一种精密研磨抛光装置制造方法及图纸

公开了一种精密研磨抛光装置，其包括包括底座、用于保持工件的保持架、研磨盘和抛光盘，研磨盘设置于底座上，抛光盘被吊置研磨盘上方，保持架被架设在研磨上，保持架上设置有滚柱以使得被放置在研磨盘上的工件在研磨盘上能够形成自转，抛光盘进一步被设置为使得其旋转轴线和工件的自转轴线相互偏离一定距离，同时抛光盘至少接触工件的一部分。通过研磨盘、抛光盘与工件的相对位置和旋转加工方式的设置，提高研磨抛光的精密度和加工效率。

A precision grinding and polishing device

A precision grinding and polishing device is disclosed, which comprises a base, a holder for holding a workpiece, a grinding disc and a polishing disc. The grinding disc is arranged on the base, the polishing disc is hoisted above the grinding disc, the holder is arranged on the grinding, a roller is arranged on the holder so that the workpiece placed on the grinding disc can form a rotation on the grinding disc, and the polishing disc is further arranged on the grinding disc It is set so that the rotation axis of the disc and the rotation axis of the workpiece deviate from each other for a certain distance, and at the same time, the disc is thrown to contact at least a part of the workpiece. The precision and machining efficiency of grinding and polishing can be improved by setting the relative position of grinding disc, polishing disc and workpiece and the rotary machining mode.

【技术实现步骤摘要】
一种精密研磨抛光装置
本专利技术涉及研磨加工的
，并且特别涉及一种精密研磨抛光装置。
技术介绍
目前，对工件中的高精度平面加工中有多种方法如人工修磨、刮研等，在众多的研磨抛光方式中，平面研磨机加工高精度平面无疑是一种精度高、劳动强度低的方式。平面研磨机广泛用于蓝宝石衬底、光学玻璃晶片、石英晶片、硅片、诸片、模具、导光板、光扦接头等各种材料的单面研磨、抛光。为了进一步提高工件表面质量，通常采用更换研磨盘为抛光盘对工件进行抛光。然而，对于同一台机床更换研磨盘不仅费时费力且机床精度会受拆装影响。另外平面研磨机加工过程中单面研磨效率较低。而且，对于光学玻璃等一些易碎高成本工件多次搬运，容易造成磕碰等问题，因此需要减少工件搬运次数，提高平面研磨机加工效率。为了解决更换研磨盘引入的诸多问题，避免造成机床精度降低，增加平面研磨机加工效率，合理利用机床空间，同时提高工件表面的加工精度，获取更高效的加工方式，急需要开发一种精密研磨抛光装置。
技术实现思路
本专利技术的目的在于针对现有研磨抛光存在的问题，提出了一种精密研磨抛光装置。本专利技术提供的一种精密研磨抛光装置，其包括底座、用于保持工件的保持架、研磨盘和抛光盘，研磨盘设置于底座上，抛光盘被吊置研磨盘上方，保持架被架设在研磨上，保持架上设置有滚柱以使得被放置在研磨盘上的工件在研磨盘上能够形成自转，抛光盘进一步被设置为使得其旋转轴线和工件的自转轴线相互偏离一定距离，同时抛光盘至少接触工件的一部分。在一些具体实施例中，装置还包括第一旋转部和第二旋转部，研磨盘与第一旋转部连接，抛光盘与第二旋转部连接，第二旋转部设置于支架上，支架包括第一支架、第二支架和横梁，横梁可活动地设置于第一支架和第二支架之间。第一支架、第二支架和横梁形成稳定的龙门式结构，在驱动电机带动下，保证第二旋转部和抛光盘稳定的工作环境。在一些具体实施例中，第一旋转部和第二旋转部旋转方向相反。第一旋转部带动研磨盘旋转和第二旋转部带动抛光盘旋转，研磨盘和抛光盘分别对工件下表面和上表面作用方向相反，形成对工件下表面研磨加工和对工件上表面抛光加工。在一些具体实施例中，横梁中部设置有滑动槽，第二旋转部可调节地固定于滑动槽。第二旋转部通过滑动槽可以调节抛光盘旋转轴线和工件自转轴线之间的距离小于工件半径，保证抛光盘覆盖直径大于工件半径，完成对工件上表面抛光工艺。在一些具体实施例中，还包括被设置在研磨盘上的圆形旋转盘，圆形旋转盘用于承载工件，圆形旋转盘的边缘与保持架的滚柱相接触。第一旋转部带动研磨盘旋转在摩擦力作用下带动圆形旋转盘旋转，从而带动工件旋转。圆形旋转盘在研磨盘的带动下，与保持架上的滚柱配合，形成圆形旋转盘本身自转从而带动工件本身自转。在进一步实施例中，旋转盘的边沿设置凹槽，保持架上设置有集流盘，集流盘的底部设置有圆孔，圆孔的边沿设置有与凹槽对应的凸缘，凸缘与凹槽相耦合。集流盘和旋转盘相耦合衔接处具有一定间隙保证旋转盘旋转的同时使得磁流体能够准确流入集流盘，避免磁流体流入机床运动部件，保证机床本体清洁和良好的运行状态。在进一步实施例中，研磨盘的半径大于或等于旋转盘的直径。第一旋转部带动研磨盘旋转，摩擦力的作用下带动旋转盘旋转和旋转盘本身自转，从而实现工件本身自转。在一些具体实施例中，抛光盘包括磁盘和磁流体，磁流体吸附于磁盘上表面。磁流体包括抛光粉和铁磁材料颗粒、永磁材料颗粒、磁流变液中的至少一种，磁盘包括永磁铁、电磁铁或磁条，磁流体内部的抛光粉对工件上表面进行抛光加工。在一些具体实施例中，磁盘的半径大于或等于工件的半径。磁盘旋转轴线与工件自转轴线相互偏离，偏离的距离小于或等于工件的半径，使得磁盘与工件形成偏心抛光运动，避免在磁盘同一角速度下，靠近圆心的线速度小于偏离圆心的线速度，使得工件中心部位抛光效果不佳的现象。在一些具体实施例中，保持架内壁设置有至少两个滚柱。所述至少两个滚柱限定出用于保持所述旋转盘或者工件的工作区域。工件被固定于旋转盘上，旋转盘被设置于保持架的工作区域内，旋转盘的边缘与保持架上的滚柱接触并相互配合下，旋转盘在研磨盘摩擦力的带动下，在保持架工作区域内能够形成旋转盘本身自转，从而实现工件本身自转，滚柱减小旋转盘与保持架之间的相互摩擦力，进一步促使工件本身自转效果。本专利技术的一种精密研磨抛光装置，包括第一旋转部、第二旋转部、底座、保持架、研磨盘和抛光盘，第一旋转部与研磨盘连接设置于底座上，第二旋转部与抛光盘连接设置于第一旋转部上方，保持架被架设在研磨上，保持架上设置有滚柱以使得被放置在研磨盘上的工件或旋转盘在研磨盘上能够形成自转，抛光盘进一步被设置为使得其旋转轴线和所述工件的自转轴线相互偏离一定距离，在不更换研磨盘或抛光盘的情况下，实现对工件两端面同时研磨和抛光，或单面研磨，或单面抛光，或多个工件同时研磨等工艺。附图说明包括附图以提供对实施例的进一步理解并且附图被并入本说明书中并且构成本说明书的一部分。附图图示了实施例并且与描述一起用于解释本专利技术的原理。将容易认识到其它实施例和实施例的很多预期优点，因为通过引用以下详细描述，它们变得被更好地理解。附图的元件不一定是相互按照比例的。同样的附图标记指代对应的类似部件。图1是根据本专利技术的一个实施例的精密研磨抛光装置的主视图；图2是根据本专利技术的一个具体实施例的保持架结构示意图；图3是根据本专利技术的一个具体实施例的旋转盘结构示意图；图4是根据本专利技术的一个具体实施例的集流盘结构示意图；图5是根据本专利技术的一个实施例的精密研磨抛光装置的研磨抛光状态示意图；图6是根据本专利技术的一个实施例的精密研磨抛光装置的抛光状态示意图；图7是根据本专利技术的另一实施例的精密研磨抛光装置的悬臂式研磨抛光示意图；图中各编号的含义：1.第一旋转部，2.底座，3.研磨盘，4.保持架，5.抛光盘，6.法兰盘，7.横梁，8.丝杆副，9.滑轨，10.丝杆，11.驱动电机，12.第二旋转部，13.滑动槽，14.光轴，15.导向套，16.支架，17.工件，18.旋转盘，19.集流盘。具体实施方式在以下详细描述中，参考附图，该附图形成详细描述的一部分，并且通过其中可实践本专利技术的说明性具体实施例来示出。对此，参考描述的图的取向来使用方向术语，例如“顶”、“底”、“左”、“右”、“上”、“下”等。因为实施例的部件可被定位于若干不同取向中，为了图示的目的使用方向术语并且方向术语绝非限制。应当理解的是，可以利用其他实施例或可以做出逻辑改变，而不背离本专利技术的范围。因此以下详细描述不应当在限制的意义上被采用，并且本专利技术的范围由所附权利要求来限定。图1示出了根据本专利技术的实施例的精密研磨抛光装置的主视图。如图1所示，该精密研磨抛光装置包括位于底座2下方的第一旋转部1，第一旋转部1连接研磨盘3，工件17被固定于旋转盘18上，用于保持旋转盘18的保持架4固定于其中一支架16底部并置于研磨盘3上，旋转盘18被设置于保持架4工作区域内，并与保持架4本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种精密研磨抛光装置，其特征在于，包括底座、用于保持工件的保持架、研磨盘和抛光盘，所述研磨盘设置于底座上，所述抛光盘被吊置所述研磨盘上方，所述保持架被架设在研磨上，所述保持架上设置有滚柱以使得被放置在所述研磨盘上的工件在所述研磨盘上能够形成自转，所述抛光盘进一步被设置为使得其旋转轴线和所述工件的自转轴线相互偏离一定距离，同时所述抛光盘至少接触所述工件的一部分。/n

【技术特征摘要】
1.一种精密研磨抛光装置，其特征在于，包括底座、用于保持工件的保持架、研磨盘和抛光盘，所述研磨盘设置于底座上，所述抛光盘被吊置所述研磨盘上方，所述保持架被架设在研磨上，所述保持架上设置有滚柱以使得被放置在所述研磨盘上的工件在所述研磨盘上能够形成自转，所述抛光盘进一步被设置为使得其旋转轴线和所述工件的自转轴线相互偏离一定距离，同时所述抛光盘至少接触所述工件的一部分。


2.根据权利要求1所述的精密研磨抛光装置，其特征在于，所述装置还包括第一旋转部和第二旋转部，所述研磨盘与所述第一旋转部连接，所述抛光盘与第二旋转部连接，所述第二旋转部设置于支架上，所述支架包括第一支架、第二支架和横梁，所述横梁可活动地设置于所述第一支架和第二支架之间。


3.根据权利要求2所述的精密研磨抛光装置，其特征在于，所述第一旋转部和第二旋转部旋转方向相反。


4.根据权利要求2所述的精密研磨抛光装置，其特征在于，所述横梁中部设置有滑动槽，所述第二旋转部可调节地固定于所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：肖欢平，
申请(专利权)人：厦门麦科普睿科技有限公司，
类型：发明
国别省市：福建;35