具有包含TaC的涂层的碳材料及其制造方法技术

本发明专利技术涉及在碳基材上形成有包含TaC(碳化钽)的涂层的碳材料及其制造方法，根据本发明专利技术的包含TaC的涂层的碳材料，包括碳基材；及在所述碳基材上形成的平均结晶粒大小为10μm‑50μm的包含TaC的涂层。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有包含TaC的涂层的碳材料及其制造方法
本专利技术涉及在碳基材上形成有包含TaC(碳化钽)的涂层的碳材料及其制造方法
技术介绍
在各个领域正进行着,通过在基材表面采用不同种类的薄膜,提高材料的耐磨性、耐腐蚀性等的研究。其中，由于包含(TaC)的素材涂料技术在耐热性、耐磨性及抗内气体蚀刻性等方面具有比薄膜材料更优异的特征，特别备受关注。目前，在各种各样的产业现场，将包含TaC的涂层的碳材料形成于碳基材上的碳素材料，被使用于半导体用单晶制造装置部材、精密机床、引擎用部件等。此时，所形成的包含TaC的涂层，由于与基材具有附着力，往往出现问题。因此，许多企业及研究机构对于在碳基材上具有高度附着力的包含TaC的涂层的形成技术，正进行着各种尝试。最近，可控制具有TaC素材的涂层的硬度或表面耐磨性的技术备受关注。如果能考虑到所需素材的用处，预测所需涂层的物性，并按其可形成具有合理程度物性的包含TaC的涂层，可在产业界的多种领域适用TaC素材。但是，到目前为止，因为没有可精确预测表面刮伤值等物性的技术，在形成包含TaC的涂层的过程中，难以精确本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种具有包含TaC的涂层的碳材料，包括：/n碳基材；及/n在所述碳基材上形成的平均结晶粒大小为10μm-50μm的包含TaC的涂层。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170428 KR 10-2017-00547991.一种具有包含TaC的涂层的碳材料，包括：
碳基材；及
在所述碳基材上形成的平均结晶粒大小为10μm-50μm的包含TaC的涂层。


2.根据权利要求1所述的具有包含TaC的涂层的碳材料，其中，所述包含TaC的涂层的表面硬度为15GPa以上。


3.根据权利要求1所述的具有包含TaC的涂层的碳材料，其中，所述包含TaC的涂层的XRD分析的X线回折所发生的(111)面的回折峰值与(200)面的回折峰值的比为0.40以下。


4.根据权利要求1所述的具有包含TaC的涂层的碳材料，其中，所述包含TaC的涂层的XRD的X线回折所发生的峰值中，(111)面的峰值最大。


5.根据权利要求1所述的具有包含TaC的涂层的碳材料，其中，所述包含TaC的涂层的XRD分析回折线的半宽度为0.15°以下。


6.根据权利要求1所述的具有包含TaC的涂层的碳材料，其中，所述包含TaC的涂层的表面硬度根据以下数学式1计算,
数学式1
表面硬度值(GPa)＝-38A2+12A+14至17
A:XRD分析时包含TaC的涂层的(200)面的回折峰值/(111)面的回折峰值。


7.根据权利要求1所述的具有包含TaC的涂层的碳材料，其中，所述包含TaC的涂层的表面刮痕实验值为3.5N以上。


8.根据权利要求1所述的具有包含TaC的涂层的碳材料，其中，自所述碳基材表面深度为80μm-150μm的区域的TaC含量为15vol％至20vol％。


9.根据权利要求1所述的具有包含TaC的涂层的碳材料，其中，所述包含TaC的涂层的表面刮痕值根据以下数学式2计算,
数学式2
表面刮痕值(N)＝自所述碳基材表面深度为80μm-150μm的区域的TaC含量(vol％)×(1.4至1.6)-19.5。


10.根据权利要求1所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：曺東完，
申请(专利权)人：韩国东海炭素株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国;KR