光学检测系统及方法技术方案

本发明专利技术涉及光学技术领域，公开一种光学检测系统及方法，以快速完成物体表面的缺陷检测。本发明专利技术系统包括：多光谱光源；位于所述多光谱光源与待测物体之间的偏转装置，用于将来自所述多光谱光源出射的不同波长的光束分别偏转到与波长大小相对应的方向上，并将偏转后不同波长的光束出射至所述待测物体；数据处理装置，用于接收由所述待测物体表面反射的光束，并将该反射光谱与对应标准件反射的参考标定光谱进行光谱差异对比，确定发生差异的波长，进而根据发生差异的波长计算所述待测物体表面缺陷所对应的空间坐标。

【技术实现步骤摘要】
光学检测系统及方法
本专利技术涉及光学
，尤其涉及一种光学检测系统及方法。
技术介绍
随着现代工业技术的发展，对高精度加工技术的要求越来越高，与此同时，表面检测也成为工业发展必不可少的一环，在一定程度上反映了一个国家的工业发展水平。表面检测通常是利用材料表面结构异常或缺陷或异物引起的热、声、光、电、磁等反应的变化，以物理或化学方法为手段，借助现代化技术和设备，对被测件表面缺陷(或异物)的类型、性质、数量、形状、位置、尺寸、分布及其变化进行检测。传统光学表面缺陷检测，多采用散射能量分析法、傅里叶频谱分析法、双光束干涉法、滤波成像法等，这些方法都具有各自的局限性。例如散射能量分析法系统复杂，检测速度慢，并且无法确定缺陷的具体位置；频谱分析法受缺陷深层构造影响较大,不能够反映出缺陷表层的面积大小；双光束干涉法干涉条纹易漂移，且不适应多种缺陷检测；滤波成像法针对光束空间频谱中高频成分或低频成分成像，受噪声干扰大。
技术实现思路
本专利技术目的在于公开一种光学检测系统及方法，以快速完成物体表面的缺陷检测。为达上述目的，本专利技术公开一种光学检测系统，包括：多光谱光源；位于所述多光谱光源与待测本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学检测系统，其特征在于，包括：多光谱光源；位于所述多光谱光源与待测物体之间的偏转装置，用于将来自所述多光谱光源出射的不同波长的光束分别偏转到与波长大小相对应的方向上，并将偏转后不同波长的光束出射至所述待测物体；数据处理装置，用于接收由所述待测物体表面反射的光束，并将该反射光谱与对应标准件反射的参考标定光谱进行光谱差异对比，确定发生差异的波长，进而根据发生差异的波长计算所述待测物体表面缺陷所对应的空间坐标。

【技术特征摘要】
1.一种光学检测系统，其特征在于，包括：多光谱光源；位于所述多光谱光源与待测物体之间的偏转装置，用于将来自所述多光谱光源出射的不同波长的光束分别偏转到与波长大小相对应的方向上，并将偏转后不同波长的光束出射至所述待测物体；数据处理装置，用于接收由所述待测物体表面反射的光束，并将该反射光谱与对应标准件反射的参考标定光谱进行光谱差异对比，确定发生差异的波长，进而根据发生差异的波长计算所述待测物体表面缺陷所对应的空间坐标。2.根据权利要求1所述的光学检测系统，其特征在于，所述多光谱光源出射的光为自然光，所述偏转装置包括用于将自然光偏转成偏转角度相反的左旋圆偏振光与右旋圆偏振光的偏振光栅，对应的所述数据处理装置设有分别对应所述待测物体和所述标准件的两套并行的光谱获取组件；其中，当所述左旋圆偏振光对应所述待测物体时，所述右旋圆偏振光对应所述标准件；或者，当所述右旋圆偏振光对应所述待测物体时，所述左旋圆偏振光对应所述标准件。3.根据权利要求1所述的光学检测系统，其特征在于，所述偏转装置包括：线性偏振器，邻近所述多光谱光源设置；1/4波片，位于所述线性偏振器与所述第一偏振光栅之间；位于所述1/4波片与所述待测物体之间的第一偏振光栅，用于将左旋或右旋入射的不同波长的圆偏振光分别偏转成右旋或左旋方向出射的圆偏振光。4.根据权利要求3所述的光学检测系统，其特征在于，所述偏转装置还包括：部署于共用同一所述线性偏振器与所述1/4波片的位置上的分光器，用于将光束一分为二以分别对应所述待测物体和标准件；位于所述1/4波片与所述标准件之间的第二偏振光栅，用于将左旋或右旋入射的不同波长的圆偏振光分别偏转成右旋或左旋方向出射的圆偏振光。...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈琪，张礼朝，李晓春，
申请(专利权)人：深圳市麓邦技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44