【技术实现步骤摘要】
涂覆的光学元件、具其的组件及其制造方法
本专利技术总体涉及涂覆有薄膜的光学元件，例如具有抗反射涂层、或涂覆有介质波长滤光片涂层、或者部分反射或吸收涂层的元件。特别地，本专利技术涉及如下的布置：通过施加了所述涂层的界面处的阳极键合将光学元件固定到另外的元件上。
技术介绍
US2003/0021004A1公开了一种用于制造光学MEMS器件的方法，其中，提供光学透射基板，在基板的一个或两个表面上沉积光学涂层，以实现或改善光学信号沿着穿过光学涂层和基板的路径的传输。基板通常包围有源或无源光学元件，该有源或无源光学元件可以是光学传感器、光发射器或无源可移动的可致动微结构，由此，微结构的致动导致微结构与光信号相互作用。将施加到这种基板上的光学涂层图案化，使其仅存在于微结构的有源或无源或可致动部分之下或之上，即，在光信号的路径中，而非第一基板上与第二基板的键合受影响的区域处。阳极键合是制造MEMS器件的标准方法，特别是用于封装器件。将含碱玻璃用于键合。合适的有含钠硼硅酸盐玻璃或钠钙玻璃。为了实现阳极键合，加热玻璃直到碱离子在玻璃内开始移动。施加电场使得碱离子朝向与玻璃接触的电极...
【技术保护点】
1.一种光学元件(1)，其包括含碱玻璃(5)的光学透明基板(3)和表面(7)上的涂层(9)，所述涂层(9)使得所述含碱玻璃(5)能够在所述表面(7)的覆盖有所述涂层(9)的区域内进行阳极键合，并且在所述涂层的外表面(91)处形成阳极键。
【技术特征摘要】
2018.04.27 DE 102018110193.71.一种光学元件(1)，其包括含碱玻璃(5)的光学透明基板(3)和表面(7)上的涂层(9)，所述涂层(9)使得所述含碱玻璃(5)能够在所述表面(7)的覆盖有所述涂层(9)的区域内进行阳极键合，并且在所述涂层的外表面(91)处形成阳极键。2.根据前述权利要求所述的光学元件(1)，其特征在于，所述涂层至少在其外表面(91)处是不含碱的。3.根据前述权利要求中任一项所述的光学元件，其特征在于，所述涂层(9)的外表面是亲水的或极性的。4.根据前述权利要求中任一项所述的光学元件，其特征在于，所述涂层(9)的外表面(91)包括以下之一：-SiO2、SiOx(即，通常为氧化硅)、Al2O3、AlOx(即，通常为氧化铝)，-金属，-金属氧化物，如Sc2O3、Ta2O5、Nb2O5、ZrO2、TiO和HfO2，-氟化物和硫化物，如MgF2、ZnS、氟化钡(BaF2)、氟化钙(CaF2)、氟化铈(CeF3)、氟化镧(LaF3)、氟化钕(NdF3)、氟化镱(YbF3)、氟化铝(AlF3)、氟化镝(DyF3)和氟化钇(YF3)，以及-它们的混合物，即包含一种或多种上述材料的材料(因此也为包含至少一种这些所述材料的掺杂和混合材料)，例如掺Al的SiO2或掺Si的TiO2。5.根据前述权利要求中任一项所述的光学元件，其特征在于，所述基板具有面，特别是被所述涂层(9)完全覆盖的平面。6.根据前述权利要求中任一项所述的光学元件，其特征在于，所述涂层的厚度在2nm至50μm的范围内，优选地在20nm至20μm的范围内。7.根据前述权利要求中任一项所述的光学元件，其特征在于，所述涂层(9)包括至少两层。8.根据权利要求7所述的光学元件，其特征在于，所述涂层包括：非键合材料层，其不通过阳极键合与其它表面键合；以及另一材料层，其使得所述含碱玻璃在所述表面的覆盖有所述涂层的区域上能够进行阳极键合。9.根据权利要求8所述的光学元件，其特征在于，所述另一层的厚度在1nm和20nm之间，优选地在4nm和20nm之间，特别是在5nm和15nm之间。10.根据权利要求6或7所述的光学元件，其中，所述涂层的最上层的厚度在50nm至1000nm的范围内。11.根据前述权利要求中任一项所述的光学元件，其特征在于，所述涂层(9)的外表面(91)的粗糙度(Rq)在0.1和2nmRMS之间。12.根据前述权利要求中任一项所述的光学元件，其特征在于，所述涂层(9)是以下之一：-抗反射涂层，-具有或没有保护层的镜面涂层(金属镜面涂层、介质镜面涂层或这些镜面涂层的组合)，-滤光片涂层或分束器涂层，所述滤光片涂层特别是二向色滤光片涂层、偏振滤光片涂层、带通滤光片涂层、低通滤光片涂层、高通滤光片涂层、中性密度滤光片涂层、单或多陷波滤光片涂层。13.根据前述权利要求中任一项所述的光学元件，其特征在于，所述涂层包括氮化物、氧氮化物、碳氮化物或碳化物或其混合物。14.一种组件(2)，其包括：光学元件(1)，其具有含碱玻璃(5)的光学透明基板(3)和所述基板...
【专利技术属性】
技术研发人员：M·D·阿克曼，M·G·加尼尔，D·阿皮茨，U·G·布劳内克，
申请(专利权)人：肖特股份有限公司，
类型：发明
国别省市：德国,DE
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