一种等离子体发生装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及等离子体技术领域，公开了一种等离子体发生装置，包括气室、第一绝缘层与第一电极，第一电极安装在第一绝缘层上，气室与第一绝缘层相围绕形成气体缓冲空间，气室上设有连通气体缓冲空间的进气口，第一绝缘层上设有若干连通气体缓冲空间的出气口。本实用新型专利技术通过在气室与第一绝缘层之间设置气体缓冲空间，以及在第一绝缘层上设置若干的出气口，可以使得工作气体均匀的进入放电区域，保证放电的均匀性。

A plasma generator

【技术实现步骤摘要】
一种等离子体发生装置
本技术涉及等离子体
，尤其是涉及一种可以产生等离子体的发生装置。
技术介绍
等离子体含有大量的带电离子、高能电子、激发态活性原子等成份，具有温度低、生物化学性质活泼等特点，近几十年来，备受人们的广泛关注。目前诸多研究表明等离子体技术在航天、环境、生物医疗、材料表面处理、食品存储、三废处理等方面均具有明显的积极的作用，这也推动了等离子体技术进一步的应用推广。目前等离子体的生成方式多数采用介质阻挡放电原理，即在电极间施加足够高的交流电压，使得电极间的工作气体被击穿而产生放电现象，然而现有的等离子体发生装置存在缺陷：进入发生装置的工作气体通常是先在局部区域富集，然后向其他区域扩散，放电区域内的工作气体分布不均匀，容易产生放电不均匀的问题。
技术实现思路
为了克服现有技术的不足，本技术提供一种等离子体发生装置，用于解决现有技术中放电区域内的工作气体分布不均匀，以及放电不均匀的问题。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是：一种等离子体发生装置，包括气室、第一绝缘层与第一电极，第一电极安装在第一绝缘层上，气室与第一绝缘层之间围绕形成气体缓冲空间，气室上设有连通气体缓冲空间的进气口，第一绝缘层上设有若干连通气体缓冲空间的出气口。作为上述方案的进一步改进方式，出气口均匀分布在第一绝缘层上。作为上述方案的进一步改进方式，出气口为条形槽。作为上述方案的进一步改进方式，条形槽相互平行，且相邻条形槽之间的间距相等。作为上述方案的进一步改进方式，装置还包括层叠设于第一绝缘层与气室之间的第二绝缘层，以及安装在第一绝缘层上的第二电极，第二绝缘层上设有分别连通气体缓冲空间与出气口的气道。作为上述方案的进一步改进方式，装置还包括层叠设于第二绝缘层与气室之间的第三绝缘层，第一电极绝缘封装于第一绝缘层与第二绝缘层之间，第二电极绝缘封装于第二绝缘层与第三绝缘层之间。作为上述方案的进一步改进方式，第一绝缘层朝向第二绝缘层的表面上设有第一电极槽，第一电极嵌设在第一电极槽内；第二绝缘层朝向第三绝缘层的表面上设有第二电极槽，第二电极嵌设在第二电极槽内。作为上述方案的进一步改进方式，第一电极槽沿进气口的周向分布，第二电极槽沿气道的周向分布。作为上述方案的进一步改进方式，第一绝缘层的外侧表面上设有若干的凸起。作为上述方案的进一步改进方式，气室、第一绝缘层与第一电极可柔性弯折。作为上述方案的进一步改进方式，气室的材料为硅胶、聚酰亚胺、PET或者PDMS，第一绝缘层的材料为硅胶、聚酰亚胺、PET或者PDMS，第一电极的材料为导电布、铜箔或者纳米银线。本技术的有益效果是：本技术通过在气室与第一绝缘层之间设置气体缓冲空间，以及在第一绝缘层上设置若干的出气口，可以使得工作气体均匀的进入放电区域，保证放电的均匀性。附图说明下面结合附图和实施例对本技术进一步说明。图1是本技术第一个实施例的立体示意图；图2是本技术第一个实施例的分解示意图；图3是本技术第一个实施例的剖视图；图4是本技术第二个实施例的立体示意图；图5是本技术第二个实施例的分解示意图；图6是本技术第二个实施例的剖视图。具体实施方式以下将结合实施例和附图对本技术的构思、具体结构及产生的技术效果进行清楚、完整的描述，以充分地理解本技术的目的、方案和效果。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。需要说明的是，如无特殊说明，当某一特征被称为“固定”、“连接”在另一个特征，它可以直接固定、连接在另一个特征上，也可以间接地固定、连接在另一个特征上。此外，本技术中所使用的上、下、左、右、前、后等描述仅仅是相对于附图中本技术各组成部分的相互位置关系来说的。此外，除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与本
的技术人员通常理解的含义相同。本文说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例，而不是为了限制本技术。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的组合。参照图1至图3，分别示出了本技术第一个实施例的立体示意图、分解示意图与剖视图。如图所示，本实施例中的等离子体发生装置包括气室1、第一绝缘层2与第一电极3。第一绝缘层2为平板结构，其具有大面积的工作面(本实施例中为第一绝缘层2的下表面)，可以产生大量的等离子体。第一电极3安装在第一绝缘层2上，具体的，第一绝缘层2朝向气室1的表面(本实施例中为第一绝缘层2的上表面)上设有第一电极槽21，第一电极槽21的底部封闭，顶部具有供第一电极3进入该第一电极槽21的开口。第一电极3嵌设在第一电极槽21内，使得第一电极3与外部绝缘，避免产生漏电或爬电的现象。本实施例将被处理的对象作为第二电极，使用时，第一绝缘层2与被处理对象的表面之间间隔一定的间隙，等离子体在该间隙内产生。其中被处理的对象为人体皮肤、动物皮肤或者需要改性的产品，等离子体作用在上述的被处理对象上时可以实现消毒杀菌、皮肤病治疗、伤口处理与材料改性等功能。本实施例中，第一绝缘层2的工作平面上设有若干的凸起22，该凸起22与被处理对象的表面抵持以形成上述间隙。第一绝缘层2与气室1层叠放置，二者相围绕形成气体缓冲空间101，同时气室1上设有连通气体缓冲空间101的进气口11，第一绝缘层2上设有若干连通气体缓冲空间101的出气口23。工作气体首先通过进气口11进入气体缓冲空间101，气体缓冲空间101一方面可以让气体预先进行扩散，减少气体的局部富集，另一方面也可以降低工作气体的流速，使得工作气体能够更加平稳的进入放电区域，从而保证放电的均匀性。第一绝缘层2上设置的若干出气口23可以使得气体缓冲空间101内的工作气体从不同方向进入间隙，进一步保证放电的均匀性。本实施例中的出气口23均匀分布于第一绝缘层2上，作为出气口23均匀分布的一种实施方式，出气口23为条形槽，各条形槽相互平行，且相邻条形槽之间的间距相等，各条形槽沿第一绝缘层2的长度方向分布。本技术对出气口的形状与分布方式不做限定，在其他实施例中，出气口23可以是气孔，出气口23可以按照圆周方向分布，保证出气口23布满或者至少分布在第一绝缘层2的大部分工作面即可。本实施例中，第一电极槽21沿出气口23的周向分布。本实施例中的气室1、第一绝缘层2与第一电极3均可柔性弯折，使得发生装置可以实现对非规则表面的贴合处理，提升发生装置的应用范围。气室1与第一绝缘层2可以采用硅胶、聚酰亚胺、PET或者PDMS等绝缘的柔性材料制成，第一电极则可以采用导电布、铜箔或者纳米银线等导电的柔性材料制成。参照图4至图6，分别示出了本技术第二个实施例的立体示意图、分解示意图与剖视图。如图所示，本实施例中的等离子体发生装置包括气室1、第一绝缘层2、第一电极3、第二绝缘层4、第三绝缘层5与第二电极6。第一绝缘层2、第二绝缘层4与第三绝缘层5均为平板结构，沿从下至上的方向，第一绝缘层2、第二绝缘层4、第三绝缘层5与气室1依次层叠放置。第一电极3绝缘封装于第一绝缘层2与第二绝缘层4之间，第二电极6绝缘封装于第二绝缘层4与第三绝缘层5之间，使得第一电极3、第二电极6均与外部绝缘，避免产生漏电或爬电的现象。第一电极3的安装方式与第一本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种等离子体发生装置，其特征在于，包括气室(1)、第一绝缘层(2)与第一电极(3)，所述第一电极(3)安装在所述第一绝缘层(2)上，所述气室(1)与所述第一绝缘层(2)相围绕形成气体缓冲空间(101)，所述气室(1)上设有连通所述气体缓冲空间(101)的进气口(11)，所述第一绝缘层(2)上设有若干连通所述气体缓冲空间(101)的出气口(23)。

【技术特征摘要】
1.一种等离子体发生装置，其特征在于，包括气室(1)、第一绝缘层(2)与第一电极(3)，所述第一电极(3)安装在所述第一绝缘层(2)上，所述气室(1)与所述第一绝缘层(2)相围绕形成气体缓冲空间(101)，所述气室(1)上设有连通所述气体缓冲空间(101)的进气口(11)，所述第一绝缘层(2)上设有若干连通所述气体缓冲空间(101)的出气口(23)。2.根据权利要求1所述的等离子体发生装置，其特征在于，所述出气口(23)均匀分布在所述第一绝缘层(2)上。3.根据权利要求2所述的等离子体发生装置，其特征在于，所述出气口(23)为条形槽。4.根据权利要求3所述的等离子体发生装置，其特征在于，所述条形槽相互平行，且相邻所述条形槽之间的间距相等。5.根据权利要求1至4中任一项所述的等离子体发生装置，其特征在于，所述等离子体发生装置还包括层叠设于所述第一绝缘层(2)与所述气室(1)之间的第二绝缘层(4)，以及安装在所述第一绝缘层(2)上的第二电极(6)，所述第二绝缘层(4)上设有分别连通所述气体缓冲空间(101)与所述出气口(23)的气道(42)。6.根据权利要求5所述的等离子体发生装置，其特征在于，所述等离子体...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄逸凡，江敏，王永刚，
申请(专利权)人：深圳先进技术研究院，
类型：新型
国别省市：广东,44