The utility model relates to a degumming mechanism for silicon wafer production, which includes a degumming pool, a degumming mechanism and a cleaning mechanism. The degumming pool is a hollow and uncovered structure inside. The lower end of the degumming pool is equipped with a degumming mechanism, the upper end of the degumming pool is equipped with a cleaning mechanism, the degumming mechanism includes an inclined plate, the lower end of the front and rear inner sides of the degumming pool is equipped with an inclined plate, and the lower part of the inclined plate The square is equipped with a settling box, the upper end face of the inclined plate is uniformly equipped with a material removal platform from left to right, the upper end face of the material removal platform is equipped with a material removal waterproof electric push rod, the top end of the material removal waterproof electric push rod is equipped with a material removal support plate, and the upper end face of the material removal support plate is equipped with a through hole. The utility model can solve the problems of being easily scalded by water during manual degumming, inconvenient operation when removing leftover materials, difficult cleaning of degumming pool, tedious steps of manual degumming and low working efficiency, and can realize efficient and rapid degumming of crystal rod, which has the advantages of simple operation, safety, high working efficiency and convenient cleaning of degumming pool.
【技术实现步骤摘要】
一种硅片生产用除胶机构
本技术涉及硅片加工领域,特别涉及一种硅片生产用除胶机构。
技术介绍
随着科研技术的进步,硅片在芯片、电子产品和电池等领域得到了广泛的应用,同时硅片的生产加工技术也有了很大的进步,硅片的加工一般需要经过粘棒、开方、去胶、滚磨、切片、清洗烘干、检测、包装等步骤,在现有技术中已经有很多步骤采用机械化操作,但是其中的去胶、检测和包装等步骤还以采用人工操作为主。在硅片加工的除胶过程中,现有状态下的除胶步骤一般是先将晶棒放置到晶拖上,将晶棒放置到80摄氏度的热水中将胶融化,然后用隔热手套将边角料去除,接着将晶棒取出将晶拖取下,再将残留的胶擦拭干净,在这一系列步骤中存在一定的弊端,人工除胶工作效率较低、水的温度过高容易被水烫伤、去除边角料时操作不便、胶水在水中无任何处理,去胶池清扫困难、人工去胶分多步进行工作流程繁琐。
技术实现思路
为了解决上述问题,本技术提供了一种硅片生产用除胶机构,可以解决人工除胶时容易被水烫伤、去除边角料时操作不便、去胶池清扫困难、人工除胶步骤繁琐和工作效率低等问题,可以实现对晶棒的高效快速除胶,具有操作简单、安全,工作效率高和去胶池清扫方便的优点。为了实现上述目的,本技术采用以下技术方案,一种硅片生产用除胶机构,包括除胶池、除料机构和清扫机构,所述的除胶池为内部中空的无盖结构,除胶池内部的下端安装有除料机构,除胶池的上端面安装有清扫机构。所述的除料机构包括倾斜板,除胶池前后内侧面的下端安装有倾斜板,倾斜板的下方安装有沉淀盒,倾斜板的上端面从左 ...
【技术保护点】
1.一种硅片生产用除胶机构,包括除胶池(1)、除料机构(2)和清扫机构(3),其特征在于:所述的除胶池(1)为内部中空的无盖结构,除胶池(1)内部的下端安装有除料机构(2),除胶池(1)的上端面安装有清扫机构(3);其中:/n所述的除料机构(2)包括倾斜板(21),除胶池(1)前后内侧面的下端安装有倾斜板(21),倾斜板(21)的下方安装有沉淀盒(22),倾斜板(21)的上端面从左往右均匀设有除料台(23),除料台(23)的上端面安装有除料防水电动推杆(24),除料防水电动推杆(24)的顶端安装有除料支撑板(25),除料支撑板(25)的上端面设有通孔,除料支撑板(25)的上端面从左往右均匀设有除料支链(26);/n所述的清扫机构(3)包括清扫支链(31),除胶池(1)的上端面从左往右均匀设有清扫支链(31),清扫支链(31)的中部安装有转动支链(32),转动支链(32)的下端安装有去料支链(33);/n所述的清扫支链(31)包括清扫电动推杆(311),除胶池(1)的上端面安装有清扫电动推杆(311),清扫电动推杆(311)的顶端安装有清扫连接板(312),清扫连接板(312)的中部设有 ...
【技术特征摘要】
1.一种硅片生产用除胶机构,包括除胶池(1)、除料机构(2)和清扫机构(3),其特征在于:所述的除胶池(1)为内部中空的无盖结构,除胶池(1)内部的下端安装有除料机构(2),除胶池(1)的上端面安装有清扫机构(3);其中:
所述的除料机构(2)包括倾斜板(21),除胶池(1)前后内侧面的下端安装有倾斜板(21),倾斜板(21)的下方安装有沉淀盒(22),倾斜板(21)的上端面从左往右均匀设有除料台(23),除料台(23)的上端面安装有除料防水电动推杆(24),除料防水电动推杆(24)的顶端安装有除料支撑板(25),除料支撑板(25)的上端面设有通孔,除料支撑板(25)的上端面从左往右均匀设有除料支链(26);
所述的清扫机构(3)包括清扫支链(31),除胶池(1)的上端面从左往右均匀设有清扫支链(31),清扫支链(31)的中部安装有转动支链(32),转动支链(32)的下端安装有去料支链(33);
所述的清扫支链(31)包括清扫电动推杆(311),除胶池(1)的上端面安装有清扫电动推杆(311),清扫电动推杆(311)的顶端安装有清扫连接板(312),清扫连接板(312)的中部设有凹槽,凹槽的下端安装有连接筒(313),连接筒(313)的内部为中空结构,连接筒(313)的下端面安装有圆板(314),圆板(314)的中部设有圆槽,圆槽的直径与连接筒(313)的内径相同。
2.根据权利要求1所述的一种硅片生产用除胶机构,其特征在于:所述的除料支链(26)包括放置台(261),通孔内通过轴承安装有放置台(261),放置台(261)的下端面与防水转动电机(262)的输出轴相连接,防水转动电机(262)通过电机箱(263)安...
【专利技术属性】
技术研发人员:赵续凯,
申请(专利权)人:西安科技成果转化工程有限公司,
类型:新型
国别省市:陕西;61
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