彩膜基板及其制作方法和显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例提供了一种彩膜基板及其制作方法和显示装置。其中彩膜基板包括衬底基板、黑矩阵和色阻层。黑矩阵设置在衬底基板表面，并在衬底基板上限定出多个透光区域，其中第一、第二和第三透光区域分布在像素区的暗区，第四、第五和第六透光区域分布在像素区的亮区。色阻层包括第一色阻、第二色阻、第三色阻和第四色阻，其中，第一透光区域设置有第一色阻，第二透光区域设置有第二色阻，第三透光区域设置有第三色阻，第四透光区域设置有第一色阻和第四色阻，第五透光区域设置有第二色阻和第四色阻，第六透光区域设置有第三色阻和第四色阻，第一色阻、第二色阻、第三色阻和第四色阻同层设置，且第四色阻的光透过率大于其它色阻的光透过率。

Color film substrate and its fabrication method and display device

【技术实现步骤摘要】
彩膜基板及其制作方法和显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种彩膜基板及其制作方法和显示装置。
技术介绍
目前LCD(LiquidCrystalDisplay,液晶显示)器是最广泛使用的显示器之一，LCD包括设置有场发生电极如像素电极和公共电极的一对基板以及设置在两个基板之间的液晶层，当施加电压到场发生电极从而在液晶层中产生电场，液晶分子在电场作用下进行偏转，由此可以控制光的透过情况使LCD显示图像。但是，鉴于液晶分子具有轴向透光性，液晶显示器中一直存在着大视角色偏的问题。
技术实现思路
基于此，有必要针对大视角色偏问题，提供一种彩膜基板及其制作方法和显示装置。本专利技术实施例提供了一种彩膜基板，包括：衬底基板；黑矩阵，设置在所述衬底基板表面，并在所述衬底基板上限定出多个透光区域，其中第一透光区域、第二透光区域和第三透光区域分布在像素区的暗区，第四透光区域、第五透光区域和第六透光区域分布在所述像素区的亮区；色阻层，包括第一色阻、第二色阻、第三色阻和第四色阻，其中，所述第一透光区域设置有所述第一色阻，所述第二透光区域设置有所述第二色阻，所述第三透光区域设置有所述第三色阻，所述第四透光区域设置有所述第一色阻和所述第四色阻，所述第五透光区域设置有所述第二色阻和所述第四色阻，所述第六透光区域设置有所述第三色阻和所述第四色阻，所述第一色阻、所述第二色阻、所述第三色阻和所述第四色阻同层设置，且所述第四色阻的光透过率大于其它色阻的光透过率。在其中一个实施例中，所述第一色阻为红色色阻，所述第二色阻为绿色色阻，所述第三色阻为蓝色色阻，所述第四色阻为白色色阻；在所述第四透光区域、所述第五透光区域和所述第六透光区域中，所述红/绿/蓝色色阻的面积与所述白色色阻的面积的比值为1.5～2.3。在其中一个实施例中，所述色阻层的厚度为2～4μm。在其中一个实施例中，所述彩膜基板还包括平坦化层，所述平坦化层设置在所述色阻层背向所述衬底基板的一侧，且覆盖色阻层。在其中一个实施例中，所述彩膜基板还包括透明电极层，设置在所述平坦化层背向所述色阻层的一侧。在其中一个实施例中，所述暗区的面积与所述亮区的面积的比值为1.5～2.3。基于同一专利技术构思，本专利技术实施例还提供了一种彩膜基板的制作方法，包括：在衬底基板上形成黑矩阵，所述黑矩阵在所述衬底基板上限定出多个透光区域，其中第一透光区域、第二透光区域和第三透光区域分布在像素区的暗区，第四透光区域、第五透光区域和第六透光区域分布在所述像素区的亮区；在形成所述黑矩阵的衬底基板上形成色阻层，所述色阻层包括第一色阻、第二色阻、第三色阻和第四色阻，其中，所述透光区域设置有所述第一色阻，所述第二透光区域设置有所述第二色阻，所述第三透光区域设置有所述第三色阻，所述第四透光区域设置有所述第一色阻和所述第四色阻，所述第五透光区域设置有所述第二色阻和所述第四色阻，所述第六透光区域设置有所述第三色阻和所述第四色阻，所述第一色阻、所述第二色阻、所述第三色阻和所述第四色阻同层设置，且所述第四色阻的光透过率大于其它色阻的光透过率。在其中一个实施例中，所述在形成所述黑矩阵的衬底基板上形成所述色阻层，包括：在所述衬底基板上涂布第一色阻材料，通过第一次构图工艺形成所述第一透光区域和所述第四透光区域中的所述第一色阻；在所述衬底基板上涂布第二色阻材料，通过第二次构图工艺形成所述第二透光区域和所述第五透光区域中的所述第二色阻；在所述衬底基板上涂布第三色阻材料，通过第三次构图工艺形成所述第三透光区域和所述第六透光区域中的所述第三色阻；在所述衬底基板上涂布第四色阻材料，通过第四次构图工艺形成所述第四透光区域、所述第五透光区域和所述第六透光区域中的所述第四色阻。在其中一个实施例中，所述第一色阻为红色色阻，所述第二色阻为绿色色阻，所述第三色阻为蓝色色阻，所述第四色阻为白色色阻；在所述第四透光区域、所述第五透光区域和所述第六透光区域中，所述红/绿/蓝色色阻的面积与所述白色色阻的面积的比值为1.5～2.3。基于同一专利技术构思，本专利技术实施例还提供了一种显示装置，所述显示装置包括上述任一实施例所述的彩膜基板。综上，本专利技术实施例提供了一种彩膜基板及其制作方法和显示装置。其中所述彩膜基板包括衬底基板、黑矩阵和色阻层。所述黑矩阵设置在所述衬底基板表面，并在所述衬底基板上限定出多个透光区域，其中第一透光区域、第二透光区域和第三透光区域分布在像素区的暗区，第四透光区域、第五透光区域和第六透光区域分布在像素区的亮区。所述色阻层包括第一色阻、第二色阻、第三色阻和第四色阻，其中，所述第一透光区域设置有所述第一色阻，所述第二透光区域设置有所述第二色阻，所述第三透光区域设置有所述第三色阻，所述第四透光区域设置有所述第一色阻和所述第四色阻，所述第五透光区域设置有所述第二色阻和所述第四色阻，所述第六透光区域设置有第三色阻和所述第四色阻，所述第一色阻、所述第二色阻、所述第三色阻和所述第四色阻同层设置，且所述第四色阻的光透过率大于其它色阻的光透过率。本专利技术中，通过在第四透光区域设置第一色阻和第四色阻，在第五透光区域第二色阻和第四色阻，在第六透光区域设置第三色阻和第四色阻，改变部分透光区域的色阻层的透光率，从而将像素透光区分为亮区和暗区，以改善液晶显示器中大视角色偏的问题。附图说明图1为本专利技术实施例提供的一种彩膜基板的剖面结构示意图；图2为本专利技术实施例提供的一种彩膜基板的俯视图；图3为本专利技术实施例提供的另一种彩膜基板的剖面结构示意图；图4为本专利技术实施例提供的一种彩膜基板的制作方法流程示意图；图5为本专利技术实施例提供的色阻层的具体制作方法流程示意图；图6为本专利技术实施例提供的另一种彩膜基板的制作方法流程示意图。具体实施方式为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本专利技术的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本专利技术。但是本专利技术能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本专利技术内涵的情况下做类似改进，因此本专利技术不受下面公开的具体实施的限制。针对大视角色偏问题，目前主流解决方案有多中，其中MVA(Multi-domainVerticalAlignment，多象限垂直配向)型显示面板主流是采用电压分压的方式，将每一像素透光区分为亮区和暗区，在光学上表现为两种V-T特性的混合，以抑制在大视角色偏问题，但是该方式则会导致伽马电压调整的复杂度。针对上述大视角色偏问题，本专利技术实施例提供了一种彩膜基板，请参见图1和图2，所述彩膜基板包括衬底基板100、黑矩阵200和色阻层300。所述黑矩阵200设置在所述衬底基板100表面，并在所述衬底基板100上限定出多个透光区域，其中第一透光区域、第二透光区域和第三透光区域分布在像素区的暗区，第四透光区域、第五透光区域和第六透光区域分布在像素区的亮区。所述色阻层300包括第一色阻310、第二色阻320、第三色阻330和第四色阻340，其中，所述第一透光区域设置有所述第一色阻310，所述第二透光区域设置有所述第二色阻320，所述第三透光区域设置有所述第三色阻330，所述第四透光区域设置有所述第一色阻310和所述第四色阻340，所述第五透光区域设置有所述第二色阻320和所述第四色阻3本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：衬底基板；黑矩阵，设置在所述衬底基板表面，并在所述衬底基板上限定出多个透光区域，其中第一透光区域、第二透光区域和第三透光区域分布在像素区的暗区，第四透光区域、第五透光区域和第六透光区域分布在所述像素区的亮区；色阻层，包括第一色阻、第二色阻、第三色阻和第四色阻，其中，所述第一透光区域设置有所述第一色阻，所述第二透光区域设置有所述第二色阻，所述第三透光区域设置有所述第三色阻，所述第四透光区域设置有所述第一色阻和所述第四色阻，所述第五透光区域设置有所述第二色阻和所述第四色阻，所述第六透光区域设置有所述第三色阻和所述第四色阻，所述第一色阻、所述第二色阻、所述第三色阻和所述第四色阻同层设置，且所述第四色阻的光透过率大于其它色阻的光透过率。

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：衬底基板；黑矩阵，设置在所述衬底基板表面，并在所述衬底基板上限定出多个透光区域，其中第一透光区域、第二透光区域和第三透光区域分布在像素区的暗区，第四透光区域、第五透光区域和第六透光区域分布在所述像素区的亮区；色阻层，包括第一色阻、第二色阻、第三色阻和第四色阻，其中，所述第一透光区域设置有所述第一色阻，所述第二透光区域设置有所述第二色阻，所述第三透光区域设置有所述第三色阻，所述第四透光区域设置有所述第一色阻和所述第四色阻，所述第五透光区域设置有所述第二色阻和所述第四色阻，所述第六透光区域设置有所述第三色阻和所述第四色阻，所述第一色阻、所述第二色阻、所述第三色阻和所述第四色阻同层设置，且所述第四色阻的光透过率大于其它色阻的光透过率。2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一色阻为红色色阻，所述第二色阻为绿色色阻，所述第三色阻为蓝色色阻，所述第四色阻为白色色阻；在所述第四透光区域、所述第五透光区域和所述第六透光区域中，所述红/绿/蓝色色阻的面积与所述白色色阻的面积的比值为1.5～2.3。3.如权利要求1或2所述的彩膜基板，其特征在于，所述色阻层的厚度为2～4μm。4.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，还包括平坦化层，所述平坦化层设置在所述色阻层背向所述衬底基板的一侧，且覆盖所述色阻层。5.如权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，还包括透明电极层，设置在所述平坦化层背向所述色阻层的一侧。6.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述暗区的面积与所述亮区的面积的比值为1.5～2.3。7.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括：在衬底基板上形成黑矩阵，所述黑矩阵在所述衬底基板上限定出多个透光区域，其中第一透光区域、第二透光区域...

【专利技术属性】
技术研发人员：曹军红，
申请(专利权)人：惠科股份有限公司，重庆惠科金渝光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44