工业纯钛TA1及TA2的金相试样机械抛光制样方法技术

本发明专利技术提供一种工业纯钛TA1及TA2的金相试样机械抛光制样方法，步骤为：步骤一，试样经线切割后，分别使用240#、800#、1000#二氧化硅砂纸研磨；步骤二，使用尼龙布对研磨后的试样进行抛光，抛光膏为纳米二氧化硅颗粒；步骤三，抛光后将试样置于腐蚀溶液中浸蚀；步骤四，重复步骤二至三3～5次，将试样抛光至镜面；步骤五，使用丝绒抛光布清洁试样表面，脱去水分；步骤六，将试样置于腐蚀溶液中浸蚀随即用清水冲洗并用无水乙醇脱水，在显微镜下观察金相组织。本发明专利技术的有益效果是：可以快速将试样抛光至镜面且不产生低应变孪晶及表面划痕，显著缩短抛光制样时间；试样金相组织显示清晰。

Mechanical Polishing Sampling Method for Metallographic Samples of Industrial Pure Titanium TA1 and TA2

【技术实现步骤摘要】
工业纯钛TA1及TA2的金相试样机械抛光制样方法
本专利技术属于金属材料金相分析试样制备
，特别涉及一种工业纯钛TA1及TA2的金相试样机械抛光制样方法。
技术介绍
工业纯钛具有较好的力学性能和耐腐蚀性能，是航空寒天、海洋、化工等工业中的一种常用材料。金相分析是研究金属材料显微结构、控制及改善材料物理力学性能的重要手段。由于工业纯钛TA1及TA2杂质含量较少，质地较软，因此在传统金相试样制备的研磨及机械抛光过程中极容易产生低应变孪晶、形变和划痕，影响显微组织的观察。目前，工业纯钛TA1及TA2常用的金相试样机械抛光制备方法有：采用氧化铝抛光液、氧化铬悬浊液、氧化镁悬浊液等进行机械抛光，抛光时间较长，金相制样制备效率低，且组织显示不清晰，同时在机械研磨抛光过程中极易产生变形孪晶，干扰显微组织观察。因此，急需开发一种工业纯钛TA1及TA2的金相试样高效机械抛光制样方法。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种工业纯钛TA1及TA2的金相试样机械抛光制样方法，该方法能够快速、高效地制备抛光效果优良、显微组织清晰的金相试样，有效解决了传统机械抛光方法制样周期较长且试样表面易出现孪晶及划伤等缺陷。为了解决上述技术问题，本专利技术采用的技术方案是：一种工业纯钛TA1及TA2的金相试样机械抛光制样方法，其特征是：该方法按以下步骤进行：步骤一，试样经线切割后放置抛光机上，依次使用240#、800#、1000#二氧化硅砂纸各研磨30秒；步骤二，使用斜纹尼龙布对步骤一研磨后的试样进行抛光，抛光膏为纳米二氧化硅颗粒，抛光机转速为1000～1500转/分；步骤三，根据步骤二抛光2～3分钟后将试样置于腐蚀溶液中浸蚀2～5秒；步骤四，重复步骤二至四3～5次，将试样抛光至镜面；步骤五，对步骤四的试样使用丝绒抛光布清洁试样表面，脱去水分；步骤六，结果：将试样置于腐蚀溶液中浸蚀2～5秒后随即用清水冲洗并用无水乙醇脱水，然后在显微镜下观察金相组织，试样表面无划痕且组织显示清晰。步骤一中所述试样待检验截面面积为100～200mm2。步骤一中所述抛光机研磨转速为500～700转/分。步骤二、四中所述腐蚀溶液由氢氟酸1ml、浓硝酸3ml和蒸馏水8ml配比混合而成。本专利技术的有益效果是：本专利技术所述的一种工业纯钛TA1及TA2的金相试样机械抛光制样方法，通过进行多次重复抛光+腐蚀溶液浸蚀，可以在10～15分钟内将试样抛光至镜面，且不产生低应变孪晶及表面划痕，显著缩短了纯钛金相试样的机械抛光制样时间，且组织显示清晰。附图说明图1是是实施例一中工业纯钛TA1的金相组织照片；图2是实施例二中工业纯钛TA2的金相组织照片。具体实施方式下面结合附图和具体实施方式对本专利技术作进一步详细说明：本专利技术的一种工业纯钛TA1及TA2的金相试样机械抛光制样方法，该方法包括以下步骤：步骤一，试样经线切割后观察面面积100-200mm2，分别使用240#、800#、1000#二氧化硅砂纸各研磨30秒，研磨转速为500～700转/分；步骤二，使用斜纹尼龙布对研磨后的试样进行抛光，转速为1000～1500转/分，抛光膏为纳米二氧化硅颗粒，抛光2～3分钟后将试样置于腐蚀溶液中浸蚀2～5秒，腐蚀溶液是由氢氟酸1ml、浓硝酸3ml和蒸馏水8ml混合而成，重复此抛光+浸蚀过程3～5次，将试样抛光至镜面；步骤三，使用丝绒抛光布清洁试样表面，脱去水分；步骤四，将试样置于腐蚀溶液中浸蚀2～5秒，腐蚀溶液是由氢氟酸1ml、浓硝酸3ml和蒸馏水8ml混合而成，随即用清水冲洗并用无水乙醇脱水，即可在显微镜下观察金相组织。实施例一本实例采用工业纯钛TA1，抛光制样步骤为：步骤一，使用240#、800#、1000#二氧化硅砂纸各研磨30秒，研磨转速为500转/分；步骤二，使用斜纹尼龙布对步骤一中研磨后的试样进行抛光，转速为1200转/分，抛光膏为纳米二氧化硅颗粒，抛光2分钟后将试样置于腐蚀溶液中浸蚀3秒，腐蚀溶液是由氢氟酸1ml、浓硝酸3ml和蒸馏水8ml混合而成，重复此抛光+浸蚀过程3次，将试样抛光至镜面；步骤三，使用丝绒抛光布清洁步骤二抛光后试样表面，脱去水分；步骤四，将步骤三中试样置于腐蚀溶液中浸蚀5秒，腐蚀溶液是由氢氟酸1ml、浓硝酸3ml和蒸馏水8ml混合而成，随即用清水冲洗并用无水乙醇脱水，即可在显微镜下观察金相组织。实施例二本实例采用工业纯钛TA2，抛光制样步骤为：步骤一，使用240#、800#、1000#二氧化硅砂纸各研磨30秒，研磨转速为500转/分；步骤二，使用斜纹尼龙布对步骤一中研磨后的试样进行抛光，转速为1300转/分，抛光膏为纳米二氧化硅颗粒，抛光3分钟后将试样置于腐蚀溶液中浸蚀3秒，腐蚀溶液是由氢氟酸1ml、浓硝酸3ml和蒸馏水8ml混合而成，重复此抛光+浸蚀过程4次，将试样抛光至镜面；步骤三，使用丝绒抛光布清洁步骤二抛光后试样表面，脱去水分；步骤四，将步骤三中试样置于腐蚀溶液中浸蚀5秒，腐蚀溶液是由氢氟酸1ml、浓硝酸3ml和蒸馏水8ml混合而成，随即用清水冲洗并用无水乙醇脱水，即可在显微镜下观察金相组织。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种工业纯钛TA1及TA2的金相试样机械抛光制样方法，其特征是：该方法按以下步骤进行：步骤一，试样经线切割后放置抛光机上，依次使用240#、800#、1000#二氧化硅砂纸各研磨30秒；步骤二，使用斜纹尼龙布对步骤一研磨后的试样进行抛光，抛光膏为纳米二氧化硅颗粒，抛光机转速为1000～1500转/分；步骤三，根据步骤二抛光2～3分钟后将试样置于腐蚀溶液中浸蚀2～5秒；步骤四，重复步骤二至四3～5次，将试样抛光至镜面；步骤五，对步骤四的试样使用丝绒抛光布清洁试样表面，脱去水分；步骤六，结果：将试样置于腐蚀溶液中浸蚀2～5秒后随即用清水冲洗并用无水乙醇脱水，然后在显微镜下观察金相组织，试样表面无划痕且组织显示清晰。

【技术特征摘要】
1.一种工业纯钛TA1及TA2的金相试样机械抛光制样方法，其特征是：该方法按以下步骤进行：步骤一，试样经线切割后放置抛光机上，依次使用240#、800#、1000#二氧化硅砂纸各研磨30秒；步骤二，使用斜纹尼龙布对步骤一研磨后的试样进行抛光，抛光膏为纳米二氧化硅颗粒，抛光机转速为1000～1500转/分；步骤三，根据步骤二抛光2～3分钟后将试样置于腐蚀溶液中浸蚀2～5秒；步骤四，重复步骤二至四3～5次，将试样抛光至镜面；步骤五，对步骤四的试样使用丝绒抛光布清洁试样表面，脱去水分；步骤六，结果：将试样置于腐蚀溶液中浸蚀2～5秒后随即用...

【专利技术属性】
技术研发人员：魏刚，黄进，陈燕，扈立，侯强，甄晓川，李志群，郑飞，
申请(专利权)人：天津钢管制造有限公司，
类型：发明
国别省市：天津,12