一种全站仪整平微调的脚架制造技术

本实用新型专利技术涉及一种全站仪整平微调的脚架，包括底部铰接有三根架腿的架板，架腿包括固定架和活动脚，固定架的内壁成型有竖直的滑槽，活动脚的两侧成型有与滑槽配合的凸边，固定架的底端设有用于限制活动脚位置的定位装置，活动脚包括主脚板，主脚板内开设有竖直的微调腔，微调腔内设有与其配合的副脚板，副脚板能够沿微调腔运动，主脚板上设有用于改变副脚板在微调腔内位置的微调组件。本实用新型专利技术能够实现微调从而达到架板水平的目的，能够适用于有高度差的地面进行作业，结构简单，成本低，易于推广。

A tripod for leveling and fine adjustment of total station

【技术实现步骤摘要】
一种全站仪整平微调的脚架
本技术属于测量设备
，具体涉及一种全站仪整平微调的脚架。
技术介绍
全站仪，即全站型电子测距仪(ElectronicTotalStation)，是一种集光、机、电为一体的高技术测量仪器，是集水平角、垂直角、距离(斜距、平距)、高差测量功能于一体的测绘仪器系统，因其一次安置仪器就可完成该测站上全部测量工作，所以称之为全站仪。广泛用于工程测量等领域，严格的对中整平是使用全站仪进行测量的前提，目前全站仪的对中整平是先通过调节脚架完成全站仪初步对中，然后伸缩脚架进行整平，使气泡居中，从而完成全站仪的对中整平。由于对中整平会相互影响，所以需要多次反复调整，最终才能达到对中整平的目的，尤其伸缩脚架时难度大，伸缩的幅度难以掌握，花费时间长，严重影响测量的工作效率。现在虽然有通过自动补偿的原理进行自动整平的脚架，但因为其可行性和造价高没有得到普及。
技术实现思路
为了解决上述问题，本技术提供了一种结构简单、能够适用于有高度差的地面进行作业的全站仪整平微调的脚架，具体方案如下：包括底部铰接有三根架腿的架板，所述架腿包括固定架和活动脚，所述固定架的内壁成型有竖直的滑槽，所述活动脚的两侧成型有与所述滑槽配合的凸边，所述固定架的底端设有用于限制所述活动脚位置的定位装置，所述活动脚包括主脚板，所述主脚板内开设有竖直的微调腔，所述微调腔内设有与其配合的副脚板，所述副脚板能够沿所述微调腔运动，所述主脚板上设有用于改变所述副脚板在所述微调腔内位置的微调组件。进一步地，所述微调腔其中一个侧面上开设有微调槽，所述微调槽的截面为顶角向外的三角形；所述副脚板上设有与所述微调槽配合的微调滑块，所述副脚板的宽度小于所述微调腔的宽度，所述副脚板的与所述微调滑块相对的侧面上设有齿条；所述主脚板上位于所述微调槽的两侧开设有对应的第一轴孔和第二轴孔，所述第一轴孔和所述第二轴孔的连线位于所述齿条的一侧，所述微调组件包括通过滚针轴承穿设于所述第一轴孔和所述第二轴孔之间且与所述齿条配合的齿轮轴，所述齿轮轴对应所述第一轴孔的一端伸出所述主脚板且连接有调节轮。进一步地，所述齿轮轴的长度大于所述第一轴孔和所述第二轴孔的间距，所述齿轮轴的齿的长度小于所述第一轴孔和所述第二轴孔的间距，所述主脚板的内壁位于所述第二轴孔外开设有若干与所述齿轮轴的齿配合限位槽。进一步地，所述微调腔其中一个侧面上开设有微调槽，所述微调槽的截面为顶角向外的三角形；所述副脚板上设有与所述微调槽配合的微调滑块，所述副脚板的宽度小于所述微调腔的宽度，所述副脚板的与所述微调滑块相对的侧面上设有齿条；所述微调组件包括通过滚针轴承设于所述微调腔内位于所述齿条一侧的调节螺栓，所述调节螺栓竖直布置且与所述齿条配合，所述调节螺栓的顶部伸出所述微调腔且连接有调节轮。本技术的有益效果在于：本技术提供了一种全站仪整平微调的脚架，能够实现微调从而达到架板水平的目的，能够适用于有高度差的地面进行作业，结构简单，成本低，易于推广。附图说明图1.本技术实施例1的结构示意图，图2.本技术实施例1固定架与活动架的连接结构示意图，图3.本技术实施例1副脚板与主脚板的连接结构示意图，图4.本技术实施例1微调组件的结构示意图，图5.本技术实施例1限位槽的结构示意图，图6.本技术实施例2的结构示意图，图7.本技术实施例2副脚板与主脚板的连接结构示意图，图8.本技术实施例2微调组件的结构示意图。附图序号及名称：1、架腿，2、架板，3、固定架，4、活动脚，5、滑槽，6、凸边，7、定位装置，8、主脚板，9、微调腔，10、副脚板，11、微调槽，12、微调滑块，13、齿条，14、第一轴孔，15、第二轴孔，16、齿轮轴，17、调节轮，18、限位槽，19、调节螺栓。具体实施方式下面结合附图和实施例对本技术作进一步的描述，下列实施例仅用于解释本技术的
技术实现思路
，不用于限定本技术的保护范围。实施例1结合图1-图3，一种全站仪整平微调的脚架，包括底部铰接有三根架腿1的架板2，架腿1包括固定架3和活动脚4，固定架3的内壁成型有竖直的滑槽5，活动脚4的两侧成型有与滑槽5配合的凸边6，固定架3的底端设有用于限制活动脚4位置的定位装置7，活动脚4包括主脚板8，主脚板8内开设有竖直的微调腔9，微调腔9内设有与其配合的副脚板10，副脚板10能够沿微调腔9运动，主脚板8上设有用于改变副脚板10在微调腔9内位置的微调组件。如图3所示，微调腔9其中一个侧面上开设有微调槽11，微调槽11的截面为顶角向外的三角形；副脚板10上设有与微调槽11配合的微调滑块12，副脚板10的宽度小于微调腔9的宽度，副脚板10的与微调滑块12相对的侧面上设有齿条13；结合图3和图4，主脚板8上位于微调槽11的两侧开设有对应的第一轴孔14和第二轴孔15，第一轴孔14和第二轴孔15的连线位于齿条13的一侧，微调组件包括通过滚针轴承穿设于第一轴孔14和第二轴孔15之间且与齿条13配合的齿轮轴16，齿轮轴16对应第一轴孔14的一端伸出主脚板8且连接有调节轮17。对照图4和图5，齿轮轴16的长度大于第一轴孔14和第二轴孔15的间距，齿轮轴16的齿的长度小于第一轴孔14和第二轴孔15的间距，主脚板8的内壁位于第二轴孔15外开设有若干与齿轮轴16的齿配合限位槽18。本实施例的工作原理如下：在使用时，先松开定位装置，让活动脚伸出使架板大致水平，安置全站仪后根据全站仪上的气泡方向，旋转对应架腿上的调节轮齿轮，带动齿条使副脚板在主脚板内上下微小移动，直到全站仪气泡在该方向上居中；然后向内推动调节轮(图4中从右向左方向)，使齿轮轴上的齿卡进限位槽。然后用相同的方法调整另一个方向，直到各个方向气泡均居中为止。实施例2参照图6-8，本实施例与实施例1的区别在于：微调组件包括通过滚针轴承设于微调腔9内位于齿条13一侧的调节螺栓19，调节螺栓19竖直布置且与齿条13配合，调节螺栓19的顶部伸出微调腔9且连接有调节轮17。本实施例相对于实施例1，是利用调节螺栓的旋转带动齿条上下移动从而实现副脚板的微调，其调整更加精密，而且在调节结束之后调节螺栓在该结构中有自锁的能力，不需要增加额外的结构就可以固定副脚板的位置。综上，仅为本技术之较佳实施例，不以此限定本技术的保护范围，凡依本技术专利范围及说明书内容所作的等效变化与修饰，皆为本技术专利涵盖的范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种全站仪整平微调的脚架，包括底部铰接有三根架腿(1)的架板(2)，所述架腿(1)包括固定架(3)和活动脚(4)，所述固定架(3)的内壁成型有竖直的滑槽(5)，所述活动脚(4)的两侧成型有与所述滑槽(5)配合的凸边(6)，所述固定架(3)的底端设有用于限制所述活动脚(4)位置的定位装置(7)，其特征在于：所述活动脚(4)包括主脚板(8)，所述主脚板(8)内开设有竖直的微调腔(9)，所述微调腔(9)内设有与其配合的副脚板(10)，所述副脚板(10)能够沿所述微调腔(9)运动，所述主脚板(8)上设有用于改变所述副脚板(10)在所述微调腔(9)内位置的微调组件。

【技术特征摘要】
1.一种全站仪整平微调的脚架，包括底部铰接有三根架腿(1)的架板(2)，所述架腿(1)包括固定架(3)和活动脚(4)，所述固定架(3)的内壁成型有竖直的滑槽(5)，所述活动脚(4)的两侧成型有与所述滑槽(5)配合的凸边(6)，所述固定架(3)的底端设有用于限制所述活动脚(4)位置的定位装置(7)，其特征在于：所述活动脚(4)包括主脚板(8)，所述主脚板(8)内开设有竖直的微调腔(9)，所述微调腔(9)内设有与其配合的副脚板(10)，所述副脚板(10)能够沿所述微调腔(9)运动，所述主脚板(8)上设有用于改变所述副脚板(10)在所述微调腔(9)内位置的微调组件。2.根据权利要求1所述的一种全站仪整平微调的脚架，其特征在于：所述微调腔(9)其中一个侧面上开设有微调槽(11)，所述微调槽(11)的截面为顶角向外的三角形；所述副脚板(10)上设有与所述微调槽(11)配合的微调滑块(12)，所述副脚板(10)的宽度小于所述微调腔(9)的宽度，所述副脚板(10)的与所述微调滑块(12)相对的侧面上设有齿条(13)；所述主脚板(8)上位于所述微调槽(11)的两侧开设有对应的第一轴孔(14)和第二轴孔(15)，所述第一轴孔(14)和所述第二轴孔(15)的连线位于所述齿条(13)的一侧，所述微调组...

【专利技术属性】
技术研发人员：张敬宗，
申请(专利权)人：北方工业大学，
类型：新型
国别省市：北京,11