【技术实现步骤摘要】
一种精确控制液面的含浸机
本技术属于真空含浸机
,具体涉及一种精确控制液面的含浸机。
技术介绍
现有的氧化剂真空含浸机控制液面的方法是用光电传感器检测液面高度,发现液面降低了就打开补液阀补液,氧化剂的特点是粘度高,流动性差,补液时液面有较大的坡度,传感器装在补液口近端时由于补液口附近瞬时液面高,传感器会提前关闭补液阀,造成补液不足,传感器装在补液口远端时由于传感器附近瞬时液面低,传感器会延迟关闭补液阀,造成补液过量淹没产品(芯包)。由于每批产品汲取氧化剂的量是不等的,所以也不能定量补液。这种方法不能精确控制液面高度的一致性,经常发生淹没产品或含浸不足。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种精确控制液面的含浸机,以解决现有技术不能精确控制液面高度的一致性,经常发生淹没产品或含浸不足的问题。为实现上述目的,本技术所采取的技术方案是:一种精确控制液面的含浸机,包括含浸槽,其特征在于,所述含浸槽通过两块溢流挡板分为补液区、含浸区和余液区。进一步地,所述含浸槽的含浸区的底部还设带阀门的排液管。进一步地,该含浸机还包括机架,所述含浸槽1设置在机架的台面上。进一步地,所述机架上还设有一对含浸升降机构,一对含浸升降机构分别位于含浸槽的两侧,用于顶升含浸槽内的产品。进一步地,该含浸机还包括储液罐,所述储液罐的出入口通过带控制阀的管道分别与补液区和余液区联通连接。进一步地,所述储液罐的出口与补液区的底部通过补液管道联通连接,所述补液管道上设有补液控制阀;所述 ...
【技术保护点】
1.一种精确控制液面的含浸机,包括含浸槽(1),其特征在于,所述含浸槽(1)通过两块溢流挡板(8)分为补液区(6)、含浸区(11)和余液区(9)。/n
【技术特征摘要】
1.一种精确控制液面的含浸机,包括含浸槽(1),其特征在于,所述含浸槽(1)通过两块溢流挡板(8)分为补液区(6)、含浸区(11)和余液区(9)。
2.根据权利要求1所述的一种精确控制液面的含浸机,其特征在于,所述含浸槽(1)的含浸区(11)的底部还设带阀门的排液管(10)。
3.根据权利要求1所述的一种精确控制液面的含浸机,其特征在于,该含浸机还包括机架(16),所述含浸槽(1)设置在机架(16)的台面上。
4.根据权利要求3所述的一种精确控制液面的含浸机,其特征在于,所述机架(16)上还设有一对含浸升降机构(15),一对含浸升降机构(15)分别位于含浸槽(1)的两侧,用于顶升含浸槽(1)内的产品。
5.根据权利要求1所述的一种精确控制液面的含浸机,其特征在于,该含浸机还包括储液罐(4),所述储液罐(4)的出入口通过带控制阀的管...
【专利技术属性】
技术研发人员:姚玉建,陆晓春,冼顺福,
申请(专利权)人:湖北海成电子有限公司,
类型:新型
国别省市:湖北;42
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