中重要组成部分。电解系统体积增加一般由清洗电解槽用水、机组用水、槽面冲水和净液系统用水四方面组成;系统失水一般由系统蒸发、净液真空蒸发系统两方面组成。长期以来,有两种方法对电解槽进行冲洗:一种是使用冷凝水冲洗,此时清洗电解槽用水占系统体积增大的重要部分;另一种是使用泵将电解液储液罐内的电解液抽取后加压,然后通过喷射装置对电解槽进行冲洗。其中第一种方式会直接增大电解槽中电解液的体积,不利于系统体积控制;第二种方式使用加压的电解液对电解槽冲洗虽然会有效减少用水量,但加压的电解液冲击电解槽会产生浓重的酸雾,并且容易造成人员被电解液烫伤,安全风险较大。
技术实现思路

技术实现思路
的目的在于提供一种电解槽清洁装置,无需人工进行电解槽的冲洗且避免造成电解系统中电解液的体积变化。为了实现上述技术目的,本技术采用以下技术方案:一种电解槽清洁装置,包括布置于电解槽高位槽底处的管体,管体上有出液口,出液口的出液方向自下而上斜向指向电解槽的高位端槽端池壁。上述技术方案中,管体的进液口与电解液储液罐连接,管体的出液口斜向喷出电解液至电解槽的高位端槽端池壁,电解液在重力作用下回落到电解槽的高位端槽底,电解液从电解槽高位端槽底流到低位端槽底,冲刷电解槽槽底残留的阳极泥和其它杂质,对电解槽达到良好的清洁目的,同时无需人工进行电解槽的冲洗且避免造成电解系统中电解液的体积变化。附图说明图1为本专利技术的立体结构示意图;图2为图1中A-A截面示意图。具体实施方式结合附图对本技术进行详细说明。一种电解槽清洁装置,包括布置于电解槽10高位槽底处的管体20,管体20上有出液口21,出液口21的出液方向自下而上斜向指向电解槽10的高位端槽端池壁11。管体20的进液口与电解系统中电解液储液罐40连接,管体20的出液口21斜向喷出电解液至电解槽10的高位端槽端池壁11,电解液在重力作用下回落到电解槽10的高位端槽底,电解液从电解槽10高位端槽底流到低位端槽底,冲刷电解槽10槽底残留的阳极泥和其它杂质,对电解槽10达到良好的清洁目的,同时无需人工进行电解槽10的冲洗且避免造成电解系统中电解液的体积变化。进一步的,电解槽10的低位端槽端池壁12处布置有电解液循环注液管30,电解液循环注液管30的旁侧布置管体20,管体20包括沿电解槽侧池壁13底部向电解槽10高位槽底端延伸的长管段22和水平向布置且平行于高位端槽端池壁11的短管段23,出液口21布置在短管段23上。优选的,为了保证电解系统的平衡稳定,即保证电解系统中电解液总量保证稳定,电解液循环注液管30的进液口和管体20的进液口均与电解液储液罐40连接,清洗电解槽10的电解液均属于本电解系统中的电解液,使电解系统中电解液总量和浓度均不发生变化,即保证了电解系统的稳定。优选的,根据实际需求,出液口21至少设置三个且沿短管段23的管长方向等距排列,保证出液口21喷出的电解液冲刷槽底时能将槽底全覆盖,对槽底进行全面彻底的清洗。优选的,根据实际使用时得到的数据,出液口21的出液方向与水平面之间的夹角α为120°~180°,能最大限度保证冲刷的效果。优选的,为了保证长管段22、短管段23在电解槽10中稳定,避免因电解液的重力作用而压断或压变形管路,长管段22、短管段23与电解槽10的槽底之间还设有支撑垫块50,同时支撑垫块50将短管段23支撑保持在一个特定高度,进一步保证从短管段23上出液口21喷出的电解液在回落至电解槽10高位端槽底时的初始速度,保证冲刷效果。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电解槽清洁装置,其特征在于:包括布置于电解槽(10)高位槽底处的管体(20),管体(20)上有出液口(21),出液口(21)的出液方向自下而上斜向指向电解槽(10)的高位端槽端池壁(11)。/n

【技术特征摘要】
1.一种电解槽清洁装置,其特征在于:包括布置于电解槽(10)高位槽底处的管体(20),管体(20)上有出液口(21),出液口(21)的出液方向自下而上斜向指向电解槽(10)的高位端槽端池壁(11)。


2.根据权利要求1所述的电解槽清洁装置,其特征在于:所述电解槽(10)的低位端槽端池壁(12)处布置有电解液循环注液管(30),电解液循环注液管(30)的旁侧布置管体(20),管体(20)包括沿电解槽侧池壁(13)底部向电解槽(10)高位槽底端延伸的长管段(22)和水平向布置且平行于高位端槽端池壁(11)的短管段(23),出液口(21)布置在短管段(23)上。

【专利技术属性】
技术研发人员:汪超王万军金兵
申请(专利权)人:铜陵有色金属集团股份有限公司
类型:新型
国别省市:安徽;34

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1