The invention discloses a design method of dielectric filled waveguide probe for dielectric thickness fitting reflection type test, belonging to the technical field of test. Through dielectric filling, the invention decomposes the port mismatch effect of reflective dielectric thickness test waveguide probe into structure discontinuity mismatch effect and dielectric discontinuity mismatch effect, which can reduce or eliminate the overall effect respectively or in combination In addition to the mismatching reflection between the probe and the outer surface of the radome, the engineering application problem of the fitting reflection electric thickness measurement method is solved, and the good measurement linearity is provided.
【技术实现步骤摘要】
一种电厚度贴合反射式测试用介质填充波导探头设计方法
本专利技术属于测试
,具体涉及一种电厚度贴合反射式测试用介质填充波导探头设计方法。
技术介绍
电厚度是指电磁波辐射穿越非真空介质空间时,相对于同样几何尺寸的真空路径增加的波数,可等效为电磁波在介质中传播相对于真空增加的相位延迟,称为插入相位延迟(IPD)。IPD参数对于雷达天线罩的设计具有重要的意义,必须要在制作过程中测量。传统的IPD测试是在微波收发天线之间放置被测天线罩,通过测量不同天线罩造成的传输相位差异进行比对测量,或者与不放置天线罩时的传输相位比对进行绝对测量。随着雷达天线罩研制要求的提高,一些新型的天线罩出现了体积小、非回转面异形结构、制造过程不能脱模等特点,导致无法采用传输式测试方法,提出了反射式测量的要求,即微波收发探头合并,利用天线罩内壁的金属胎模反射信号,在天线罩外壁利用反射系数的相位变化感知IPD。如图1所示,反射计测量得到的反射系数与测试波导探头之间存在分式线性变换关系,主要由端口失配反射Γport和携带IPD信息的反射信号ΓIPD决定。当ΓIPD强度大于Γport时,测量得到的反射系数Γ的相位与IPD呈稳定的单调映射关系,实现电厚度测量。二者强度差越大,映射的线性度越好,越有利于测量应用。现有技术的缺点:由于存在电磁波传输介质和导波结构的双重突变,微波反射计波导探头与天线罩外壁之间往往存在严重失配,大部分工程应用中很难满足ΓIPD强度大于Γport的要求,导致测量得到的反射系数相位不能单调地反映 ...
【技术保护点】
1.一种电厚度贴合反射式测试用介质填充波导探头设计方法,其特征在于:包括如下步骤:/n步骤1:在测试波导与被测天线罩接触的一端,密实填充一段与被测天线罩相同的介质材料,长度记为L;该步骤用以消除测试端面的介质不连续性,将测试端面不连续性影响Γ
【技术特征摘要】
1.一种电厚度贴合反射式测试用介质填充波导探头设计方法,其特征在于:包括如下步骤:
步骤1:在测试波导与被测天线罩接触的一端,密实填充一段与被测天线罩相同的介质材料,长度记为L;该步骤用以消除测试端面的介质不连续性,将测试端面不连续性影响Γport,分解为结构不连续性影响Γstr和填充介质在测试波导内部导致的介质面不连续性影响Γmed两部分;
Γport=Γstr+Γmed;
步骤2:将填充介质在测试波导内的过渡面设置为对称尖劈形状,劈尖到底座的高度记为H,劈尖能够沿测试波导方向突出到填充介质之外,也能够凹陷到填充介质之内;在波导结构确定的情况下,H决定了Γmed的强度;
步骤3:将测试波导的填充端口设置为全吸收端口,利用电磁结构仿真软件,以H为变量,计算得到不同工作频率下,左端口...
【专利技术属性】
技术研发人员:郭利强,吴强,冷朋,
申请(专利权)人:中国电子科技集团公司第四十一研究所,
类型:发明
国别省市:山东;37
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