发射辐射的设备制造技术

在至少一个实施方式中，发射辐射的设备(100)包括辐射源(5)和发射面(1)，在运行时出自所述辐射源(5)的辐射穿过所述发射面。发射面包括多个像素(10)。每个像素包括多个子像素(11，12)。在发射面的俯视图中观察，每个像素形成发射面的部分面并且每个子像素形成这种部分面的一个部段。在每个像素中，至少第一子像素(11)可单独地并且彼此无关地运行。一个像素的所有子像素共计为所述像素的面积的至多50％，使得在所有子像素同时运行时经由所述像素的面积的至多50％发射辐射。

Equipment for Emitting Radiation

【技术实现步骤摘要】
发射辐射的设备
提出一种发射辐射的设备。
技术实现思路
待实现的目的在于，提出一种具有改进的对比度的发射辐射的设备。该目的尤其通过本专利技术的实施例的主题实现。有利的设计方案和改进形式是实施例的主题。根据至少一个实施方式，发射辐射的设备包括辐射源和发射面。在所述设备运行时，出自辐射源的辐射穿过所述发射面。由辐射源发射的辐射优选是在可见光谱范围中的光。辐射源能够包括一个或多个光电子半导体芯片或者发光二极管或者一个或多个有机发光二极管。发射面能够部分地通过辐射源形成。但是，发射面也能够通过独立的元件例如液晶元件形成。根据至少一个实施方式，发射面包括多个像素。在此，将像素理解为图像点或者图像单元或者图像元素。像素是发射面的发射区。在被操控的像素的区域中，辐射从辐射源穿过发射面。该辐射于是能够离开所述设备或者耦合输入到所述设备的其它部件中。像素优选可单独地或者彼此无关地被操控。发射辐射的设备的所有像素一起例如能够用于显示图像。也就是说，所述设备优选是显示元件，例如显示器，例如LC显示器或者OLED显示器。像素优选沿着横向方向，即沿着平行于所述设备的主延伸平面或者发射面的方向并排设置。所述设备的主延伸平面或者发射面是贯穿所述设备或者所述发射面的均衡平面。发射面例如包括至少100个或者至少1000个或者至少1000000个像素。这些像素能够矩阵状地设置。例如，每个像素设置在栅格的格点处，所述栅格例如是矩形栅格或者方形栅格或者六边形栅格或者平行四边形栅格。根据至少一个实施方式，每个像素包括多个子像素。子像素是像素的子单元。每个像素例如包括至少两个或者至少五个或者至少十个或者至少50个或者至少100个子像素。像素优选均包括相同数量的子像素。根据至少一个实施方式，在辐射面的俯视图中观察，每个像素形成发射面的部分面，尤其单连通的部分面。该部分面能够方形或者矩形或者平行四边形或者六边形或者三角形或者圆形或者椭圆形地构成。每个子像素形成这个部分面的一个部段，尤其单连通部段。子像素优选与像素单义地相关联。也就是说，通过一个子像素形成的部段仅位于唯一的通过一个像素形成的部分面中。换言之，像素的所有子像素能够通过部分面的轮廓围住，例如通过方形或者矩形或者平行四边形或者六边形或者三角形或者圆形或者椭圆形的轮廓围住，其中该轮廓形成所述像素的边缘或者通过所述像素形成的部分面。该轮廓优选仅围住与所述像素相关联的子像素的部段。通过不同的子像素形成的部段彼此不重叠。通过子像素形成的部段同样能够矩形地或者方形地或者平行四边形地或者六边形地或者三角形地或者圆形地或者椭圆形地构成。像素例如具有至少0.01mm2或者至少0.1mm2或者至少0.5mm2的面积。替选地或者附加地，像素的面积能够为至多100mm2或者至多10mm2或者至多5mm2。子像素的大小例如为至少1μm2或者至少10μm2或者至少50μm2。替选地或者附加地，子像素的大小例如能够为至多1000μm2或者至多500μm2或者至多200μm2。两个彼此相邻的像素之间的横向间距例如为最大50μm，尤其最大5μm。尤其是，彼此相邻的像素彼此紧邻地设置。根据至少一个实施方式，在每个像素中至少第一子像素可单独地并且彼此无关地运行。也就是说，优选地，每个像素包括多个第一子像素，所述第一子像素可彼此无关地运行。每个像素例如包括至少两个或者至少五个或者至少十个或者至少50个或者至少100个第一子像素。第一子像素是子像素的子集。在子像素运行时，经由发射面的对应部段发射辐射。子像素能够经由电操控来接通和切断。在切断状态中，经由发射面的与被切断的子像素相关联的部段优选不发射辐射或者发射接通状态的辐射强度的至多5％。每个第一子像素能够与像素的其它第一子像素无关地接通和切断。根据至少一个实施方式，运行的子像素在其整个面上发射辐射。也就是说，发射面的与子像素相关联的部段通过如下区域限定，在子像素的接通状态中辐射源的辐射经由所述区域从发射面出射。尤其是，发射面的所有如下区域与子像素相关联，经由所述区域在运行时发射辐射。发射面的没有形成子像素的一部分的区域不设计用于发射辐射。根据至少一个实施方式，一个像素的所有子像素共计为该像素的面积的至多50％或者至多40％或者至多30％或者至多20％或者至多10％。因此，在一个像素的所有子像素同时运行时，经由该像素的至多50％或者至多40％或者至多30％或者至多20％或者至多10％的面积发射辐射。这优选适用于发射面的多个像素，特别优选适用于发射面的所有像素。一个像素的所有子像素例如一起共计为该像素的面积的至少5％。换言之，一个像素的至多上述面积份额的面积设计用于发射辐射。也就是说，像素面积的至少50％或者至少60％或者至少70％或者至少80％或者至少90％不设计用于发射辐射。在常规运行时没有辐射经由所述像素面积发射。在至少一个实施方式中，发射辐射的设备包括辐射源和发射面，在运行时，出自辐射源的辐射穿过所述发射面。发射面包括多个像素。每个像素包括多个子像素。在发射面的俯视图中观察，每个像素形成发射面的部分面并且每个子像素形成这种部分面的一个部段。在每个像素中，至少第一子像素可单独地并且彼此无关地运行。运行的子像素在其整个面上发射辐射。一个像素的所有子像素共计为该像素的面积的至多50％，使得在所有子像素同时运行时经由像素的面积的至多50％发射辐射。本专利技术尤其基于如下知识：像素化的发射面，例如用于裸眼立体显示器的像素化的发射面，通常具有差的对比度，尤其差的黑电平。通过像素的至多50％的填充系数，也就是说，通过用子像素占用像素面至多50％，能够将像素的与子像素不相关联的区域用于改进对比度或者黑电平。根据至少一个实施方式，发射辐射的设备还包括光学元件，所述光学元件沿着放射方向设置在发射面下游并且所述光学元件设计用于使由发射面发射的辐射转向。光学元件例如能够包括一个或多个透镜或者一个或多个棱镜。光学元件例如与发射面间隔至多1cm或者至多1mm或者至多100μm。光学元件在发射面的俯视图中能够完全地或者至少80％地覆盖发射面。根据至少一个实施方式，在运行时光学元件将出自唯一的或者所有的像素的第一子像素的辐射仅仅或者至少80％转向到第一空间区域中。第一空间区域优选是单连通的空间区域。第一空间区域关于发射面的中央例如覆盖为至少0.25·π的空间角范围。位于发射面上的并且穿过发射面的中央的法线例如伸展穿过第一空间区域。第一空间区域能够围绕该法线对称地设置。根据至少一个实施方式，发射辐射的设备设计用于，使得所述设备在运行时对于在第一空间区域中看到发射面的观察者而言产生具有三维视觉印象的图像。也就是说，该像素的第一子像素设计用于，在运行时产生三维图像。为了在第一空间区域中看到三维图像印象，可能需要辅助机构，例如偏光眼镜或者快门眼镜。但是，优选地，这样辅助机构是不必要的。发射辐射的设备例如经由裸眼立体方式产生三维图像印象。根据至少一个实施方式，发射辐射的设备设计用于，使得所述设备在运行时在第一空间区域的不同的区中成像图像的不同的立体图。所述区优选从距发射面的最小距离起不彼此重叠。所述最小距离能够为至少50cm或者至少1m或者至少5m。通过同时看到两个立体图，对于观察者而言产生三维图像印象。发射本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种发射辐射的设备(100)，所述发射辐射的设备包括：‑辐射源(5)，‑发射面(1)，在运行时出自所述辐射源(5)的辐射穿过所述发射面，‑光学元件(2)，所述光学元件沿着放射方向设置在所述发射面(1)下游，并且所述光学元件设计用于使从所述发射面(1)发射的辐射转向，其中‑所述发射面(1)包括多个像素(10)，‑每个像素(10)包括多个子像素(11，12)，‑在所述发射面(1)的俯视图中观察，每个像素(10)形成所述发射面(1)的部分面，并且每个子像素(11，12)形成这种部分面的一个部段，‑在每个像素(10)中，至少第一子像素(11)能够单独地并且彼此无关地运行，‑所述像素(10)中的至少一些像素包括一个或多个第二子像素(12)，所述第二子像素能够与所述第一子像素(11)无关地运行，‑一个像素(10)的所有子像素(11，12)一起共计为该像素(10)的面积的至多50％，使得在所有子像素(11，12)同时运行时经由该像素(10)的面积的至多50％发射辐射，‑所述光学元件(2)使出自一些像素(10)的第一子像素(11)的辐射仅转向到第一空间区域(3)中，‑所述光学元件(2)使出自一些像素(10)的第二子像素(12)的辐射仅转向到第二空间区域(4)中，‑所述第一空间区域(3)和所述第二空间区域(4)从距所述发射面(1)的最小距离起不彼此重叠，‑所述发射辐射的设备(100)设计为，使得所述发射辐射的设备在运行时对于在第一空间区域(3)中看到所述发射面(1)的观察者而言产生具有三维视觉印象的图像，‑所述发射辐射的设备(100)设计为，使得所述发射辐射的设备对于在第二空间区域(4)中看到所述发射面(1)的观察者而言显示具有二维视觉印象的图像。...

【技术特征摘要】
2018.03.29 DE 102018107628.21.一种发射辐射的设备(100)，所述发射辐射的设备包括：-辐射源(5)，-发射面(1)，在运行时出自所述辐射源(5)的辐射穿过所述发射面，-光学元件(2)，所述光学元件沿着放射方向设置在所述发射面(1)下游，并且所述光学元件设计用于使从所述发射面(1)发射的辐射转向，其中-所述发射面(1)包括多个像素(10)，-每个像素(10)包括多个子像素(11，12)，-在所述发射面(1)的俯视图中观察，每个像素(10)形成所述发射面(1)的部分面，并且每个子像素(11，12)形成这种部分面的一个部段，-在每个像素(10)中，至少第一子像素(11)能够单独地并且彼此无关地运行，-所述像素(10)中的至少一些像素包括一个或多个第二子像素(12)，所述第二子像素能够与所述第一子像素(11)无关地运行，-一个像素(10)的所有子像素(11，12)一起共计为该像素(10)的面积的至多50％，使得在所有子像素(11，12)同时运行时经由该像素(10)的面积的至多50％发射辐射，-所述光学元件(2)使出自一些像素(10)的第一子像素(11)的辐射仅转向到第一空间区域(3)中，-所述光学元件(2)使出自一些像素(10)的第二子像素(12)的辐射仅转向到第二空间区域(4)中，-所述第一空间区域(3)和所述第二空间区域(4)从距所述发射面(1)的最小距离起不彼此重叠，-所述发射辐射的设备(100)设计为，使得所述发射辐射的设备在运行时对于在第一空间区域(3)中看到所述发射面(1)的观察者而言产生具有三维视觉印象的图像，-所述发射辐射的设备(100)设计为，使得所述发射辐射的设备对于在第二空间区域(4)中看到所述发射面(1)的观察者而言显示具有二维视觉印象的图像。2.根据权利要求1所述的发射辐射的设备(100)，所述发射辐射的设备设计为，使得所述发射辐射的设备在运行时在所述第一空间区域(3)的不同的区(30)中成像图像的不同的立体图，其中通过观察者同时看到两个立体图来产生三维图像印象。3.根据权利要求1或2所述的发射辐射的设备(100)，其中-在所述发射面(1)的俯视图中观察，一个像素(10)形成所述发射面(1)的平行四边形状的部分面，-通过一个像素(10)形成的所述平行四边形状的部分面能够划分为至少两个不相交的、平行四边形状的部段(10a，10b)，使得所有第一子像素(11)设置在第一平行四边形状的部段(10a)中而所有第二子像素(12)设置在一个或多个另外的平行四边形状的部段(10b)中，其中每个平行四边形状的部段(...

【专利技术属性】
技术研发人员：彼得·布里克，胡贝特·哈尔布里特，米科·佩雷莱，
申请(专利权)人：欧司朗光电半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：德国,DE