一种显示基板及其制作方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种显示基板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，为解决在对显示装置进行薄膜封装时，由于封装层表面不平坦导致的显示产品生产良率低的问题。所述显示基板，包括基底，设置在所述基底上的像素界定层，以及设置在由所述像素界定层限定的像素开口区中的发光单元，所述显示基板还包括：设置在所述像素界定层远离所述基底的表面的导流通道；以及，覆盖所述发光单元和所述像素界定层的封装层，且部分所述封装层填充所述导流通道。本发明专利技术提供的显示基板用于显示画面。

A Display Substrate and Its Fabrication Method and Display Device

【技术实现步骤摘要】
一种显示基板及其制作方法、显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种显示基板及其制作方法、显示装置。
技术介绍
有机发光二极管(英文：OrganicLight-EmittingDiode，以下简称：OLED)显示装置以其自发光、高对比度、响应速度快等优点受到广泛关注。这种OLED显示装置主要通过其内部的发光单元实现发光，该发光单元一般包括相对设置的阳极和阴极，以及设置在二者之间的有机发光材料层，工作时，通过向阳极和阴极写入驱动信号，来控制有机发光材料层发光，但是由于在实际生产和应用中，有机发光材料层容易被水和氧气侵蚀而失效，因此，一般会在发光单元上制作薄膜封装层，通过该薄膜封装层将发光单元与外界的水和氧气隔绝，从而保证OLED显示装置的使用寿命。但是相关技术中在制作封装层时，无法保证封装层的外表面的平坦性，从而降低了显示装置的生产良率。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种显示基板及其制作方法、显示装置，用于解决在对显示装置进行薄膜封装时，由于封装层表面不平坦导致的显示产品生产良率低的问题。为了实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：本专利技术的第一方面提供一种显示基板，包括基底，设置在所述基底上的像素界定层，以及设置在由所述像素界定层限定的像素开口区中的发光单元，所述显示基板还包括：设置在所述像素界定层远离所述基底的表面的导流通道；以及，覆盖所述发光单元和所述像素界定层的封装层，且部分所述封装层填充所述导流通道。可选的，所述导流通道包括凹槽结构。可选的，所述导流通道连通相邻的像素开口区。可选的，所述相邻的像素开口区包括目标像素开口区和非目标像素开口区，所述非目标像素开口区的开口面积大于所述目标像素开口区的开口面积。可选的，所述导流通道在所述基底上的正投影包围目标像素开口区在所述基底上的正投影，且沿第一方向，所述导流通道在垂直于所述基底的方向上的深度逐渐加深；所述第一方向包括由非目标像素开口区指向所述目标像素开口区的方向。可选的，所述发光单元包括红色发光单元、绿色发光单元和蓝色发光单元，所述绿色发光单元位于所述目标像素开口区，所述红色发光单元和所述蓝色发光单元均位于所述非目标像素开口区。可选的，所述像素界定层在垂直于所述基底的方向上的最大厚度在1.5μm～2μm之间，所述凹槽结构在垂直于所述基底的方向上的最大深度在0.5μm～1μm之间。可选的，所述显示基板还包括：设置在所述基底和所述像素界定层之间的薄膜晶体管阵列层，所述薄膜晶体管阵列层包括与所述发光单元一一对应的驱动晶体管；所述发光单元包括相对设置的阳极图形和阴极图形，以及设置在所述阳极图形和所述阴极图形之间的有机发光材料层，所述阳极图形与对应的所述驱动晶体管的输出电极电连接。基于上述显示基板的技术方案，本专利技术的第二方面提供一种显示装置，包括上述显示基板。基于上述显示基板的技术方案，本专利技术的第三方面提供一种显示基板的制作方法，用于制作上述显示基板，所述制作方法包括制作像素界定层和封装层的步骤，该步骤具体包括：制作像素界定层，并在所述像素界定层远离所述显示基板的基底的表面制作导流通道，所述像素界定层限定出用于容纳所述显示基板中的发光单元的像素开口区；采用喷墨打印工艺将封装材料打印在所述像素界定层远离所述基底的一侧，所述封装材料经所述导流通道在所述像素界定层远离所述基底的一侧流平，以覆盖全部所述发光单元和所述像素界定层；固化流平后的封装材料，形成封装层。可选的，当所述导流通道包括凹槽结构时，制作所述像素界定层和所述导流通道的步骤具体包括：制作像素界定薄膜；利用半色调掩膜板对所述像素界定薄膜进行图案化，在一次构图工艺中同时形成所述像素界定层和所述凹槽结构。可选的，当所述显示基板包括薄膜晶体管阵列层，所述发光单元包括阳极图形、有机发光材料层和阴极图形时，所述制作方法还包括：在制作所述像素界定层之前，在所述基底上制作薄膜晶体管阵列层，所述薄膜晶体管阵列层包括与所述发光单元一一对应的驱动晶体管；制作与所述驱动晶体管一一对应电连接的阳极图形；在制作所述像素界定层之后，所述像素界定层限定的像素开口区暴露对应的所述阳极图形的至少部分，在暴露的所述阳极图形远离所述基底的表面制作有机发光材料层；在所述有机发光材料层远离所述基底的表面制作阴极图形。本专利技术提供的技术方案中，在像素界定层远离基底的表面设置了导流通道，使得在制作封装层时，封装材料能够经导流通道在像素界定层远离基底的一侧流平，从而使得在对该封装材料固化形成封装层后，封装层远离基底的表面具有良好的平坦性，有效提升了显示基板的生产良率，减少生产损失。附图说明此处所说明的附图用来提供对本专利技术的进一步理解，构成本专利技术的一部分，本专利技术的示意性实施例及其说明用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的不当限定。在附图中：图1为本专利技术实施例提供的导流通道连通像素开口区的一种连通示意图；图2为沿图1中A1A2方向的截面示意图；图3为本专利技术实施例提供的导流通道连通像素开口区的另一种连通示意图；图4为沿图3中B1B2方向的截面示意图；图5为本专利技术实施例提供的第一种连通方式下显示基板的俯视示意图；图6为本专利技术实施例提供的第二种连通方式下显示基板的俯视示意图；图7为本专利技术实施例提供的第三种连通方式下显示基板的俯视示意图；图8为本专利技术实施例提供的制作像素界定层和凹槽结构的流程示意图。附图标记：1-基底，2-发光单元，21-红色发光单元，22-绿色发光单元，23-蓝色发光单元，31-像素界定薄膜，32-像素界定层，4-导流通道，5-半色调掩膜板，51-全透光区域，52-半透光区域，53-遮光区域，6-薄膜晶体管阵列层，7-像素开口区。具体实施方式为了进一步说明本专利技术实施例提供的显示基板及其制作方法、显示装置，下面结合说明书附图进行详细描述。相关技术中，为了避免水和氧气对OLED显示产品中的有机发光材料层产生影响，一般会对OLED显示产品进行薄膜封装，薄膜封装的具体过程包括：先制作一层无机封装薄膜，然后继续在无机封装薄膜上制作有机封装薄膜，在制作有机封装薄膜时，可利用无色透明的液态有机材料，通过喷墨打印工艺喷涂至无机封装薄膜上，液态有机材料自由流动一段时间后，即能够覆盖全部发光单元时，对液态有机材料进行固化，形成有机封装薄膜，但是通过上述方式制作的有机封装薄膜的表面平坦性较差，从而降低了显示装置的生产良率。基于上述问题的存在，本专利技术的专利技术人经研究发现，导致有机封装薄膜表面平坦性较差的原因如下：OLED显示装置包括不同颜色的发光单元，示例性的，包括红色发光单元、绿色发光单元和蓝色发光单元，由于受到有机发光材料的限制，绿色发光单元的面积会比红色发光单元和蓝色发光单元的面积小很多，从而使得在制作有机封装薄膜时，液态有机材料在绿色发光单元处的流平效果较在红色发光单元和蓝色发光单元处的流平效果差，进而造成有机封装薄膜在红色发光单元和蓝色发光单元处的厚度，与有机封装薄膜在绿色发光单元处的厚度存在差异，从而使得有机封装薄膜的表面出现凹坑或橘皮状不良，影响显示产品的生产良率。本专利技术的专利技术人经进一步研究发现，可通过在相邻的发光单元之间制作导流通道，使得液态有机材料通过该导流通道流平整个待封装区域，从而保证所制作的有机封装薄膜的平坦性。请参阅图1、图2和图5所示本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示基板，包括基底，设置在所述基底上的像素界定层，以及设置在由所述像素界定层限定的像素开口区中的发光单元，其特征在于，所述显示基板还包括：设置在所述像素界定层远离所述基底的表面的导流通道；以及，覆盖所述发光单元和所述像素界定层的封装层，且部分所述封装层填充所述导流通道。

【技术特征摘要】
1.一种显示基板，包括基底，设置在所述基底上的像素界定层，以及设置在由所述像素界定层限定的像素开口区中的发光单元，其特征在于，所述显示基板还包括：设置在所述像素界定层远离所述基底的表面的导流通道；以及，覆盖所述发光单元和所述像素界定层的封装层，且部分所述封装层填充所述导流通道。2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述导流通道包括凹槽结构。3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述导流通道连通相邻的像素开口区。4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述相邻的像素开口区包括目标像素开口区和非目标像素开口区，所述非目标像素开口区的开口面积大于所述目标像素开口区的开口面积。5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述导流通道在所述基底上的正投影包围目标像素开口区在所述基底上的正投影，且沿第一方向，所述导流通道在垂直于所述基底的方向上的深度逐渐加深；所述第一方向包括由非目标像素开口区指向所述目标像素开口区的方向。6.根据权利要求4或5所述的显示基板，其特征在于，所述发光单元包括红色发光单元、绿色发光单元和蓝色发光单元，所述绿色发光单元位于所述目标像素开口区，所述红色发光单元和所述蓝色发光单元均位于所述非目标像素开口区。7.根据权利要求2～5中任一项所述的显示基板，其特征在于，所述像素界定层在垂直于所述基底的方向上的最大厚度在1.5μm～2μm之间，所述凹槽结构在垂直于所述基底的方向上的最大深度在0.5μm～1μm之间。8.根据权利要求2～5中任一项所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括：设置在所述基底和所述像素界定层之间的薄膜晶体管阵列层，所述薄膜晶体管阵列层包括与所述发光单元一一对应的驱动晶体管；所述发光单元包括相对设置的阳极图形和阴...

【专利技术属性】
技术研发人员：卢冠宇，王大伟，赵海平，修瑞棋，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11