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新型反应釜制造技术

技术编号:22843231 阅读:44 留言:0更新日期:2019-12-17 22:01
本发明专利技术公开了一种新型反应釜,包括:上釜体和下釜体,所述上釜体和下釜体组成反应釜本体,所述上釜体的侧部设有进料口,所述下釜体的底部设有出料口,所述反应釜本体内表面上设有第一防腐蚀层、第二防腐蚀层和第三防腐蚀层。通过上述方式,本发明专利技术防腐蚀性能强,可以减少修补的次数,简单实用。

New reactor

【技术实现步骤摘要】
新型反应釜
本专利技术涉及化工设备
,特别是涉及一种新型反应釜。
技术介绍
反应釜是工业生产中较常见的生产设备,广泛应用于石油、化工、橡胶、农药、染料、医药、食品等行业,用来完成硫化、硝化、氢化、烃化、聚合、缩合等工艺过程。尤其是在化工行业中,反应釜是使用的最普遍的生产设备。现有的反应釜只是在内壁上设置一层防腐蚀层,防腐蚀层容易损坏,经常需要修补,比较麻烦。
技术实现思路
本专利技术主要解决的技术问题是提供一种新型反应釜,能够解决现有技术中存在的缺陷,防腐蚀性能强,可以减少修补的次数。为解决上述技术问题,本专利技术采用的一个技术方案是:提供一种新型反应釜,包括:上釜体和下釜体,所述上釜体和下釜体组成反应釜本体,所述上釜体的侧部设有进料口,所述下釜体的底部设有出料口,所述反应釜本体内表面上设有第一防腐蚀层、第二防腐蚀层和第三防腐蚀层。在本专利技术一个较佳实施例中,所述第一防腐蚀层为陶瓷防腐层,厚度为2~3mm。在本专利技术一个较佳实施例中,所述第二防腐蚀层为搪瓷防腐层,厚度为1~2mm。在本文档来自技高网...

【技术保护点】
1. 一种新型反应釜,其特征在于,包括 :上釜体和下釜体,所述上釜体和下釜体组成反 应釜本体,所述上釜体的侧部设有进料口,所述下釜体的底部设有出料口,所述反应釜本体 内表面上设有第一防腐蚀层、第二防腐蚀层和第三防腐蚀层。/n

【技术特征摘要】
1.一种新型反应釜,其特征在于,包括:上釜体和下釜体,所述上釜体和下釜体组成反应釜本体,所述上釜体的侧部设有进料口,所述下釜体的底部设有出料口,所述反应釜本体内表面上设有第一防腐蚀层、第二防腐蚀层和第三防腐蚀层。


2.根据权利要求1所述的新型反应釜,其特征在于,所述第一防腐蚀层为陶瓷防腐层,厚度为2~3mm。


3.根据权利要求1所述的新型反应釜,其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员:原宇航
申请(专利权)人:原宇航
类型:发明
国别省市:湖北;42

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