The invention provides a electroless nickel plating solution, which includes a cylinder opening solution, including 100ml / L cylinder opening agent, 50ml / L nickel sulfate solution, 5ml / L potassium tetrasulfate solution; the cylinder opening agent includes 0.28g/l sodium hypophosphite, 0.03g/l malic acid, 0.08g/l succinic acid, 0.08g/l lactic acid, 0.10g/l ammonia water and residual deionized water; the concentration of the nickel sulfate solution 450g / L, 500g / L sodium hypophosphite solution and 1g / L potassium tetrasulfate solution. The chemical nickel solution of the invention has good stability, stable deposition rate of the plating solution, is suitable for improving the nickel corrosion in the process of chemical nickel gold, effectively reducing the poor nickel corrosion and meeting the quality requirements of the industry for product reliability.
【技术实现步骤摘要】
一种化学镀镍镀液
本专利技术涉及化学镀镍
,具体的说,是指一种化学镀镍镀液。
技术介绍
化学镀镍以其工艺简单、无需外加电源、良好的均度性;在高分子材料和无机非金属材料等多种非金属基体上沉积;耐腐蚀能力、耐磨性能和镀层结合力强等优良性能等特点得到迅速发展和广泛应用。化学镀镍的镀液组成十分重要,常见的化学镀镍液的成分有金属盐、还原剂、络合剂、缓冲剂、稳定剂、pH调节剂等。现有的化学镀镍镀液镀出的镍层晶格致密性不足,磷含量只有7%左右,容易产生镍腐蚀异常的问题。
技术实现思路
有鉴于此,本专利技术要解决的技术问题是提供一种化学镀镍镀液,可使得镍层结晶更致密,同时改善镍腐蚀问题。为解决上述技术问题,本专利技术通过如下技术方案予以实现:一种化学镀镍镀液,包括开缸液和补加液,其中,所述开缸液包括100ml/L的开缸剂、50ml/L的硫酸镍溶液、5ml/L的连四硫酸钾溶液;所述补加液包括硫酸镍溶液、次亚磷酸钠溶液、pH调节剂和连四硫酸钾溶液,且硫酸镍溶液、次亚磷酸钠溶液、pH调节剂和连四硫酸钾溶液按体积比为1:1:1:0.5的比例添加;所述开缸剂包括0.28g/L的次磷酸钠、0.03g/L的苹果酸、0.08g/L的琥珀酸、0.08g/L的乳酸、0.10g/L的氨水以及余量的去离子水;所述硫酸镍溶液的浓度为450g/L;次亚磷酸钠溶液的浓度为500g/L;连四硫酸钾溶液的浓度为1g/L;所述pH调节剂包括0.18g/L的氢氧化钠、0.03g/L ...
【技术保护点】
1.一种化学镀镍镀液,包括开缸液,其特征在于,所述开缸液包括100ml/L的开缸剂、50ml/L的硫酸镍溶液、5ml/L的连四硫酸钾溶液;/n所述开缸剂包括0.28g/L的次磷酸钠、0.03g/L的苹果酸、0.08g/L的琥珀酸、0.08g/L的乳酸、0.10g/L的氨水以及余量的去离子水;/n所述硫酸镍溶液的浓度为450g/L;次亚磷酸钠溶液的浓度为500g/L;连四硫酸钾溶液的浓度为1g/L。/n
【技术特征摘要】
1.一种化学镀镍镀液,包括开缸液,其特征在于,所述开缸液包括100ml/L的开缸剂、50ml/L的硫酸镍溶液、5ml/L的连四硫酸钾溶液;
所述开缸剂包括0.28g/L的次磷酸钠、0.03g/L的苹果酸、0.08g/L的琥珀酸、0.08g/L的乳酸、0.10g/L的氨水以及余量的去离子水;
所述硫酸镍溶液的浓度为450g/L;次亚磷酸钠溶液的浓度为500g/L;连四硫酸钾溶液的浓度为1g/L。
2.根据权利要求1所述的化学镀镍镀液,其特征在于,所述化学镀镍镀液还包括补加液,所述补加...
【专利技术属性】
技术研发人员:丁先峰,魏振峰,钟文波,
申请(专利权)人:广州皓悦新材料科技有限公司,
类型:发明
国别省市:广东;44
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